成像系统和成像方法技术方案

本发明专利技术涉及一种成像系统，其带有用于发出辐射的辐射源、具有规则的探测器元件阵列的辐射探测器和具有规则重复的图案的荫罩。所述荫罩和所述辐射探测器这样布置，以便在所述探测器位置处通过所述辐射产生所述荫罩的图案的投影。所述图案的无失真投影的空间重复长度不同于所述探测器元件阵列的空间重复长度的二倍。本发明专利技术还涉及一种成像方法，其中应用根据前述权利要求之一所述的成像系统，以借助辐射探测器来测量由待检查对象造成的、所述荫罩的图案在辐射探测器的位置处的投影的位移。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及一种成像系统，其具有用于发出辐射的辐射源、辐射探测器和荫罩。此外，本专利技术还涉及使用这样的系统来成像的方法。本专利技术特别地涉及一种具有X射线源的成像系统和一种成像方法，在该方法中使用了X射线辐射。在用于X射线成像的已知系统中通常测量由于待检查对象，如人体部位的材料而造成的X射线辐射强度的衰减。X射线辐射在待检查对象中的吸收和散射在此造成了撞击到探测器上的辐射的衰减，所述衰减取决于质量、核电荷数和所透射的材料体积。在应用像素探测器的情况下，获得的则是在对象的各个位置上有所变化的质量衰减的图像。在此方面，在简单的X光透视的情况下获得了来自投影方向的二维图像，而与此相对地在计算机断层扫描术的情况下，由大量不同的、以不同投影方向得到的透视测量结果重组为衰减系数的三维数据组。对X射线强吸收的组织，如骨头和钙沉淀物能够通过已知的吸收成像方法很好地呈现。更大的挑战是实现对软组织的高对比度，以便能够较好地绘制出各种弱吸收的组织类型之间的与诊断相关的差异。为了改进X射本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成像系统(1)，其带有‑用于发出辐射(5)的辐射源(3)，‑辐射探测器(13)，其具有规则的探测器元件(13i)阵列，‑荫罩(15)，其具有规则重复的图案，其中，所述荫罩(15)和所述辐射探测器(13)这样布置，以便在所述探测器(13)位置处通过所述辐射(5)产生所述荫罩(15)的图案的投影(25,25')，并且其中，所述图案的无失真投影(25)的空间重复长度(26)不同于所述探测器元件(13i)阵列的空间重复长度(14)的二倍。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.10.28 DE 102013221818.41.一种成像系统(1)，其带有
-用于发出辐射(5)的辐射源(3)，
-辐射探测器(13)，其具有规则的探测器元件(13i)阵列，
-荫罩(15)，其具有规则重复的图案，
其中，所述荫罩(15)和所述辐射探测器(13)这样布置，以便在所述探测
器(13)位置处通过所述辐射(5)产生所述荫罩(15)的图案的投影(25,25')，
并且其中，所述图案的无失真投影(25)的空间重复长度(26)不同于所述
探测器元件(13i)阵列的空间重复长度(14)的二倍。
2.根据权利要求1所述的成像系统(1)，其中，所述图案的无失真投影
(25)的空间重复长度(26)相对于所述探测器元件(13i)阵列的空间重复长度(14)
的二倍偏差至少0.5％和最高20％。
3.根据权利要求1或2所述的成像系统(1)，其中，所述图案的投影(25)
的空间重复长度(26)和所述探测器元件(13i)阵列的空间重复长度(14)的两倍
成整数比例，该整数分别处于1至100之间。
4.根据前述权利要求之一所述的成像系统(1)，其中，所述辐射源(1)为
X射线源，所述辐射探测器(13)为X射线探测器。
5.根据前述权利要求之一所述的成像系统(1)，其中，用于定位待检查
对象(12)的成像区域(11)布置在所述荫罩(15)与所述辐射探测器(13)之间。
6.根据前述权利要求之一所述的成像系统(1)，其中，所述荫罩(15)具有
二维规则图案，所述辐射探测器(13...

【专利技术属性】
技术研发人员：O海德，
申请(专利权)人：西门子公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE