光滤波器制造技术

本发明专利技术涉及光滤波器，涉及用于生产光滤波器的方法，并且涉及本发明专利技术的滤波器的用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术涉及光滤波器，涉及用于生产光滤波器的方法，并且涉及本专利技术的滤波器的用途。【专利说明】光滤波器
本专利技术设及光滤波器，设及用于生产光滤波器的方法，并且设及本专利技术的滤波器 的用途。
技术介绍
在相机、移动电话或其他基于WLP(晶片级封装）的电子设备领域中使用的大多数 可用的滤波器和滤波器系统是基于无机系统的。此类系统的目标一般是实现精确合格的透 射率曲线，例如，在650nm区域中的睹边。通常，使用所谓的蓝色玻璃，即光学玻璃，例如，已 向其中添加如化0等着色玻璃成分的氣憐酸盐玻璃。另外，使用包含无机成分的层或多层系 统。当使用蓝色玻璃时，在光学性能非常好时存在关于某些方面的限制：首先，玻璃仅具有 有限的腐蚀稳定性;其次，难W实现小于300WI1的玻璃厚度，运是因为材料的脆性，或者因为 其生产关联于高成本。而且，玻璃的热膨胀系数(CTE)限制了通过一些粘结方法例如微电子 领域中的标准方法"晶片级封装"（WLP)来进行进一步处理。多层或具有无机颗粒的层有运 样的问题:仅仅不充分地满足光学性能，并且在颗粒填充的系统的情况下，经常发生显著的 散射(雾度），运产生了不期望的光学效应，即，形式为透射率降低和图像劣化的光损耗。 "雾度"或"雾度值"（也称为不透明度、浊度)是用于描述材料的散射特性，尤其是 针对透明样品的雾度的光学参量。该值描述了透射的光由半透明样品向前散射的比例。因 此，雾度值对表面或结构中的破坏透明度的颗粒的影响作出量化。运些颗粒可W是有意引 入的，或者可W是由材料缺陷造成的。在ASTM D 1003标准中描述了用于测量雾度值的方 法。该标准要求测量四个光谱。对于每个光谱，计算光透射率。将所述四个透射率转换为％ 雾度值。 具有良好光学性能的多层系统或干设滤波器是当今此类滤波器的标准。由于光在 运些层中不被吸收，因此在滤波器中发生多次反射，而运成为了 "鬼像(ghost image)"。只 有通过层中或衬底中的光学吸收才能够避免运些鬼像。另一方面，具有拥有睹边的期望过 滤功能的多层系统非常昂贵，并且因此不适于实现。 另外，目前市场上存在基于塑料的薄膜，其具有良好的光学性能W及低成本。然 而，在诸如热压力和气候压力W及对诸如异丙醇等化学品的抗性等压力测试中，薄膜的光 学性能和稳定性劣化，并且由于运些原因而不适合于WLP工艺。 聚氨醋(PU)涂层是现有技术已知的。W0 2007/025011 A1描述了用于移动电话显 示器和其他显示器组件的抗刮擦层，其中运些层可W是无色的或着色的。关于可W产生运 种颜色的方式和可W使用何种选择标准W及色彩可W多浓并没有线索，并且从受控光学设 计的意义上而言，所描述的系统不具有任何过滤功能。 W0 2012/031837 A1描述了一种用于光滑透明成型体上的显示区域的、基于PU的 涂层系统，所述光滑透明成型体在可见光范围内具有1%至20%的透射率且在高达150°C下 颜色稳定，所述涂层系统不会降低衬底的耐冲击性/抗折强度，并且足够不透明W掩盖被照 亮的显示器W及显示器的其他组件。因此，在此描述的系统不适合在针对微电子器件/光学 器件W及诸如WLP等工艺的滤波器系统的领域中使用，因为在此会至少短暂地达到暂时〉 250°C的溫度。
技术实现思路
