一种电致发光显示面板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种电致发光显示面板及其制作方法、显示装置，用以提升电致发光显示面板发光的均匀性。电致发光显示面板包括衬底基板、位于所述衬底基板上的像素限定层，所述像素限定层具有与所述电致发光显示面板的像素区域对应的开口区域，所述开口区域下方对应位置处设置有金属层，电致发光显示面板还包括位于所述像素限定层下方的图形化绝缘层，所述图形化绝缘层在所述衬底基板上的正投影区域与第一区域在所述衬底基板上的正投影区域至少部分重叠；其中：第一区域为金属层之间形成的空隙区域。

Electroluminescent display panel, manufacturing method thereof and display device

The invention discloses an electroluminescence display panel and a manufacturing method thereof and a display device, which are used for improving the uniformity of the electroluminescence display panel. Electroluminescent display panel includes a substrate, on the substrate on the pixel defining layer, the pixel defining layer is provided with a light emitting region opening corresponding pixel region of the panel display, the opening area below the corresponding position is provided with a metal layer, electroluminescent display panel also comprises the the pixel defining layer below the patterned insulating layer, the projection area of the patterned insulating layer on the substrate on the substrate is the projection area and the first area of the substrate on the substrate at least partially overlap; the first area is formed between the metal layers of the void region.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种电致发光显示面板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示技术具有自发光、广视角、高对比度、低功耗、高反应速度等优点被越来越多的应用到显示领域。OLED器件在具体制作过程中，通常采用溶液制程在像素限定层的开口区域制作OLED器件的发光膜层等膜层，溶液制程可以采用旋涂(Spin Coating)、狭缝涂布(Slot Die Coating)、喷嘴印刷(Nozzle Printing)、喷墨打印(Inkjet Printing)、喷涂(Spray Coating)等多种方式。OLED器件是电致发光器件，电致发光器件对采用溶液制程制作的膜层的厚度均匀性有较高的要求，顶发射结构的OLED器件采用溶液制程制作的膜层对OLED器件背板上形成的各膜层厚度依赖性较强。而OLED器件背板由于设计的原因，会存在成膜分布不均匀的区域，这样后续通过溶液制程制作膜层时，会导致制作的膜层不均匀，最终会导致OLED器件发光不均匀的问题。为了解决以上问题，现有技术通常采用的方法是，在溶液制程制作膜层前，在OLED器件背板上制作一层平坦层，但由于平坦层的特性限制，制作形成的平坦层的厚度一般在1微米(μm)到3μm之间，如果平坦层下面有金属层的段差，平坦层将无法达到平坦的效果，这时OLED器件仍然存在发光不均匀的问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种电致发光显示面板及其制作方法、显示装置，用以提升电致发光显示面板发光的均匀性。本专利技术实施例提供的一种电致发光显示面板，包括衬底基板、位于所述衬底基板上的像素限定层，所述像素限定层具有与所述电致发光显示面板的像素区域对应的开口区域，所述开口区域下方对应位置处设置有金属层，其中，还包括位于所述像素限定层下方的图形化绝缘层，所述图形化绝缘层在所述衬底基板上的正投影区域与第一区域在所述衬底基板上的正投影区域至少部分重叠；其中：所述第一区域为所述金属层之间形成的空隙区域。由本专利技术实施例提供的电致发光显示面板，由于该电致发光显示面板在像素限定层下方设置有图形化绝缘层，图形化绝缘层在衬底基板上的正投影区域与第一区域在衬底基板上的正投影区域至少部分重叠，第一区域为金属层之间形成的空隙区域，与现有技术相比，本专利技术实施例能够将电致发光显示面板的背板上制作的金属层做初步的平坦化，使得背板上金属层的段差值降低，降低了由于背板膜层不均匀导致后续溶液制程制作的膜层不均匀的问题，有效的提升了电致发光显示面板发光的均匀性。较佳地，所述图形化绝缘层的厚度与所述金属层的厚度相等。较佳地，所述图形化绝缘层为正性感光树脂，或为负性感光树脂。较佳地，所述电致发光显示面板为顶发射结构的有机电致发光显示面板。本专利技术实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述的电致发光显示面板。