双面膜曝光对位结构制造技术

本实用新型专利技术涉及柔性电子产品应用技术领域，尤其是双面膜曝光对位结构，具有一曝光工位，该曝光工位可实现上下面曝光；在曝光工位上设有基座平台单元、可以对位移动单元、装载下铬版单元、可以对位和上下移动单元、上下铬版间距检测的激光探头和基于图像原理的摄像机。基于图像原理对位，视觉效果佳，可快速、准确的实现上铬版与基材的靶标检测对准；且设有上下铬版间距检测的激光探头，通过激光检测上铬版重复到位的距离，从而保证基材在上下铬版间距一致性，在平行UV光均匀照射下，对铬版下的干膜进行曝光，显影后的基材才能精确的电子图案，从而避免或减少图形曝光不均匀，提升工作效率及工作质量。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及将薄膜覆于ITO Film和金属软膜表面，通过曝光、显影和蚀刻制作软膜电路，广泛应用触摸屏Senser、精密FPC和软性电池等柔性电子产品应用
，尤其是双面柔性电子线路曝光对位结构。
技术介绍
近年来，随着材料等基础产业的技术进步，使电路的设计和生产技术获得了较大发展，各种新的设计理念得到了广泛的应用和推广，电子产品的市场趋势皆走向追求轻薄化，使用电路的基材由传统的玻璃、硅晶圆转向薄化玻璃、金属箔与塑胶基板等软性材料取代，亦即现在泛称的软性电子(或可挠式电子)。工艺设备由于应软性材料的不同，需要导入卷对卷 ( RTR ) 的传输设备，制作电子线路具有配线密度高、重量轻、厚度薄的特点。在双面电路板在生产时，需要采用覆膜机将干膜贴合在导电基材表面，然后经紫外光对MASK照射曝光后，见光的干膜分解，在碱性显液中溶解，导电基材表面留下与MASK一样的图案，然后用蚀刻液喷淋导电基材，没有干膜保护的导电层被蚀刻，再除去基材上的残留干膜，使导电电路裸露出来，这是制作电路过程。干膜曝光技术中，曝光定位极大影响曝光质量，尤其是双面电子线路的曝光，现有的曝光定位主要是采用单面曝光和两次定位进行制作，在实际操作中由于软膜基材具有伸缩性，存在两次定位不准的问题；再者，现有曝光设备，曝光对位的单片式工作，无法进行卷对卷工作模式，生产效率低，难免出现图形曝光不均匀。造成两面电子线路的工作时抗干扰能力差，工作效率低，不良率高。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种双面膜曝光对位结构，基于图像原理对位，定位快捷、准确，且曝光合模的行程可根据基材上下面覆膜距离调整，精度高，提升工作效率及工作质量。为达到上述目的，本技术采用如下技术方案：双面膜曝光对位结构，该结构具有一曝光工位，该曝光工位可实现上下面曝光；在曝光工位上设有基座平台单元、可以对位移动单元、装载下铬版单元、可以对位和上下移动单元、上下铬版间距检测的激光探头和基于图像原理的摄像机，其中：所述基座平台单元设置四个第一XY平台，分布在基座平台单元的四个角落，其中三个第一XY平台由第一电机驱动，以便与基材靶标对位；所述可以对位移动单元铺设在四个第一XY平台上面，可以对位移动单元上设置四个第二XY平台，四个第二XY平台分布在可以对位移动单元的四个角落，其中三个第二XY平台由第二电机驱动，以便与上面铬版的靶标对位；所述可以对位移动单元四个角落还铺设四根升降丝杆，升降丝杆与第三电机连接，其中前面两根升降丝杆中间铺设四排滚珠轴承；所述装载下铬版单元铺设在四个第二XY平台上面，装载下铬版单元上铺设装载下铬版抽格，装载下铬版抽格上面安装下铬版，在下铬版单元的后面设置有两个限位；所述可以对位和上下移动单元悬挂在四根升降丝杆的中间，跟随第三电机上下移动，可以对位和上下移动单元下面设置装载上铬版抽格，装载上铬版抽格下面安装上铬版；可以对位和上下移动单元上面的前后边上设置四个激光探头，激光探头由气缸驱动；可以对位和上下移动单元上面左右侧边上设置四个摄像机，摄像机由第四电机控制伸出长度，抓取基材的靶标和上铬版的靶标进行比较对位。