本发明专利技术提供一种湿式蚀刻机台的清洗装置，包括：化学槽、水洗槽、挡板以及基板传送通道，其中，所述挡板上连接有振动马达，所述基板传送通道下方设有传感器，当所述传感器检测到第一片所述玻璃基板的前端通过所述基板通道到达预设位置时，所述基板传送通道停止传送所述玻璃基板，且所述振动马达启动工作以使所述挡板振动，将所述挡板上的所述药液凝结成的液滴振落，当所述振动马达停止振动时，所述基板传送通道继续将第一片所述玻璃基板通过所述化学槽传送至所述水洗槽。本发明专利技术可以防止生产过程中挡板上的药液液滴滴落到玻璃基板上，导致玻璃基板出现不清晰的现象。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶显示器
，特别涉及一种湿式蚀刻机台的清洗装置及清洗方法。
技术介绍
液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用，如：液晶电视、移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等，在平板显示领域中占主导地位。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)与彩色滤光片(Color Filter，CF)基板及彩膜基板之间灌入液晶分子，并在两片基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。目前，在薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板制作过程中，需要使用各种湿式机台进行清洗、刻蚀、显影等制程，这些湿式机台会用到各种不同的药液，如湿法刻蚀机进行刻蚀时，会使用含有硝酸、磷酸、醋酸、盐酸等物质的化学药液，
如氢氟酸清洗机清洗过程中会用到氢氟酸药液。在生产过程中，这类设备盛放药液的单元会产生含有药液成分的挥发性气体，挥发性气体会在设备内壁凝结，然后回流到药液化学槽。但是阻隔不同单元的挡板安装在玻璃基板通道的正上方，挡板上凝结的液滴经常会直接滴落到玻璃基板表面，造成玻璃基板滴落区域膜面异常，导致液晶显示器出现亮度不均匀的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种湿式蚀刻机台的清洗装置及清洗方法，以解决现有技术中，在生产液晶面板时，阻隔不同单元的挡板上凝结的液滴经常会直接滴落到玻璃基板表面，导致液晶显示器出现亮度不均匀的问题。本专利技术的技术方案如下：一种湿式蚀刻机台的清洗装置，包括：化学槽，用于盛放蚀刻玻璃基板的药液；水洗槽，用于清洗经过所述药液蚀刻过的所述玻璃基板；挡板，垂直设在所述化学槽与所述水洗槽的上方之间，用于将所述化学槽与所述水洗槽阻隔开，以避免所述药液污染所述水洗槽；基板传送通道，位于所述挡板的下方，其由滚轮带动传送带进行传送，用于连接所述化学槽与所述水洗槽，将多片间隔均匀的所述玻璃基板，依次从所述化学槽传送至所述水洗槽；其中，所述挡板上连接有振动马达，所述基板传送通道下方设有传感器，当所述传感器检测到第一片所述玻璃基板的前端通过所述基板通道到达预设位置时，所述基板传送通道停止传送所述玻璃基板，且所述振动马达启动工作以使所述挡板振动，将所述挡板上的所述药液凝结成的液滴振落，当所述振动马达停止振动时，所述基板传送通道继续将第一片所述玻璃基板通过所述化学槽传送至所述水洗槽，后续各片所述玻璃基板，依次按照第一片所述玻璃基板的方式通过所述挡板到达所述水洗槽。优选地，所述预设位置位于所述化学槽一侧对应的所述基板传送通道上。优选地，所述预设位置至所述挡板正下方的水平距离，大于所述药液的液滴从所述挡板上飞溅到所述玻璃基板上的最大水平距离。优选地，所述振动马达设有振动时间长度，所述振动时间长度根据所述振动马达的振动频率而定。优选地，相邻两片所述玻璃基板之间的间隔距离，大于所述预设位置到所述挡板正下方的水平距离的两倍。一种湿式蚀刻机台的清洗方法，所述湿式蚀刻机台包括上述权利要求中任一项所述的清洗装置，所述清洗方法包括以下步骤：所述传感器实时检测多片间隔均匀的所述玻璃基板在所述
基板传送通道的位置；当检测到第一片所述玻璃基板到达所述预设位置时，所述基板传送通道停止转动，且所述振动马达启动工作以使所述挡板振动；所述挡板振动结束后，所述基板传送通道继续传送第一片所述玻璃基板通过所述挡板。优选地，所述挡板振动结束后，所述基板传送通道继续传送第一片所述玻璃基板至所述水洗槽，之后还包括：后续各片所述玻璃基板，依次按照第一片所述玻璃基板的方式通过所述挡板到达所述水洗槽。一种湿式蚀刻机台的清洗装置，包括：化学槽，用于盛放蚀刻玻璃基板的药液；水洗槽，用于清洗经过所述药液蚀刻过的所述玻璃基板；挡板，垂直设在所述化学槽与所述水洗槽的上方之间，用于将所述化学槽与所述水洗槽阻隔开，以避免所述药液污染所述水洗槽；基板传送通道，位于所述挡板的下方，其由滚轮带动传送带进行传送，用于连接所述化学槽与所述水洗槽，将多片间隔均匀的所述玻璃基板，依次从所述化学槽传送至所述水洗槽；其中，所述挡板上连接有振动马达，所述基板传送通道下方
