电光装置、电光装置的制造方法及电子设备制造方法及图纸

技术编号:13942730 阅读:153 留言:0更新日期:2016-10-29 20:17
本发明专利技术提供能够高效填埋镜支撑部的凹部并抑制镜的表面形成大的凹陷的电光装置、电光装置的制造方法及电子设备。在电光装置(100)中,镜由镜用导电层(56)和镜用反射层(57)的层叠体构成。镜用导电层(56)具备将凹部(520)朝向基板(1)的相反侧的镜支撑部(52)和从镜支撑部(52)的端部(521)延伸并与基板(1)相对的平板部(53),在凹部(520)内填充有树脂(41)。平板部(53)和树脂(41)的表面构成连续的平面,镜用反射层(57)层叠于树脂(41)的与基板(1)相反一侧的面(411)和镜用导电层(56)的平板部(53)的与基板(1)相反一侧的面(531)。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具备镜的电光装置、电光装置的制造方法及电子设备
技术介绍
作为电子设备,例如已知有如下投射型显示装置等:其将从光源射出的光通过被称为DMD(数字微镜器件)的电光装置的多个镜(微镜)调制后,再通过投射光学系统将调制光放大投射,从而在屏幕上显示图像。在该电子设备所使用的电光装置中,镜经由镜支撑部(镜柱)而被支撑在扭矩铰链(扭转铰链)上,并且与扭矩铰链电连接。另外,扭矩铰链经由铰链支撑部被支撑在形成于基板的基板侧偏压电极上,并与基板侧偏压电极电连接。因此,当从基板侧偏压电极向镜施加偏压,另一方面,向地址电极施加驱动电压时,可以通过镜与地址电极之间产生的静电力来驱动镜。这里,如果镜支撑部将凹部朝向基板的相反侧,那么镜的表面将会形成有大的凹陷,镜的表面(反射面)上的反射率会下降。于是,提出了在镜柱和牺牲层等的表面沉积无机材料后进行研磨,然后形成用于镜的形成的反射膜(参见专利文献1、2)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特表2007-510174号公报专利文献2:日本特开2005-115370号公报然而,为了沉积无机材料以填埋凹部,需要沉积相当厚的无机材料,同时,在无机材料的情况下研磨速度慢,因此,存在需要花费长的处理时间来将无机材料从牺牲层等的表面研磨除去的问题。
技术实现思路
鉴于上述问题,本专利技术的课题在于,提供能够高效填埋镜支撑部(镜柱)的凹部并抑制镜的表面形成大的凹陷的电光装置、电光装置的制造方法及电子设备。为解决上述课题,根据本专利技术的电光装置的一方面,其特征在于,具有:基板;金属层,包括第一支撑部(铰链柱)和扭转铰链(ねじれヒンジ)(扭矩铰链(トーションヒンジ)),所述第一支撑部(铰链柱)在所述基板的一面侧朝所述基板突出并支撑于所述基板;镜用导电层,具备第二支撑部(镜支撑部)和平板部,所述第二支撑部(镜支撑部)将凹部朝向所述基板的相反侧,并从所述扭转铰链朝所述基板的相反侧突出,所述平板部从所述第二支撑部的位于所述基板的相反侧的端部延伸并与所述基板相对;树脂,填充于所述凹部的内侧;以及镜用反射层,层叠于所述树脂的与所述基板相反一侧的面及所述平板部的与所述基板相反一侧的面,并与所述镜用导电层一起构成镜。在本专利技术中,第二支撑部将凹部朝向基板的相反侧,但由于凹部被树脂填埋,因此,镜的表面难以出现大的凹陷。因而,能够提高光的利用效率,并能抑制镜的散射所导致的对比度下降。另外,在用树脂填埋凹部的情况下,由于能够重点填埋凹部,因此,能够省略平坦化工序。另外,即使在不能省略平坦化工序的情况下也同样,形成于凹部周围的牺牲层的表面上所形成的树脂薄,并且如果是树脂的话,研磨速度快。因而,能够高效填埋第二支撑部的凹部,并能抑制镜的表面形成大的凹陷。在本专利技术中,优选地,所述树脂的与所述基板相反一侧的面距离所述扭转铰链的高度和所述平板部的与所述基板相反一侧的面距离所述扭转铰链的高度之差为0.2μm以下。如果是这种程度的差,则光的利用效率不会明显降低,起因于镜的散射的对比度下降不明显。在本专利技术中,优选地,所述树脂的与所述基板相反一侧的面和所述平板部的与所述基板相反一侧的面构成连续的平面。在本专利技术中,优选地,所述镜用导电层厚于所述镜用反射层。根据该构成,能够切实地向镜施加适当的电位。在这种情况下,同样,优选地,所述镜用导电层和所述镜用反射层的厚度之和为0.2μm至0.5μm。在本专利技术中,优选地,所述树脂具有导电性。根据该构成,能够切实地向镜施加适当的电位。在本专利技术中,优选地,所述树脂由感光性树脂构成。根据该构成,能够将树脂选择性地残留于任意位置。在根据本专利技术的电光装置的制造方法中,其特征在于,具有:第一牺牲层形成工序,在基板的一面侧形成设有第一开口部(铰链柱用开口部)的第一牺牲层;第一导电膜形成工序,在所述第一牺牲层的与所述基板相反的一侧及所述第一开口部的内侧形成第一导电膜;第一图案化工序,对所述第一导电膜进行图案化,形成具备第一支撑部(铰链柱)的扭转铰链(扭矩铰链),所述第一支撑部(铰链柱)由形成于所述第一开口部的内侧的所述第一导电膜构成;第二牺牲层形成工序,在所述扭转铰链的与所述基板相反的一侧形成设有第二开口部(镜支撑部用开口部)的第二牺牲层;第二导电膜形成工序,在所述第二牺牲层的与所述基板相反的一侧及所述第二开口部的内侧形成第二导电膜;填充工序,在通过所述第二开口部形成于所述第二导电膜的凹部内填充树脂;反射性金属膜形成工序,在所述第二导电膜的与所述基板相反一侧的面及所述树脂的与所述基板相反一侧的面形成反射性金属膜;以及第二图案化工序,对所述第二导电膜和所述反射性金属膜进行图案化,形成镜。在根据本专利技术的电光装置的制造方法中,优选地,在所述填充工序与所述反射性金属膜形成工序之间,还具有对所述第二导电膜的与所述基板相反一侧的面及所述树脂的与所述基板相反一侧的面进行平坦化的平坦化工序。在本专利技术中,优选地,在所述填充工序中,将液状的树脂材料涂布于所述凹部之后,使所述树脂材料固化。应用了本专利技术的电光装置能够用于各种电子设备,在这种情况下,电子设备中设有向所述镜照射光源光的光源部。另外,当构成投射型显示装置、头戴式显示装置作为电子设备时,电子设备中还设有投射经所述镜调制后的光的投射光学系统。附图说明图1是示出作为应用了本专利技术的电子设备的投射型显示装置的光学系统的示意图。图2的(a)和(b)是示意性示出应用了本专利技术的电光装置的基本构成的说明图。图3的(a)和(b)是示意性示出应用了本专利技术的电光装置的主要部分的A-A’截面的说明图。图4是示出应用了本专利技术的电光装置的详细构成的截面图。图5的(a)~(f)是示出应用了本专利技术的电光装置的制造方法的工序截面图。图6的(a)~(c)是示出应用了本专利技术的电光装置的制造方法的工序截面图。图7的(a)~(d)是示出应用了本专利技术的电光装置的制造方法的工序截面图。图8的(a)~(f)是在应用了本专利技术的电光装置的制造工序中形成的层的平面图。图9的(a)~(e)是在应用了本专利技术的电光装置的制造工序中形成的层的平面图。附图标记说明1 基板 10 晶片(基板)11 基板侧偏压电极 12、13 基板侧地址电极14 地址电路 30 第一导电膜35 扭转铰链(扭矩铰链) 39 第一支撑部(铰链柱)41 树脂 51 镜57 镜支撑部(第二支撑部) 53 平板部56 镜用导电层 57 镜用反射层100 电光装置 211 第一牺牲层211a 第一支撑部用开口部(铰链柱用开口部)211b 电极柱用开口部 221 第二牺牲层221a 镜支撑部(第二支撑部)用开口部411 树脂的与基板相反一侧的面 520 凹部521 镜支撑部(第二支本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电光装置,其特征在于,具有:基板;金属层,包括第一支撑部和扭转铰链,所述第一支撑部在所述基板的一面侧朝所述基板突出并支撑于所述基板;镜用导电层,具备第二支撑部和平板部,所述第二支撑部将凹部朝向所述基板的相反侧,并从所述扭转铰链朝所述基板的相反侧突出,所述平板部从所述第二支撑部的位于所述基板的相反侧的端部延伸并与所述基板相对;树脂,填充于所述凹部的内侧;以及镜用反射层,层叠于所述树脂的与所述基板相反一侧的面及所述平板部的与所述基板相反一侧的面,并与所述镜用导电层一起构成镜。