摄像机获取组装到曝光工位的上铬版和基材的靶标图像后传送到电脑上，对位系统根据上铬版和基材的靶标图像位置，驱动对位移动单元的三个电机，使上铬版和基材的靶标重新对准；激光探头检测两块铬版上下之间的距离。本技术基于图像原理对位，视觉效果佳，可快速、准确的实现上铬版与基材的靶标检测对准；且设有上下铬版间距检测的激光探头，通过激光检测上铬版重复到位的距离，从而保证基材在上下铬版间距一致性，在平行UV光均匀照射下，对铬版下的干膜进行曝光，显影后的基材才能精确的电子图案，从而避免或减少图形曝光不均匀，提升工作效率及工作质量。附图说明：附图1为本技术较佳实施例结构示意图；附图2为图1实施例立体示意图。具体实施方式：以下将结合附图对本技术的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明，以充分地了解本技术的目的、特征和效果。参阅图1所示，系本技术的较佳实施例示意图，本技术有关一种双面膜曝光对位结构，该结构具有一曝光工位100，该曝光工位100可实现上下面曝光，为此还配有相应机械结构，满足铬版安装及对位移动调整等。图1、2所示，在曝光工位100上设有基座平台单元1、可以对位移动单元2、装载下铬版单元3、可以对位和上下移动单元4、上下铬版间距检测的激光探头5和基于图像原理的摄像机6。所述基座平台单元1设置四个第一XY平台11，分布在基座平台单元1的四个角落，其中三个第一XY平台11由第一电机12驱动，以便与基材靶标对位。所述可以对位移动单元2铺设在四个第一XY平台11上面，可以对位移动单元2上设置四个第二XY平台21，四个第二XY平台21分布在可以对位移动单元2的四个角落，其中三个第二XY平台21由第二电机22驱动，以便与上面铬版的靶标对位。所述可以对位移动单元2四个角落还铺设四根升降丝杆23，升降丝杆23与第三电机44连接，其中前面两根升降丝杆23中间铺设四排滚珠轴承41。所述装载下铬版单元3铺设在四个第二XY平台21上面，装载下铬版单元3上铺设装载下铬版抽格32，装载下铬版抽格32上面安装下铬版33，在下铬版单元3的后面设置有两个限位31。所述可以对位和上下移动单元4悬挂在四根升降丝杆23的中间，跟随第三电机44上下移动，可以对位和上下移动单元4下面设置装载上铬版抽格42，装载上铬版抽格42下面安装上铬版43；可以对位和上下移动单元4上面的前后边上设置四个激光探头5，激光探头5由气缸51驱动，对上下铬版间距检测。可以对位和上下移动单元4上面左右侧边上设置四个摄像机6，摄像机6由第四电机61控制伸出长度，抓取基材的靶标和上铬版的靶标进行比较对位。本实例中，双面膜曝光对位上下铬版对位、上铬版上升后复位和上铬版与基材的对位三个步骤进行调机对位，生产时重复后面二个步骤，进行卷对卷对位曝光作业。本实例中，双面膜曝光对位分上下铬版对位过程：拉出装载下铬版抽格32，在装载下铬版抽格32上面安装下铬版33，然后推进装载下铬版抽格32到后面两个限位31固定；再拉出装载上铬版抽格42，在装载上铬版抽格42 下面安装上铬版43，然后推进装载上铬版抽格32，用四个限位45固定；第四电机61驱动摄像机6进入上铬版43上面，对准上铬版43和下铬版33的靶标，以上铬版43的靶标为基准，驱动三个第二电机22进行X、Y和转角对位，直到上下铬版的靶标重合在一起。本实例中，双面膜曝光对上铬版上升后复位过程：双面曝光后，可以对位和上下移动单元4由四个第三电机44带动上升，由传动机构更换另一帧基材，可以对位和上下移动单元4由四个第三电机44带动下降，激光探头5进行上下铬版间距检测，在达上下铬版设定间距时第三电机44停止驱动，从而使上下铬版的间距保持一致性。本实例中，上铬版与基材的对位过程：当可以对位和上下移动单元4下降到位后，第四电机61驱动摄像机6进入上铬版43上面，对准上铬版43和基材的靶标，以基材的靶标为基准，驱动三个第一电机12进行X、Y和转角对位，直到上铬版和基材的靶标重合在一起，实现多层电子线路图案的套合制作。以上结合实施方式对本技术做了详细本文档来自技高网...