设有传感器，当所述传感器检测到第一片所述玻璃基板的前端通过所述基板通道到达第一预定位置时，所述振动马达启动工作以使所述挡板振动，将所述挡板上的所述药液凝结成的液滴振落，当所述传感器检测到所述玻璃基板的前端通过所述基板传送通道到达第二预定位置时，当所述振动马达停止振动，直至第一片所述玻璃基板的后端到达第三预定位置之后，所述振动马达按照上述程序重新启动工作。优选地，所述第一预定位置与所述第二预定位置均位于所述化学槽一侧的所述基板传送通道上，所述第三预定位置位于所述水洗槽一侧的所述基板传送通道上，所述第二预定位置与第三预定位置关于所述挡板对称。优选地，相邻两片所述玻璃基板之间的间隔距离大于或等于所述第一预定位置到所述第三预定位置的水平距离。本专利技术的有益效果：本专利技术的一种湿式蚀刻机台的清洗装置及清洗方法，通过在挡板上连接振动马达，并在玻璃基板通道下面设置传感器，由传感器检测玻璃基板通过挡板过程中的预设位置，及时启动振动马达将挡板上的药液液滴振落，避免了挡板上的药液液滴滴落到玻璃基板上污染玻璃基板，导致液晶显示器出现亮度不均匀的问题。【附图说明】图1为本专利技术实施例的一种湿式蚀刻机台的清洗装置的整体装置示意图；图2为本专利技术实施例的一种湿式蚀刻机台的清洗装置整体结构的剖面示意图；图3为本专利技术实施例的一种湿式蚀刻机台的清洗方法实施步骤示意图。【具体实施方式】以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。实施例一请参考图1，图1为本实施例的一种湿式蚀刻机台的清洗装置的整体装置示意图，从图1可以看到，本专利技术的一种湿式蚀刻机台的清洗装置，包括：化学槽10，用于盛放蚀刻玻璃基板70的药液80。水洗槽20，用于清洗经过所述药液80蚀刻过的所述玻璃基板70。挡板30，垂直设在所述化学槽10与所述水洗槽20的上方
之间，用于将所述化学槽10与所述水洗槽20阻隔开，以避免所述药液80污染所述水洗槽20。基板传送通道60，位于所述挡板30的下方，其由滚轮带动传送带进行传送，用于连接所述化学槽10与所述水洗槽20，将多片间隔均匀的所述玻璃基板70，依次从所述化学槽10传送至所述水洗槽20。其中，所述挡板30上连接有振动马达40，所述基板传送通道60下方设有传感器50，当所述传感器50检测到第一片所述玻璃基板70的前端通过所述基板通道到达预设位置(图中未标本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种湿式蚀刻机台的清洗装置，其特征在于，包括：化学槽，用于盛放蚀刻玻璃基板的药液；水洗槽，用于清洗经过所述药液蚀刻过的所述玻璃基板；挡板，垂直设在所述化学槽与所述水洗槽的上方之间，用于将所述化学槽与所述水洗槽阻隔开，以避免所述药液污染所述水洗槽；基板传送通道，位于所述挡板的下方，其由滚轮带动传送带进行传送，用于连接所述化学槽与所述水洗槽，将多片间隔均匀的所述玻璃基板，依次从所述化学槽传送至所述水洗槽；其中，所述挡板上连接有振动马达，所述基板传送通道下方设有传感器，当所述传感器检测到第一片所述玻璃基板的前端通过所述基板通道到达预设位置时，所述基板传送通道停止传送所述玻璃基板，且所述振动马达启动工作以使所述挡板振动，将所述挡板上的所述药液凝结成的液滴振落，当所述振动马达停止振动时，所述基板传送通道继续将第一片所述玻璃基板通过所述化学槽传送至所述水洗槽，后续各片所述玻璃基板，依次按照第一片所述玻璃基板的方式通过所述挡板到达所述水洗槽。
【技术特征摘要】
1.一种湿式蚀刻机台的清洗装置，其特征在于，包括：化学槽，用于盛放蚀刻玻璃基板的药液；水洗槽，用于清洗经过所述药液蚀刻过的所述玻璃基板；挡板，垂直设在所述化学槽与所述水洗槽的上方之间，用于将所述化学槽与所述水洗槽阻隔开，以避免所述药液污染所述水洗槽；基板传送通道，位于所述挡板的下方，其由滚轮带动传送带进行传送，用于连接所述化学槽与所述水洗槽，将多片间隔均匀的所述玻璃基板，依次从所述化学槽传送至所述水洗槽；其中，所述挡板上连接有振动马达，所述基板传送通道下方设有传感器，当所述传感器检测到第一片所述玻璃基板的前端通过所述基板通道到达预设位置时，所述基板传送通道停止传送所述玻璃基板，且所述振动马达启动工作以使所述挡板振动，将所述挡板上的所述药液凝结成的液滴振落，当所述振动马达停止振动时，所述基板传送通道继续将第一片所述玻璃基板通过所述化学槽传送至所述水洗槽，后续各片所述玻璃基板，依次按照第一片所述玻璃基板的方式通过所述挡板到达所述水洗槽。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述预设位置位于所述化学槽一侧对应的所述基板传送通道上。3.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述预
\t设位置至所述挡板正下方的水平距离，大于所述药液的液滴从所述挡板上飞溅到所述玻璃基板上的最大水平距离。4.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述振动马达设有振动时间长度，所述振动时间长度根据所述振动马达的振动频率而定。5.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，相邻两片所述玻璃基板之间的间隔距离，大于所述预设位置到所述挡板正下方的水平距离的两倍。6.一种湿式蚀刻机台的清洗方法，所述湿式蚀刻机台包括权利要求1至5的任一项所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗方法包括以下步骤：所述传感器实时检测多片间隔均匀的所述玻璃基板在所述基板传送通道的位置；当检测到第一片所...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘思洋，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42
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