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本实用新型公开了一种高均匀度曝光机光路系统，它包括光源模块机构、复眼透镜机构、主反射镜机构、次反射镜机构和目标面，所述次反射镜机构位于复眼透镜机构和主反射镜机构之间的下方，并水平设在一与光源模块机构连接的固定机构上，所述复眼透镜机构设在光源...
该专利属于张家港奇点光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过张家港奇点光电科技有限公司授权不得商用。

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