【技术保护点】
双面膜曝光对位结构，该结构具有一曝光工位（100），该曝光工位（100）可实现上下面曝光；在曝光工位（100）上设有基座平台单元（1）、可以对位移动单元（2）、装载下铬版单元（3）、可以对位和上下移动单元（4）、上下铬版间距检测的激光探头（5）和基于图像原理的摄像机（6），其特征在于：所述基座平台单元（1）设置四个第一XY平台（11），分布在基座平台单元（1）的四个角落，其中三个第一XY平台（11）由第一电机（12）驱动，以便与基材靶标对位；所述可以对位移动单元（2）铺设在四个第一XY平台（11）上面，可以对位移动单元（2）上设置四个第二XY平台（21），四个第二XY平台（21）分布在可以对位移动单元（2）的四个角落，其中三个第二XY平台（21）由第二电机（22）驱动，以便与上面铬版的靶标对位；所述可以对位移动单元（2）四个角落还铺设四根升降丝杆（23），升降丝杆（23）与第三电机（44）连接，其中前面两根升降丝杆（23）中间铺设四排滚珠轴承（41）；所述装载下铬版单元（3）铺设在四个第二XY平台（21）上面，装载下铬版单元（3）上铺设装载下铬版抽格（32），装载下铬版抽格（32）上面安装下铬版（33），在下铬版单元（3）的后面设置有两个限位（31）；所述可以对位和上下移动单元（4）悬挂在四根升降丝杆（23）的中间，跟随第三电机（44）上下移动，可以对位和上下移动单元（4）下面设置装载上铬版抽格（42），装载上铬版抽格（42）下面安装上铬版（43）；可以对位和上下移动单元（4）上面的前后边上设置四个激光探头（5），激光探头（5）由气缸（51）驱动；可以对位和上下移动单元（4）上面左右侧边上设置四个摄像机（6），摄像机（6）由第四电机（61）控制伸出长度，抓取基材的靶标和上铬版的靶标进行比较对位。...

【技术特征摘要】
1.双面膜曝光对位结构，该结构具有一曝光工位（100），该曝光工位（100）可实现上下面曝光；在曝光工位（100）上设有基座平台单元（1）、可以对位移动单元（2）、装载下铬版单元（3）、可以对位和上下移动单元（4）、上下铬版间距检测的激光探头（5）和基于图像原理的摄像机（6），其特征在于：所述基座平台单元（1）设置四个第一XY平台（11），分布在基座平台单元（1）的四个角落，其中三个第一XY平台（11）由第一电机（12）驱动，以便与基材靶标对位；所述可以对位移动单元（2）铺设在四个第一XY平台（11）上面，可以对位移动单元（2）上设置四个第二XY平台（21），四个第二XY平台（21）分布在可以对位移动单元（2）的四个角落，其中三个第二XY平台（21）由第二电机（22）驱动，以便与上面铬版的靶标对位；所述可以对位移动单元（2）四个角落还铺设四根升降丝杆（...

【专利技术属性】
技术研发人员：余燕青，陈泽强，
申请(专利权)人：东莞市友辉光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44