制造硅的反应器和方法技术

本发明专利技术涉及用于分离含硅气体（２）的反应器（１），为了降低成本，使用了至少一种可电加热的硅的沉积元件（１５），该元件具有用以改进其电导率的至少包含一种杂质的掺杂，掺杂具有这样的初始浓度，即使得在最终状态其上沉积有硅的沉积元件（１５）适合用来制造用于生产用于光电装置的多晶硅块或晶体硅的硅熔融物。本发明专利技术还涉及用本发明专利技术的反应器（１）生产硅的方法以及生产出的硅在光电装置中的用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
用于分离含硅气体（２）的反应器（１；１ａ），包括ａ．反应容器（３；３ａ），其内容纳有用于接受气体（２）的反应室（４；４ａ），并且其具有至少一根供气管（１０；１０ａ），ｂ．至少一个可加热的沉积元件（１５；１５ａ），其安装在用于 硅沉积的反应室（４；４ａ）内，至少一个沉积元件（１５；１５ａ）ｉ．主要含硅，并且ｉｉ．具有至少一种杂质的掺杂以改进电导率，掺杂在初始状态下具有这样的的浓度，即沉积元件（１５；１５ａ）在其上沉积了硅的最终状态下适合用于制造硅熔 融物，所述硅熔融物用于生产用于光电装置的多晶硅块或单晶硅，并且ｃ．电加热装置（１８；１８ａ）以使用通过其的电流加热至少一个沉积元件（１５；１５ａ）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：A米勒，T西尔，R松嫩沙因，P阿德勒，
申请(专利权)人：联合太阳能硅有限及两合公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]