本专利技术实施例还提供了一种电致发光显示面板的制作方法，包括在衬底基板上制作有机平坦层，以及像素限定层的方法，所述像素限定层具有与所述电致发光显示面板的像素区域对应的开口区域，所述开口区域下方对应位置处制作有金属层，其中，在制作所述有机平坦层之前，还包括：在衬底基板上沉积一层绝缘膜层；对所述绝缘膜层进行构图工艺，形成图形化绝缘层，所述图形化绝缘层在所述衬底基板上的正投影区域与第一区域在所述衬底基板上的正投影区域至少部分重叠；其中：所述第一区域为所述金属层之间形成的空隙区域。较佳地，所述形成图形化绝缘层，具体包括：在衬底基板上沉积一层正性感光树脂；采用设置于所述正性感光树脂上方的掩膜板对所述正性感光树脂进行曝光、显影，形成图形化绝缘层。较佳地，所述形成图形化绝缘层，具体包括：在衬底基板上沉积一层负性感光树脂；对所述负性感光树脂进行光照，所述进行光照时的光线从所述衬底基板背向所述负性感光树脂的一侧射向所述衬底基板；对完成上述步骤的衬底基板进行显影，形成图形化绝缘层。较佳地，所述图形化绝缘层的厚度与所述金属层的厚度相等。较佳地，所述衬底基板为透明基板。附图说明图1为本专利技术实施例提供的一种电致发光显示面板的平面结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种电致发光显示面板的制作方法流程图；图3为本专利技术实施例一提供的制作电致发光显示面板的图形化绝缘层时的结构示意图；图4为本专利技术实施例二提供的制作电致发光显示面板的图形化绝缘层时的结构示意图。具体实施方式本专利技术实施例提供了一种电致发光显示面板及其制作方法、显示装置，用以提升电致发光显示面板发光的均匀性。为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。下面结合附图详细介绍本专利技术具体实施例提供的电致发光显示面板。附图中各膜层厚度和区域大小、形状不反应各膜层的真实比例，目的只是示意说明本
技术实现思路
。如图1所示，本专利技术具体实施例提供了一种电致发光显示面板，包括衬底基板10、位于衬底基板10上的像素限定层，像素限定层具有开口区域11，开口区域11也是蒸镀电致发光(Electro Luminescent，EL)材料的区域，即为像素发光区域；本专利技术具体实施例中的电致发光显示面板还包括位于像素限定层下方的图形化绝缘层12，图形化绝缘层12在衬底基板10上的正投影区域与第一区域在衬底基板10上的正投影区域至少部分重叠；其中：第一区域为开口区域11对应位置处的金属层13之间形成的空隙区域。具体地，本专利技术具体实施例开口区域11对应位置处的金属层包括栅极层131、存储电容电极层132和源漏极层133。在实际生产过程中，可以根据不同的工艺条件以及对生产得到的产品性能的具体要求设置图形化绝缘层12的厚度。优选地，本专利技术具体实施例中图形化绝缘层12的厚度与金属层13的厚度相等，具体地，当本专利技术具体实施例中的部分金属层13是多层结构，另一部分金属层13是单层结构时，这里的金属层13的厚度指单层结构的金属层13的厚度；当然，在实际生产过程中，本专利技术具体实施例中的金属层13的厚度还可以指所占面积相对较大的金属层13的厚度。如：金属层13的厚度为0.7μm，图形化绝缘层12的厚度也为0.7μm，这样，图形化绝缘层能够进一步对衬底基板实现平坦作用。优选地，本专利技术具体实施例中的图形化绝缘层为正性感光树脂，或为负性感光树脂，这样，在材料选择上更加方便、简单，且在采用构图工艺制作形成该图形化绝缘层时，不需要进行刻蚀工艺，能够节省生产时间，降低生产成本。当然，在实际生产过程中，本专利技术具体实施例的图形化绝缘层还可以选择氧化硅(SiO2)或氮化硅(SiN)等材料，本专利技术具体实施例并不对图形化绝缘层的具体材料做限定。优选地，本专利技术具体实施例中的电致发光显示面板为顶发射结构的有机电致发光显示面板，顶发射结构的有机电致发光显示面板的开口率较高。本专利技术具体实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括本专利技术具体实施例提供的上述电致发光显示面板，该显示装置可以为液晶面板、液晶显示器、液晶电视、有机发光二极管(Organic Light Emitting 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电致发光显示面板，包括衬底基板、位于所述衬底基板上的像素限定层，所述像素限定层具有与所述电致发光显示面板的像素区域对应的开口区域，所述开口区域下方对应位置处设置有金属层，其特征在于，还包括位于所述像素限定层下方的图形化绝缘层，所述图形化绝缘层在所述衬底基板上的正投影区域与第一区域在所述衬底基板上的正投影区域至少部分重叠；其中：所述第一区域为所述金属层之间形成的空隙区域。

【技术特征摘要】
1.一种电致发光显示面板，包括衬底基板、位于所述衬底基板上的像素限定层，所述像素限定层具有与所述电致发光显示面板的像素区域对应的开口区域，所述开口区域下方对应位置处设置有金属层，其特征在于，还包括位于所述像素限定层下方的图形化绝缘层，所述图形化绝缘层在所述衬底基板上的正投影区域与第一区域在所述衬底基板上的正投影区域至少部分重叠；其中：所述第一区域为所述金属层之间形成的空隙区域。2.根据权利要求1所述的电致发光显示面板，其特征在于，所述图形化绝缘层的厚度与所述金属层的厚度相等。3.根据权利要求1所述的电致发光显示面板，其特征在于，所述图形化绝缘层为正性感光树脂，或为负性感光树脂。4.根据权利要求1所述的电致发光显示面板，其特征在于，所述电致发光显示面板为顶发射结构的有机电致发光显示面板。5.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-4任一权利要求所述的电致发光显示面板。6.一种电致发光显示面板的制作方法，包括在衬底基板上制作有机平坦层，以及像素限定层的方法，所述像素限定层具有与所述电致发光显示面板的像素区域对应的开口区...

【专利技术属性】
技术研发人员：盖翠丽，井口真介，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11