新型高强度抗腐蚀建筑幕墙框架制造技术

本发明专利技术公开了新型高强度抗腐蚀建筑幕墙框架，所述幕墙框架按重量百分比包括Mg0.2％，Si 2.0％，Cu4.0％，Mn0.2％，Fe0.2％，Zr0.1％，Er0.1％，Cr0.01％，Ni0.01％，Ti0.1％，Al余量。所述幕墙框架经过(1)熔炼；(2)加入Al‑5Ti‑B、Al‑lOSr和RE三种金属细化变质剂添加细化变质剂；(3)在100MPa的条件下静置2h形成铸锭；(4)五道热轧，在超声波振动下三道冷轧；(5)利用C和V激光改性和(6)十八烷基三氯硅烷溶液表面处理后得到成品。本发明专利技术利用多种手段对幕墙框架的材料进行改性和处理，使得幕墙框架在恶劣的工作条件下腐蚀仍能保持氧化膜的完整，避免金属失效，满足当今工业发展的要求。

【技术实现步骤摘要】
201610221157

【技术保护点】
新型高强度抗腐蚀建筑幕墙框架，其特征在于，所述幕墙框架按重量百分比包括Mg0.2％，Si 2.0％，Cu4.0％，Mn0.2％，Fe0.2％，Zr0.1％，Er0.1％，Cr0.01％，Ni0.01％，Ti0.1％，Al余量。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：董超超，
申请(专利权)人：董超超，
类型：发明
国别省市：浙江;33