一种制备EBSD样品的机械抛光液、制备方法及机械抛光方法技术

本发明专利技术公开了一种制备EBSD样品的机械抛光液、制备方法及机械抛光方法，属于镍基单晶高温合金晶体取向分析技术领域。本发明专利技术针对镍基单晶高温合金EBSD样品制备过程复杂、耗时长、标定率低等问题，提出了一种抛光液配制简单、操作简便、成本低、抛光效果好、标定率高的镍基单晶高温合金EBSD样品机械抛光法。本发明专利技术中抛光液配比为：胶体二氧化硅25～30wt％，过氧化氢2～3wt％，草酸1～2wt％、甘油2～3wt％，余量为pH调节剂和蒸馏水。该机械抛光步骤包括：(1)切割；(2)清洗；(3)镶嵌；(4)研磨；(5)机械抛光。本发明专利技术易于实施、能耗较低，适用于镍基单晶高温合金EBSD样品制备。

【技术实现步骤摘要】
201610292613

【技术保护点】
一种制备EBSD样品的机械抛光液，其特征在于，包括胶体二氧化硅25～30wt％，过氧化氢2～3wt％，草酸1～2wt％、甘油2～3wt％，余量为pH调节剂和蒸馏水，其中，抛光液pH值在8～11之间。

【技术特征摘要】
1.一种制备EBSD样品的机械抛光液，其特征在于，包括胶体二氧化硅25～30wt％，过氧化氢2～3wt％，草酸1～2wt％、甘油2～3wt％，余量为pH调节剂和蒸馏水，其中，抛光液pH值在8～11之间。2.根据权利要求1所述的一种制备EBSD样品的机械抛光液，其特征在于，二氧化硅的粒径为10～40nm。3.根据权利要求1所述的一种制备EBSD样品的机械抛光液，其特征在于，pH调节剂为氢氧化钾或氢氧化钠。4.权利要求1至3中任一项所述的制备EBSD样品的机械抛光液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：a)按照机械抛光液的质量百分比将胶体二氧化硅、过氧化氢、草酸、甘油以及蒸馏水混合在一起，并使用玻璃棒缓慢搅拌；b)搅拌均匀后，抛光液静置10～15分钟，利用pH试纸检测抛光液pH值，若抛光液pH值小于8，滴加适量的pH调节剂，使用玻璃棒缓慢搅拌；若抛光液pH值大于11，则滴加适量的蒸馏水，使用玻璃棒缓慢搅拌；c)搅拌均匀后，抛光液静置10～15分钟，利用pH试纸检测抛光液pH值，若抛光液pH值小于8或大于11，则重复步骤b)，直至抛光液pH值在8～11之间。5.一种制备EBSD样品的机械抛光液的机械抛光方法，该机械抛光方法基于权利要求1至3中任一项所述的制备EBSD样品的机械抛光液，其特征在于，包括以...

【专利技术属性】
技术研发人员：高斯峰，肖俊峰，南晴，张炯，李永君，唐文书，朱立春，
申请(专利权)人：西安热工研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：陕西;61