【技术特征摘要】
2015.04.01 JP 2015-0748711.一种电光装置,其特征在于,具有:基板;金属层,包括第一支撑部和扭转铰链,所述第一支撑部在所述基板的一面侧朝所述基板突出并支撑于所述基板;镜用导电层,具备第二支撑部和平板部,所述第二支撑部将凹部朝向所述基板的相反侧,并从所述扭转铰链朝所述基板的相反侧突出,所述平板部从所述第二支撑部的位于所述基板的相反侧的端部延伸并与所述基板相对;树脂,填充于所述凹部的内侧;以及镜用反射层,层叠于所述树脂的与所述基板相反一侧的面及所述平板部的与所述基板相反一侧的面,并与所述镜用导电层一起构成镜。2.根据权利要求1所述的电光装置,其特征在于,所述树脂的与所述基板相反一侧的面距离所述扭转铰链的高度和所述平板部的与所述基板相反一侧的面距离所述扭转铰链的高度之差为0.2μm以下。3.根据权利要求1或2所述的电光装置,其特征在于,所述树脂的与所述基板相反一侧的面和所述平板部的与所述基板相反一侧的面构成连续的平面。4.根据权利要求1至3中任一项所述的电光装置,其特征在于,所述镜用导电层厚于所述镜用反射层。5.根据权利要求1至4中任一项所述的电光装置,其特征在于,所述镜用导电层和所述镜用反射层的厚度之和为0.2μm至0.5μm。6.根据权利要求1至5中任一项所述的电光装置,其特征在于,所述树脂具有导电性。7.根据权利要求1至6中任一项所述的电光装置,其特征在于,所述树脂由感...

【专利技术属性】
技术研发人员:伊藤智
申请(专利权)人:精工爱普生株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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