【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】201480070678
【技术保护点】
一种用于制造包括一个或多个隔离垫的隔离系统的方法，所述方法包括以下步骤：(A)提供包括多层组件的壳，所述多层组件是通过以下步骤可获得的：(A‑i)提供由组合物[组合物(C1)]组成的层[层(L1)]，该组合物包含以下项、优选地由以下项组成：至少一种具有按体积计至少20％的极限氧指数(LOI)的热塑性聚合物[聚合物(1)]，(A‑ii)在蚀刻气体介质的存在下通过射频辉光放电方法处理所述层(L1)的至少一个表面、优选地内表面，(A‑iii)通过无电沉积将由至少一种金属化合物(M1)组成的层[层(L2)]涂覆到如在步骤(A‑ii)中提供的该层(L1)的所述至少一个经处理的表面上，以及(A‑iv)任选地，通过电沉积将由至少一种金属化合物(M2)组成的层[层(L3)]涂覆到如在步骤(A‑iii)中提供的该层(L2)的相反侧上，所述金属化合物(M2)与所述金属化合物(M1)相同或不同；(B)提供由隔离材料[材料(I)]组成的芯；并且(C)由该壳包封所述芯。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.12.23 EP 13199363.61.一种用于制造包括一个或多个隔离垫的隔离系统的方法，所述方法包括以下步骤：(A)提供包括多层组件的壳，所述多层组件是通过以下步骤可获得的：(A-i)提供由组合物[组合物(C1)]组成的层[层(L1)]，该组合物包含以下项、优选地由以下项组成：至少一种具有按体积计至少20％的极限氧指数(LOI)的热塑性聚合物[聚合物(1)]，(A-ii)在蚀刻气体介质的存在下通过射频辉光放电方法处理所述层(L1)的至少一个表面、优选地内表面，(A-iii)通过无电沉积将由至少一种金属化合物(M1)组成的层[层(L2)]涂覆到如在步骤(A-ii)中提供的该层(L1)的所述至少一个经处理的表面上，以及(A-iv)任选地，通过电沉积将由至少一种金属化合物(M2)组成的层[层(L3)]涂覆到如在步骤(A-iii)中提供的该层(L2)的相反侧上，所述金属化合物(M2)与所述金属化合物(M1)相同或不同；(B)提供由隔离材料[材料(I)]组成的芯；并且(C)由该壳包封所述芯。2.根据权利要求1所述的方法，其中该层(L1)是该壳的外层。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中该聚合物(1)选自下组，该组由以下各项组成：-具有按体积计至少30％的极限氧指数(LOI)的氟聚合物[聚合物(F)]，以及-具有按体积计至少30％的极限氧指数(LOI)的聚(芳基醚酮)[聚合物(PAEK)]。4.根据权利要求3所述的方法，其中该聚合物(F)选自下组，该组由以下各项组成：-聚合物(F-1)，包含衍生自至少一种选自四氟乙烯(TFE)和三氟氯乙烯(CTFE)的氟化单体、以及至少一种选自乙烯、丙烯以及异丁烯的氢化单体的
\t重复单元，任选地含有一种或多种额外的共聚单体，该一种或多种额外的共聚单体的量典型地为基于TFE和/或CTFE以及所述一种或多种氢化单体的总量的按摩尔计从0.01％至30％；-聚合物(F-2)，包含衍生自偏二氟乙烯(VDF)以及任选地一种或多种不同于VDF的氟化单体的重复单元；-聚合物(F-3)，包含衍生自四氟乙烯(TFE)和至少一种不同于TFE的选自由以下各项组成的组的氟化单体的重复单元：-具有式CF2＝CFORf1’的全氟烷基乙烯基醚，其中Rf1’是C1-C6全氟烷基；-具有式CF2＝CFOX0的全氟-氧烷基乙烯基醚，其中X0是包含一个或多个醚基团的C1-C12全氟氧烷基，如全氟-2-丙氧基-丙基；-C3-C8全氟烯烃，例如六氟丙烯(HFP)；以及-具有式(I)的全氟间二氧杂环戊烯：其中R1、R2、R3和R4，彼此相同或不同，独立地选自由以下各项组成的组：-F、任选地包含一个或多个氧原子的C1-C6氟烷基、以及任选地包含一个或多个氧原子的C1-C6氟烷氧基；以及-聚合物(F-4)，包含衍生自至少一种具有式CR7R8＝CR9OCR10R11(CR12R13)a(O)bCR14＝CR15R16的可环...
【专利技术属性】
技术研发人员：P科约卡鲁，S摩塔拉，FM特里厄尔齐，M阿波斯托罗，
申请(专利权)人：索尔维特殊聚合物意大利有限公司，
类型：发明
国别省市：意大利;IT
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