因此，本专利技术所解决的问题是提供一种可W廉价生产的、低厚度的且具有良好光 学滤波器性能(例如，均匀性和雾度）的滤波器。该滤波器还应当具有足够的机械稳定性和 热稳定性W及良好的化学稳定性和气候稳定性。 通过权利要求书中描述的本专利技术的实施方式来解决上述问题。 更具体而言，提供了一种光滤波器，其包括衬底2W及位于所述衬底的至少一侧的 滤光层3,其中所述滤光层3包括基质，所述基质包含溶解在该基质中的至少一种有机染料。 本专利技术的滤波器包括衬底和至少一个滤光层。所述滤光层包括基质W及渗入到该 基质中的至少一种染料。【附图说明】[001^ 附图示出： 图1示出本专利技术的滤波器1的一个变型的示意图。在衬底2上施加了至少一个滤光 层3。可选地，可W在顶侧和/或底侧施加减反射涂层4和/或4'。另外，可W施加中间层5,例 如，用于改善衬底2与滤光层3之间的滤光层3的粘结强度。层4、层4'和/或层5可W可选地还 具有对滤波器的光学性能的微调功能;例如，它们可W具有红外阻挡功能。 图2示出本专利技术的涂覆工艺的一个实施方式的示意图。 图3示出根据实施例1的本专利技术的滤波器的透射率曲线，W及滤波器的通带和阻带 的定义，包括T50值。 图4和图5示出根据实施例2和实施例3的本专利技术的滤波器的透射率曲线。 图6示出对根据实施例1的滤波器的均匀性ii量的结果，即，在所述滤波器上的四 个不同点处测得的透射率曲线。所述曲线彼此精确重叠;所述滤波器因此具有高光学均匀 性。 图7示出具有第一通过旋涂(实线及第二通过丝网印刷(虚线)而施加的滤光层 的滤波器的透射率曲线之间的对比。借助旋涂而施加的滤光层的通带中的透射率远优于借 助丝网印刷而施加的层。 图8示出具有W不同旋涂参数而施加的滤光层的滤波器的透射率曲线之间的对 比。尽管运两个曲线都优于借助丝网印刷而施加的层，但可W通过调整旋涂参数来实现透 射率曲线的进一步改善。【具体实施方式】 本专利技术的滤波器具有良好的光学性能。 相比于现有技术滤波器，本专利技术的滤波器具有出人意料的低散射或出人意料的低 雾度。所述滤波器的雾度值优选地低于10%，进一步优选地低于5%，更优选地低于3%，最 优选地低于1%。优选地利用Byk化ze-gard Plus测量仪器来确定雾度值。 另外，它们比现有技术滤波器具有更低的粗糖度，因此获得了具有低散射的层。更 具体而言，滤光层Ra的粗糖度小于0.5μηι，尤其小于0.3μηι并且优选地小于Ο.ΟΟΙμηι，运可W 比得上未加涂层的衬底的粗糖度。 图3示出本专利技术对通带和阻带的定义，W及针对带通滤波器的T50值。本专利技术的滤波 器的特征在于通带中的透射率和阻带中的透射率。根据本专利技术，通带被理解为指Tsoi与 Τ5〇Π 之间的频带。通带应当具有最大透射率。更具体而言，通带内的透射率应当至少部分地 (即，对于通带内的波长范围）为至少70%，优选地为至多80%，更优选地为至少85%。根据 本专利技术，阻带被理解为指Τ5〇Π 之后的频带。根据如图3中所示的变型，阻带可W与具有高透 射率的另一频带邮邻。在运样的变型中，可W指定另一第Ξ值TsoIII用于对曲线的表征。阻 带应当具有最小透射率。更具体而言，通带内的透射率应当至少部分地（即，对于阻带内的 波长范围）为至多40%，优选地为至多30%，更优选地为至多25%。优选地，阻带中的平均透 射率不超过50 %，优选地不超过40 %，更优选地不超过30 % dTso值描述了超过50 %的透射率 值时的波长。在滤波器的情况下，在进入透射区域中之前经过该值，此处称为Tsol，并且在离 开透射区域之后经过该值，此处称为TsoII。根据本专利技术，TsoII同时指示出进入阻带，而 TsoIII指示出进入另一通带。被称为长通滤波器和短通滤波器的滤波器在阻带与通带之间 仅具有一个T50值。 而且，在其中透射率超过70%、80%或85%的通带的宽度应当处于最大值。 在本专利技术的一个本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光滤波器，其包括衬底(2)以及位于所述衬底的至少一侧的滤光层(3)，其中所述滤光层(3)包括基质，所述基质包含溶解在该基质中的至少一种有机染料，并且其中所述滤波器具有光学均匀性，尤其是T50II处的波长偏移不超过5％。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：E·鲁迪吉尔沃伊特，S·里布萨门，J·舒马赫，F·巴克，
申请(专利权)人：肖特股份有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE