一种银纳米颗粒阵列模板及其制备方法技术

一种银纳米颗粒阵列模板，利用自组装法制备，银纳米颗粒的平均大小为１０～５００ｎｍ、密度１０↑［８］～１０↑［１２］／ｃｍ↑［２］；一种上述银纳米颗粒阵列模板的制备方法，其工艺步骤如下：１）利用真空沉积薄膜设备，在基板上沉积一层均匀的银薄膜；２）通过热退火处理使沉积的银薄膜形成离散的纳米颗粒，即可制得随机排布的银纳米颗粒阵列模板。本发明专利技术的优点是：银模板采用自组装法制备，纳米颗粒的平均大小为１０～５００ｎｍ、密度１０↑［８］～１０↑［１２］／ｃｍ↑［２］，而且颗粒的大小和密度可由银薄膜厚度控制；制备方法简单、易于操作、成本低；银模板具有高密度、随机排布的特点，有助于磁记录介质、平面场发射器等器件产品的设计制作。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种银纳米颗粒阵列模板，利用自组装法制备，其特征在于：银纳米颗粒的平均大小为１０～５００ｎｍ、密度１０↑［８］～１０↑［１２］／ｃｍ↑［２］，且颗粒的大小和密度可由银薄膜厚度控制。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王森，
申请(专利权)人：国家纳米技术与工程研究院，
类型：发明
国别省市：12[中国|天津]