折反式大口径大视场成像系统技术方案

折反式大口径大视场成像系统，其特征在于：沿光轴由外至内依次设置有：折射式改正板、反射式主镜和折射式改正镜组；其中的改正板第二面中心区域镀有反射膜层，成为反射式次镜；入射光线经所述折射式改正板照射至所述反射式主镜，反射式主镜将入射光线反射至所述反射式次镜；该反射式次镜将光线反射至所述折射式改正镜组，经过改正镜组的光线汇聚在光学系统焦平面上。本发明专利技术将折射式改正板设置在反射式球面主镜的焦点以内，并将其第二面中心区域用作反射式次镜和光阑，具有超短镜筒、大视场的特点，能够广泛用于天文、航空及安防等光电成像领域。本发明专利技术能够实现11°~15°视场的消像差设计；而传统折反式成像系统的视场仅为3°~4°。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种折反式大口径大视场成像系统，属于光电成像
本专利技术受到国家自然科学基金(11273040)的资助。
技术介绍
光学成像系统可以分为折射式、反射式和折反式三种，具有各自的特点：折射式光学成像系统由透射式光学元件组成，通过光学元件的曲率、折射率和色散系数等进行像差校正，优点是没有中心遮挡，可用优化参数多，能够达到更大的视场。缺点是受到材料均匀性、应力和加工、胶合等工艺的限制，口径比较小。反射式光学成像系统利用光学元件的表面进行反射成像，通过曲率、圆锥系数和光学间隔进行像差校正，优点是适用光谱范围宽，像质好。缺点是可用像差优化参数少，成像系统视场较小，通常可用视场为20′以内。折反式光学成像系统是在反射式光学成像系统的基础上增加折射式的改正板等元件，增加了像差优化参数，使得光学系统在具有良好像质的基础上增大了视场。折反式光学成像系统使用较为广泛的是施密特、施密特-卡赛格林及马克苏托夫系统。其中施密特系统是在球面反射镜的球心位置上加装消除球差的改正板，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种折反式大口径大视场成像系统，其特征在于：沿光轴由外至内依次设置有：折射式改正板、反射式主镜和折射式改正镜组；其中的改正板第二面中心区域镀有反射膜层，成为反射式次镜；入射光线经所述折射式改正板照射至所述反射式主镜，反射式主镜将入射光线反射至所述反射式次镜；该反射式次镜将光线反射至所述折射式改正镜组，经过改正镜组的光线汇聚在光学系统焦平面上。

【技术特征摘要】
1.一种折反式大口径大视场成像系统，其特征在于：沿光轴由外至内依次设置有：折射式改
正板、反射式主镜和折射式改正镜组；其中的改正板第二面中心区域镀有反射膜层，成为反
射式次镜；入射光线经所述折射式改正板照射至所述反射式主镜，反射式主镜将入射光线反
射至所述反射式次镜；该反射式次镜将光线反射至所述折射式改正镜组，经过改正镜组的光
线汇聚在光学系统焦平面上。
2.根据权利要求1所述的折反式大口径大视场成像系统，其特征在于：所述折射式改正板设
置在反射式主镜焦点以内，其第一面为非球面，第二面为球面且中心区域镀有反射膜层，用
作成像系统的反射式次镜。
3.根据权利要求2所述的折反式大口径大视场成像系统，其特征在于：所述折射式改正板的
非球面通过公式(1)进行确定：
z=cr21+1-(1+k)c2r2+...

【专利技术属性】
技术研发人员：寇松峰，杜锬淼，王国民，姜翔，
申请(专利权)人：中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所，
类型：发明
国别省市：江苏;32