一种等离子高效刻蚀机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种等离子高效刻蚀机，包括反应腔体和分子泵，反应腔体的顶端固定设有多个高压气体喷嘴，在反应腔体的底部设有分子泵，在反应腔体的内部设有静电吸附盘、吸附件以及多个气流调节装置，静电吸附盘两端通过吸附件活动安装在反应腔体的内壁，在静电吸附盘的上下端均设置有多个气流调节装置，本实用新型专利技术结构原理简单，采用多个气流调节装置，能够快速调节反应腔内的气流，确保刻蚀的均匀性，同时采用的高压气体喷嘴，能够均匀喷出高压气体，进一步提高刻蚀的均匀性，提高产品合格率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光伏刻蚀
，具体为一种等离子高效刻蚀机。
技术介绍
等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是将暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。中国专利号“201310597934.3”公开了一种等离子体刻蚀设备，其优点在于：通过在现有的悬臂上增加一定数量的通孔，增加了气体的均匀性，从而改善了局部气流速度偏慢的现状，进而避免了晶圆表面的刻蚀速率的不均匀性，并最终提高了产品的良率；其不足之处在于：仅仅增加一定数量的通孔，在提高气体均匀性上效果不明显，而且从喷嘴中喷入反应腔体内的气体流速不均匀，导致产品良率低。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种等离子高效刻蚀机，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种等离子高效刻蚀机, 包括反应腔体和分子泵，所述反应腔体的顶端固定设有多个高压气体喷嘴，在所述反应腔体的底部设有分子泵，在所述反应腔体的内部设有静电吸附盘、吸附件以及多个气流调节装置，所述静电吸附盘两端通过吸附件活动安装在反应腔体的内壁，在所述静电吸附盘的上下端均设置有多个气流调节装置。优选的，所述高压气体喷嘴包括头盖和底座，所述头盖和底座的配合面相抵，所述底座的轴向穿设有第一出气口，在所述第一出气口的一侧设有第二出气口，所述底座的径向设有第三出气口，且所述第二出气口和第三出气口相通，所述头盖上设有孔，所述孔内设有底座上设有的针尖。优选的，所述气流调节装置包括稳流体、进气口、蜂窝片、气体调整器、出气口和过滤片，所述稳流体的一端设有进气口，所述稳流体的另一端设有出气口，所述稳流体的内部设有蜂窝片、气体调整器，所述蜂窝片位于进气口的一端，所述蜂窝片连接气体调整器，所述气体调整器的出口通过过滤片连接出气口，所述气体调整器内包括多个气流调节格栅，且所述气流调节格栅呈锥形。优选的，所述气流调节装置设置4-8个，且所述静电吸附盘的上下端的气流调节装置数量一致。与现有技术相比，本技术的有益效果是：（1）本技术结构原理简单，采用多个气流调节装置，能够快速调节反应腔体内的气流，确保刻蚀的均匀性，而且气流调节装置中气体调整器采用锥形气流调节格栅，能够对气流起到导向作用。（2）本技术采用的高压气体喷嘴，能够均匀喷出高压气体，进一步提高刻蚀的均匀性，提高产品合格率。附图说明图1为本技术的整体结构示意图；图2为本技术的高压气体喷嘴结构示意图；图3为本技术的气流调节装置结构示意图；图中：1、反应腔体；2、分子泵；3、高压气体喷嘴；4、静电吸附盘；5、吸附件；6、气流调节装置；7、头盖；8、底座；9、第一出气口；10、第二出气口；11、第三出气口；12、孔；13、针尖；14、稳流体；15、进气口；16、蜂窝片；17、气体调整器；18、出气口；19、过滤片；20、气流调节格栅。