载台定位系统及光刻设备技术方案

本发明专利技术披露一种载台定位系统(200)，包括：第一本体(20)；第二本体(22)；及联接件(24)，所述联接件(24)被布置成用以将该第一本体与该第二本体彼此联接。所述联接件包括被布置用以将所述第一本体与所述第二本体彼此联接的粘弹性元件(26)。所述载台定位系统还可包括传感器和致动器。所述传感器用以提供表示所述第一本体的位置的信号。所述致动器用以移动所述第一本体。所述第二本体被布置用以将所述致动器与所述联接件彼此联接。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关申请的交叉引用本申请主张2014年1月31日提交的欧洲申请14153404.0和2014年3月24日提交的欧洲申请14161344.8的权益，其通过援引而全文合并到本专利技术中。
本专利技术涉及载台定位系统和包括载台定位系统的光刻设备。
技术介绍
光刻设备是一种可以用在集成电路(IC)的制造中的设备。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成于所述IC的单层上待形成的电路图案。该图案可以由辐射束经由投影系统转移到衬底(诸如硅晶片)上的目标部分上。图案的转移通常是经由成像至设于衬底上的辐射敏感材料的层上而执行。所述光刻设备通常具有载台定位系统以相对于所述投影系统来移动衬底或图案形成装置。所述图案形成装置相对于所述投影系统移动并且通过辐射束来被扫描以将完整图案转移至所述衬底上。所述衬底相对于所述投影系统移动以随后将图案转移至衬底上的相邻目标部分上。
技术实现思路
为了增加光刻设备的生产率，倾向于改进所述载台定位系统以便实现更高速度和更高加速度。然而，更高速度和更高加速度需要可在更高带宽下操作的控制器。这种控制器的带宽受到所述载台定位系统的主自然频率的限制。增加所述带本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种载台定位系统(200)，所述载台定位系统包括：第一本体(20)；第二本体(22)；联接件(24)，所述联接件布置成用以将所述第一本体(20)与所述第二本体(22)彼此联接；其中所述联接件(24)包括被布置成用以将所述第一本体(20)与所述第二本体(22)彼此联接的粘弹性元件(26)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.01.31 EP 14153404.0;2014.03.24 EP 14161344.81.一种载台定位系统(200)，所述载台定位系统包括：第一本体(20)；第二本体(22)；联接件(24)，所述联接件布置成用以将所述第一本体(20)与所述第二本体(22)彼此联接；其中所述联接件(24)包括被布置成用以将所述第一本体(20)与所述第二本体(22)彼此联接的粘弹性元件(26)。2.根据条目1所述的载台定位系统(200)，所述载台定位系统包括：传感器(64)，用以提供表示所述第一本体(20)的位置的信号，致动器，用以移动所述第一本体(20)，其中，所述第二本体(22)被布置成用以将所述致动器与所述联接件(24)彼此联接。3.根据条目2所述的载台定位系统(200)，其中所述第二本体(22)包括所述致动器。4.根据条目2或3所述的载台定位系统(200)，其中所述致动器包括磁阻致动器。5.根据条目2-4中任一项所述的载台定位系统(200)，所述载台定位系统包括长行程模块(66)，其中所述长行程模块(66)被布置成用以移动所述致动器，且其中所述致动器被布置成用以相对于所述长行程模块(66)来移动所述第一本体(20)。6.根据条目1-5中任一项所述的载台定位系统(200)，其中所述联接件(24)包括弹性元件(28)，其中所述弹性元件(28)被布置成用以与所述粘弹性元件(26)并行地将所述第一本体(20)和所述第二本体(22)彼此联接。7.根据条目1-6中任一项所述的载台定位系统(200)，其中所述粘弹性元件(26)具有频率依赖刚度(300)，所述频率依赖刚度(300)以玻璃转变区(320)为特征，所述第一本体(20)形成了以主自然频率(fn)为特征的动态系统，其中所述主自然频率(fn)在所述载台定位系统(200)的操作温度处于所述玻璃转变区(32...

【专利技术属性】
技术研发人员：W·H·T·M·安格内恩特，L·F·库尔涅夫，T·A·M·汝伊尔，S·C·J·M·范德伯格，S·H·范德穆伦，J·范埃尔克，P·H·G·乌勒姆斯，R·H·A·范利绍特，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL