【技术实现步骤摘要】
本技术涉及单晶硅制造设备
，特别是一种用于单晶炉的温度调节装置。
技术介绍
单晶硅是具有完整的点阵结构的晶体，是一种良好的半导体材料，目前被广泛应用于半导体器件以及太阳能电池的制造。单晶硅使用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成的，在市场上有很广阔的前景。目前单晶硅的拉制装置为单晶炉，单晶炉内的温度调节装置只有石墨坩埚和支撑它的锅托体，随着硅单晶直径的加大，单晶炉热场的尺寸变得越来越大，相应的，石墨坩埚的重量也大大增大。目前，使用的坩埚由于结构简单，存在着导热不均匀，加热缓慢的缺点，而锅托体的承受重量不够而导致损坏，所以设计一种用于单晶炉的温度调节装置就显得尤为重要。
技术实现思路
本技术需要解决的技术问题是在加热的过程中通过旋转混合装置和搅拌装置对原材料进行搅拌混合，使材料受热更加均匀，提高了其的加热效率；提供一种用于单晶炉的温度调节装置。为解决上述的技术问题，本技术的结构包括底座、安装在底座上的炉体和炉筒，所述的炉筒通过升降机构活动连接在炉体内，所述的炉体是由上炉体和下炉体所组成，所述的上炉体内安装有加热装置，所述的下炉体内开设有空心腔体，所述的炉筒是由内炉筒和外炉筒所组成，所述的内炉筒通过旋转混
合装置连接在外炉筒内，所述的内炉筒内还设置有搅拌装置，所述的外炉筒与升降机构相连。进一步：所述的升降机构包括设置在上炉体和下炉体内壁上的导向轨道、导向轮和液压缸，所述的液压缸安装在底座内，所述的液压缸连接在外炉筒的底部，所述外炉筒的两侧通过导向轮连接在导向轨道上。又进一步：所述的旋转混合装置包括第一电机和转盘，所述的第一电机安装在外炉筒内，所...
【技术保护点】
一种用于单晶炉的温度调节装置，其特征在于：包括底座(5)、安装在底座(5)上的炉体和炉筒，所述的炉筒通过升降机构活动连接在炉体内，所述的炉体是由上炉体(13)和下炉体(8)所组成，所述的上炉体(13)内安装有加热装置，所述的下炉体(8)内开设有空心腔体，所述的炉筒是由内炉筒(2)和外炉筒(1)所组成，所述的内炉筒(2)通过旋转混合装置连接在外炉筒(1)内，所述的内炉筒(2)内还设置有搅拌装置，所述的外炉筒(1)与升降机构相连。
【技术特征摘要】
1.一种用于单晶炉的温度调节装置，其特征在于：包括底座(5)、安装在底座(5)上的炉体和炉筒，所述的炉筒通过升降机构活动连接在炉体内，所述的炉体是由上炉体(13)和下炉体(8)所组成，所述的上炉体(13)内安装有加热装置，所述的下炉体(8)内开设有空心腔体，所述的炉筒是由内炉筒(2)和外炉筒(1)所组成，所述的内炉筒(2)通过旋转混合装置连接在外炉筒(1)内，所述的内炉筒(2)内还设置有搅拌装置，所述的外炉筒(1)与升降机构相连。2.根据权利要求1所述的一种用于单晶炉的温度调节装置，其特征在于：所述的升降机构包括设置在上炉体(13)和下炉体(8)内壁上的导向轨道(11)、导向轮(12)和液压缸(6)，所述的液压缸(6)安装在底座(5)内，所述的液压缸(6)连接在外炉筒(1)的底部，所述外炉筒(1)的两侧通过导向轮(12)连接在导向轨道(11)上。3.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：潘清跃，王平，
申请(专利权)人：江苏华盛天龙光电设备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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