一种高均匀度曝光机光路系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种高均匀度曝光机光路系统，它包括光源模块机构、复眼透镜机构、主反射镜机构、次反射镜机构和目标面，所述次反射镜机构位于复眼透镜机构和主反射镜机构之间的下方，并水平设在一与光源模块机构连接的固定机构上，所述复眼透镜机构设在光源模块机构和次反射镜机构之间，并设在次反射镜的上方；所述次反射镜机构上的次反射镜为凹面镜，其镜面水平向上；所述主反射镜机构上的主反射镜为凹面镜，其镜面倾斜向下；所述目标面位于主反射镜机构的下方。本实用新型专利技术至少具有结构简单、操作方便、目标面上接收到的光线照射均匀度高等优点。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种用于PCB生产领域的曝光机的光路系统，尤其涉及一种高均匀度曝光机光路系统。
技术介绍
目前，现有的普通曝光机的光路系统，其光源的光线经过复眼透镜机构的复眼透镜以后光束得到匀化，使得相同角度的光的能量相同，然后，光束经过主反射镜机构的主反射镜反射，最终照射到目标面上。但由于主反射镜是具有一定的曲率半径的，并具有一定的倾斜角度，这样就导致从复眼透镜射出的相同角度的光束，其最终射在目标面上的区域尺寸不同。根据能量守恒定律，由于其总能量是不变的，这就导致不同区域的能量密度有差别，限制了最终目标面上射到的强度均匀度。目前PCB领域常见的曝光机，目标面上的强度均匀度只有85％-89％之间。
技术实现思路
为解决现有技术中的不足，本技术的主要目的在于提供一种高均匀度曝光机光路系统，其至少具有结构简单、操作方便、目标面上接收到的光线照射均匀度高等优点。一种高均匀度曝光机光路系统，它包括光源模块机构、复眼透镜机构、主反射镜机构、次反射镜机构和目标面，所述次反射镜机构位于复眼透镜机构和主反射镜机构之间的下方，并水平设在一与光源模块机构连接的固定机构上，所述复眼透镜机构设在光源模块机构和次反射镜机构之间，并设在次反射镜的上方；所述次反射镜机构上的次反射镜为凹面镜，其镜面水平向上；所述主反射镜机构上的主反射镜为凹面镜，其镜面倾斜向下；所述目标面位于主反射镜机构的下方。作为优选实施方案之一，所述主反射镜的倾斜角为22.5°±5°。作为优选实施方案之一，所述主反射镜机构上的主反射镜的曲率半径为3100mm±1000mm。作为优选实施方案之一，所述次反射镜机构上的次反射镜的曲率半径为
3100mm±1000mm。作为优选实施方案之一，所述复眼透镜机构与次反射镜机构中心之间的距离为250mm±150mm。进一步地，所述次反射镜机构中心至主反射镜机构中心的距离是1550mm±500mm。进一步地，所述主反射镜机构中心至目标面的距离是690mm±150mm。本技术的有益效果：本技术包括光源模块机构、复眼透镜机构、主反射镜机构、次反射镜机构和目标面，所述次反射镜机构位于复眼透镜机构和主反射镜机构之间的下方，并水平设在一与光源模块机构连接的固定机构上，所述复眼机构设在光源模块机构和次反射镜机构之间，并设在次反射镜的上方；所述次反射镜机构上的次反射镜为凹面镜，其镜面水平向上；所述主反射镜机构上的主反射镜为凹面镜，其镜面倾斜向下；所述目标面位于主反射镜机构的下方。通过加入一个次反射镜，消除了相同角度照射到目标区域面积不同的问题，使得相同立体角度的光线，在目标面上的照射区域面积相同，光线均匀度高，最终能够实现95％以上的均匀度。所以，本技术至少具有结构简单、操作方便、目标面上接收到的光线照射均匀度高等优点。附图说明图1是本技术一优选实施例的结构示意图。附图标记说明：1、光源模块机构；2、复眼透镜机构；3、主反射镜机构；4、次反射镜机构；5、目标面；6、固定机构。具体实施方式为了更清晰的阐述本技术，提供以下实施例以供参考：如图1所示，一种高均匀度曝光机光路系统，它包括光源模块机构1、复眼透镜机构2、主反射镜机构3、次反射镜机构4和目标面5，所述次反射镜机构4位于复眼透镜机构2和主反射镜机构3之间的下方，并水平设在一与光源模块机构1连接的固定机构6上，所述复眼透镜机构2设在光源模块机构1和次反射镜机构4之间，并设在次反射镜的上方；所述次反射镜机构4上的次反射镜为凹面镜，其镜面水平向上；所述主反射镜机构3上的主反射镜为凹面镜，其镜面倾斜向下；所述目标面5位于主反射镜机构3的下方。作为优选实施方案之一，所述主反射镜的倾斜角为22.5°±5°。作为优选实施方案之一，所述主反射镜机构3上的主反射镜的曲率半径为
3100mm±1000mm。作为优选实施方案之一，所述次反射镜机构4上的次反射镜的曲率半径为3100mm±1000mm。作为优选实施方案之一，所述复眼透镜机构2与次反射镜机构4中心之间的距离为250mm±150mm。进一步地，所述次反射镜机构4中心至主反射镜机构3中心的距离是1550mm±500mm。进一步地，所述主反射镜机构3中心至目标面的距离是690mm±150mm。通过本实施例的实施效果来看，通过加入一个次反射镜，消除了相同角度照射到目标区域面积不同的问题，使得相同立体角度的光线，在目标面上的照射区域面积相同，光线均匀度高，最终能够实现95％以上的均匀度，并且，结构简单，容易实现。需要说明的是，尽管本技术的
技术实现思路
及技术特征已揭示如上，然而熟悉本领域的技术人员仍可能基于本技术的教示及揭示而作种种不背离本技术精神的替换及修饰，因此，本技术保护范围应不限于实施例所揭示的内容，而应包括各种不背离本技术的替换及修饰，并为本专利申请权利要求所涵盖。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高均匀度曝光机光路系统，其特征在于：它包括光源模块机构、复眼透镜机构、主反射镜机构、次反射镜机构和目标面，所述次反射镜机构位于复眼透镜机构和主反射镜机构之间的下方，并水平设在一与光源模块机构连接的固定机构上，所述复眼透镜机构设在光源模块机构和次反射镜机构之间，并设在次反射镜的上方；所述次反射镜机构上的次反射镜为凹面镜，其镜面水平向上；所述主反射镜机构上的主反射镜为凹面镜，其镜面倾斜向下；所述目标面位于主反射镜机构的下方。

【技术特征摘要】
1.一种高均匀度曝光机光路系统，其特征在于：它包括光源模块机构、复眼透镜机构、主反射镜机构、次反射镜机构和目标面，所述次反射镜机构位于复眼透镜机构和主反射镜机构之间的下方，并水平设在一与光源模块机构连接的固定机构上，所述复眼透镜机构设在光源模块机构和次反射镜机构之间，并设在次反射镜的上方；所述次反射镜机构上的次反射镜为凹面镜，其镜面水平向上；所述主反射镜机构上的主反射镜为凹面镜，其镜面倾斜向下；所述目标面位于主反射镜机构的下方。2.根据权利要求1所述的一种高均匀度曝光机光路系统，其特征在于，所述主反射镜的倾斜角为22.5°±5°。3.根据权利要求1所述的一种高均匀度曝光机光路系统，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙秀辉，杨若夫，蔡文涛，
申请(专利权)人：张家港奇点光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32