流体混合结构制造技术

本发明专利技术公开一种流体混合结构，其适于混合试剂液体与试样液体。流体混合结构包括第一流道、混合凹槽、第一挡块、多个第二挡块以及第二流道。混合凹槽连通至该第一流道。第一挡块配置于混合凹槽内，以使该混合凹槽构成环状流道。第二挡块配置于混合凹槽的环状流道内。试剂液体与试样液体在环状流道中混合成混合液体。第二流道连通至混合凹槽。混合液体经由第二流道流出混合凹槽。

【技术实现步骤摘要】
201410705777

【技术保护点】
一种流体混合结构，适于混合试剂液体与试样液体，其特征在于，该流体混合结构包括：第一流道；混合凹槽，连通该第一流道，该试剂液体与该试样液体经由该第一流道流入该混合凹槽；第一挡块，配置于该混合凹槽内，以使该混合凹槽通过该第一挡块构成环状流道；多个第二挡块，配置于该环状流道内，该试剂液体与该试样液体在该环状流道中混合成混合液体；以及第二流道，连通至该混合凹槽，该混合液体经由该第二流道流出该混合凹槽。

【技术特征摘要】
1.一种流体混合结构，适于混合试剂液体与试样液体，其特征在于，该
流体混合结构包括：
第一流道；
混合凹槽，连通该第一流道，该试剂液体与该试样液体经由该第一流道
流入该混合凹槽；
第一挡块，配置于该混合凹槽内，以使该混合凹槽通过该第一挡块构成
环状流道；
多个第二挡块，配置于该环状流道内，该试剂液体与该试样液体在该环
状流道中混合成混合液体；以及
第二流道，连通至该混合凹槽，该混合液体经由该第二流道流出该混合
凹槽。
2.如权利要求1所述的流体混合结构，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：林圣杰，孙彬钟，曾耀霆，吕适任，吴忠儒，黄健隆，
申请(专利权)人：宏达国际电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71