【技术实现步骤摘要】
本公开一般地涉及光场成像系统。
技术介绍
光场相机可以同时收集物体的多个图像。然而,由于捕获图像的分辨率典型地由微透镜阵列中的小透镜的数目而不是由传感器阵列中传感器的数目确定的事实,光场成像系统的分辨率降低。因此,需要用于提高由光场成像系统捕获的图像的分辨率的方法。
技术实现思路
通过提供一种方法以使用视差和其他光学参数发现物体距全光相机的距离,并且使用距离和其他光学参数发现视差,本公开克服了现有技术的限制。在一个方面中,光场成像系统包括初级光学子系统、光场传感器模块和处理模块。初级光学子系统形成物体的光学图像,所述光学图像位于所述初级光学子系统的像平面。光场传感器模块包括次级成像阵列和传感器阵列。所述次级成像阵列将所述初级光学子系统的光瞳成像到所述传感器阵列上,使得所述传感器阵列捕获所述物体的视图的阵列。所述次级成像阵列不位于所述像平面。而是,所述次级成像阵列从所述像平面位移(例如,散焦),使得捕获的视图展现子像素视差。影响子像素视差的一个或多个光学参数可调节,以实现不同的分辨率增强值。处理模块使用一个或多个光学参数和具有子像素视差的视图的第一阵列,确定分辨率增强值。其他方面包括设备、方法、计算机可读介质、系统、组件、应用、改进以及与以上的任何相关的其他技术。附图说明本公开实施例其他优点和特征,当结合附图时这些优点和特征从以下详细描述和权利要求更加显而易见,附图中:图1A-1B是图示根据实施例的光场成像系统的图。图2A是图示根据实施例的光场成像系统中的视差的图。图2B是根据实施例的图2A的物体区域的放大率(magnification)。图3A-3B是图示根 ...
【技术保护点】
一种用于产生物体的图像的光场成像系统,所述光场成像系统包括:初级光学子系统,其形成物体的光学图像,所述光学图像位于所述初级光学子系统的像平面;光场传感器模块,其包括次级成像阵列和传感器阵列,所述次级成像阵列将所述初级光学子系统的光瞳成像到所述传感器阵列上,所述次级成像阵列从所述像平面位移,使得所述传感器阵列配置为捕获所述物体的复用视图的阵列;以及处理模块,配置为确定一个或多个光学参数,以实现希望的分辨率增强值,其中所述初级光学子系统和/或光场传感器模块可根据所述一个或多个光学参数调节。
【技术特征摘要】
2015.03.06 US 14/640,3091.一种用于产生物体的图像的光场成像系统,所述光场成像系统包括:初级光学子系统,其形成物体的光学图像,所述光学图像位于所述初级光学子系统的像平面;光场传感器模块,其包括次级成像阵列和传感器阵列,所述次级成像阵列将所述初级光学子系统的光瞳成像到所述传感器阵列上,所述次级成像阵列从所述像平面位移,使得所述传感器阵列配置为捕获所述物体的复用视图的阵列;以及处理模块,配置为确定一个或多个光学参数,以实现希望的分辨率增强值,其中所述初级光学子系统和/或光场传感器模块可根据所述一个或多个光学参数调节。2.如权利要求1所述的光场成像系统,其中所述一个或多个光学参数包括所述初级光学子系统的有效焦距f,并且所述初级光学子系统在有效焦距上可调节。3.如权利要求1所述的光场成像系统,其中所述一个或多个光学参数包括从所述初级光学子系统到所述次级成像阵列的距离di,并且所述光场成像系统在距离di上可调节。4.如权利要求1所述的光场成像系统,其中所述希望的分辨率增强值是大于1的整数值。5.如权利要求1所述的光场成像系统,其中所述处理模块进一步配置为:确定所述物体的复用视图的第一捕获阵列的分辨率增强值是否大于或等于阈值;并且如果是,那么将所述复用视图的第一捕获阵列组合为具有比所述复用视图的任一的分辨率更高分辨率的所述物体的数字图像。6.如权利要求1所述的光场成像系统,其中所述处理模块进一步配置为:确定所述物体的复用视图的第一捕获阵列的分辨率增强值是否大于或等于阈值;并且如果不是,那么将复用视图的第二捕获阵列组合为具有比所述复用视图的任一的分辨率更高分辨率的所述物体的数字图像,其中当根据所述一个或多个光学参数调节所述初级光学子系统和/或光场传感器模块时,捕获所述复用视图的第二捕获阵列。7.如权利要求1所述的光场成像系统,还包括:自动散焦模块,用于根据所述一个或多个光学参数自动调节所述初级光学子系统和/或光场传感器模块;并且其中所述处理模块进一步配置为将复用视图的第二捕获阵列组合为具有比所述复用视图的任一的分辨率更高分辨率的所述物体的数字图像,其中在通过所述自动散焦模块的自动调节之后,捕获所述复用视图的第二捕获阵列。8.如权利要求7所述的光场成像系统,其中所述处理模块进一步配置为:确定所述复用视图的第一捕获阵列中的感兴趣区域;计算所述感兴趣区域的初始视差;使用所述初始视差,确定所述感兴趣区域的...
【专利技术属性】
技术研发人员:V南波迪里,KP阿加雷文卡特沙雷奥,丸山刚,
申请(专利权)人:株式会社理光,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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