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-3，本技术提供一种技术方案：一种等离子高效刻蚀机, 包括反应腔体1和分子泵2，反应腔体1的顶端固定设有多个高压气体喷嘴3，在反应腔体1的底部设有分子泵2，在反应腔体1的内部设有静电吸附盘4、吸附件5以及多个气流调节装置6，静电吸附盘4两端通过吸附件5活动安装在反应腔体1的内壁，在静电吸附盘4的上下端均设置有多个气流调节装置6。，气流调节装置6设置4-8个，且所述静电吸附盘4的上下端的气流调节装置6数量一致。本实施例中，高压气体喷嘴3包括头盖7和底座8，头盖7和底座8的配合面相抵，底座8的轴向穿设有第一出气口9，在第一出气口9的一侧设有第二出气口10，底座8的径向设有第三出气口11，且第二出气口10和第三出气口11相通，头盖7上设有孔12，孔12内设有底座8上设有的针尖13，本技术采用的高压气体喷嘴，能够均匀喷出高压气体，进一步提高刻蚀的均匀性，提高产品合格率。本实施例中，气流调节装置6包括稳流体14、进气口15、蜂窝片16、气体调整器17、出气口18和过滤片19，稳流体14的一端设有进气口15，稳流体14的另一端设有出气口18，稳流体14的内部设有蜂窝片16、气体调整器17，蜂窝片16位于进气口15的一端，蜂窝片16连接气体调整器17，气体调整器17的出口通过过滤片19连接出气口18，气体调整器17内包括多个气流调节格栅20，且气流调节格栅20呈锥形。气体从进气口进入后，通过蜂窝片实现降低气体的速度，气体通过气体调整器实现稳压流动，而且气流调节装置中气体调整器采用锥形气流调节格栅，能够对气流起到导向作用，确保刻蚀的均匀性本技术的使用方法包括以下步骤：A、将待刻蚀的硅片放置在静电吸附盘4的上表面，之后分别打开多个高压气体喷嘴3；B、高压气体进入反应腔体1内通过静电吸附盘4上方多个气流调节装置6调节稳流，使稳流后的气体均匀轰击被刻蚀材料的表面分子；C、高压气体通过静电吸附盘4下方多个气流调节装置6再次调节稳流，使整个反应腔体1内的气体呈稳流状态；D、反应后的易挥发气体通过分子泵2抽出反应腔体1外。各位技术人员须知：虽然本技术已按照上述具体实施方式做了描述，但是本技术的专利技术思想并不仅限于此技术，任何运用本专利技术思想的改装，都将纳入本专利专利权保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子高效刻蚀机, 包括反应腔体（1）和分子泵（2），其特征在于：所述反应腔体（1）的顶端固定设有多个高压气体喷嘴（3），在所述反应腔体（1）的底部设有分子泵（2），在所述反应腔体（1）的内部设有静电吸附盘（4）、吸附件（5）以及多个气流调节装置（6），所述静电吸附盘（4）两端通过吸附件（5）活动安装在反应腔体（1）的内壁，在所述静电吸附盘（4）的上下端均设置有多个气流调节装置（6）。

【技术特征摘要】
1.一种等离子高效刻蚀机, 包括反应腔体（1）和分子泵（2），其特征在于：所述反应腔体（1）的顶端固定设有多个高压气体喷嘴（3），在所述反应腔体（1）的底部设有分子泵（2），在所述反应腔体（1）的内部设有静电吸附盘（4）、吸附件（5）以及多个气流调节装置（6），所述静电吸附盘（4）两端通过吸附件（5）活动安装在反应腔体（1）的内壁，在所述静电吸附盘（4）的上下端均设置有多个气流调节装置（6）。2.根据权利要求1所述的一种等离子高效刻蚀机，其特征在于：所述高压气体喷嘴（3）包括头盖（7）和底座（8），所述头盖（7）和底座（8）的配合面相抵，所述底座（8）的轴向穿设有第一出气口（9），在所述第一出气口（9）的一侧设有第二出气口（10），所述底座（8）的径向设有第三出气口（11），且所述第二出气口（10）和第三出气口（11）相通，所述头盖（7）上设有孔（12），所述孔（...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈德榜，
申请(专利权)人：温州海旭科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33