【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种高比容电容负极箔，本技术还涉及到制备该高比容电容负极箔的镀膜装置。
技术介绍
以往电容器负极箔主要有两种形式，一种是纯铝箔经过电化学方法将表面腐蚀，直接用来作负极箔；另一种是在铝箔上涂上薄薄石墨胶体后烘干作为负极箔使用。从性能上来讲，腐蚀的铝箔作为负极箔，电容量小、阻抗高、损耗值大，因此该负极箔只能做一些传流电解电容，并且腐蚀的铝箔作为负极箔体积大、寿命短、不稳定。而碳箔比起腐蚀铝箔的负极箔性能有较大改善，电容量高于铝箔数倍，并且阻抗小、损耗值小，但制造成本高，生产效率低，因此碳箔常用来制成一些高端固态电容器，具有体积小、寿命长、热稳定性好的特点。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种作为负极箔时电容量高、阻抗小、损耗值小且容易加工制造的高比容电容负极箔，本技术同时还提供制备该高比容电容负极箔的镀膜装置。为解决上述技术问题，本技术中的高比容电容负极箔，具有铝箔，所述铝箔的表面溅射有氮化钛层，氮化钛层的表面溅射有氮化钛和石墨的混合层。采用上述结构的高比容电容负极箔，实验测试表明：氮化钛层与铝箔表面结合牢固，氮化钛和石墨的混合层与氮化钛层结合牢固，可以通过磁控钛靶及磁控石墨靶溅射的方式在铝箔基膜上镀膜，制造成本低且生产效率高；另外本技术产品在作为负极箔时，同比电容量达到铝箔的数倍、高于碳箔，具有比铝箔更低的阻抗和损耗，尤其适合制作固态电容器和大容量电解电容器，具有体积小、寿命长、热稳定性好的特点。为解决上述技术问题，本技术中的制备高比容电容负极箔的镀膜装置，包括真空放卷室、第一真空镀膜室、第二真空镀膜室和真空收卷室，所述真空放卷室内设...
【技术保护点】
一种高比容电容负极箔，具有铝箔（1），其特征在于：所述铝箔（1）的表面溅射有氮化钛层（2），氮化钛层（2）的表面溅射有氮化钛和石墨的混合层（3）。
【技术特征摘要】
1.一种高比容电容负极箔，具有铝箔（1），其特征在于：所述铝箔（1）的表面溅射有氮化钛层（2），氮化钛层（2）的表面溅射有氮化钛和石墨的混合层（3）。2.一种制备权利要求1所述高比容电容负极箔的镀膜装置，其特征在于：包括真空放卷室（10）、第一真空镀膜室（20）、第二真空镀膜室（30）和真空收卷室（40），所述真空放卷室（10）内设有放卷机构（11），真空收卷室（40）内设有收卷机构（41），铝箔（1）从所述放卷机构（11）开始，经第一真空镀膜室（20）和第二真空镀膜...
【专利技术属性】
技术研发人员：关秉羽，
申请(专利权)人：辽宁鑫金铂科技有限公司，
类型：新型
国别省市：辽宁;21
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