阵列基板及其制作方法、液晶显示装置制造方法及图纸

本申请公开了一种阵列基板及其制作方法、液晶显示装置，所述阵列基板包括：设置于基板上的多个凸起结构，覆盖于所述凸起结构上的反射层，以及覆盖于所述反射层上的透明电极层，其中，所述凸起结构包括栅极层、非晶硅层、源漏极层、绝缘层和钝化层。上述用于全反射的阵列基板可以只包括栅极层、非晶硅层、源漏极层、绝缘层钝化层、反射层和透明电极层，而不需要有机层和有机凸起层，可以简化阵列基板的制作工艺，降低成本。

【技术实现步骤摘要】

本申请一般涉及显示
，尤其涉及阵列基板及其制作方法以及包括该阵列基板的液晶显示装置。
技术介绍
液晶显示装置具有低辐射和低功耗等优点，现已广泛的应用于各种显示领域。根据采用的光源不同，液晶显示装置可以分为使用内置背光源的透射式液晶显示装置、反射环境光的反射式液晶显示装置以及将透射与反射结合起来的半反半透式液晶显示装置。对于透射式液晶显示装置，其内置背光源需处于常开状态，功耗大，并且当液晶显示装置处于户外且阳光过强时，显示器上图像不能清晰显示。半反射半投射式液晶显示装置，其利用内置的反射层，使得环境中的光源入射到反射层之后反射，然后从像素区域投射出去，以达到显示目的，但是该种液晶显示装置采用偏振光的原理，所以发光效率低，亮度和对比度低。而全反射式液晶显示装置可反射外界光源，然后通过对反射光进行调制而显示图像，可极大地降低功耗。图1示出了现有技术中全反射式液晶显示装置的阵列基板的结构示意图，现有的全反射式液晶显示装置通常需要在阵列基板101上形成绝缘层102、钝化层10本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：设置于基板上的多个凸起结构，覆盖于所述凸起结构上的反射层，以及覆盖于所述反射层上的透明电极层，其中，所述凸起结构包括栅极层、非晶硅层、源漏极层、绝缘层和钝化层。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：设置于基板上的多个凸起结构，覆盖于所述凸起
结构上的反射层，以及覆盖于所述反射层上的透明电极层，其中，所述凸起结构包括栅极
层、非晶硅层、源漏极层、绝缘层和钝化层。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起结构中的栅极层、绝缘层、非
晶硅层、源漏极层和钝化层沿第一方向依次设置，其中，所述第一方向与所述基板的上表面
垂直，所述栅极层包括多个栅极层图案，所述栅极层图案的形状为第一凸台，所述第一凸台
包括顶面、底面和侧面，其中，所述底面和所述顶面相互平行；
所述绝缘层至少完全覆盖各所述第一凸台的顶面和侧面，所述非晶硅层完全覆盖于所
述栅极层上的绝缘层的顶面和外侧面，所述源漏极层完全覆盖于所述非晶硅层的顶面和外
侧面，所述钝化层至少完全覆盖于所述源漏极层的顶面和外侧面。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起结构中的栅极层、绝缘层、非
晶硅层、源漏极层和钝化层沿所述第一方向依次设置，其中，所述第一方向与所述基板的上
表面垂直，所述栅极层包括多个栅极层图案，所述栅极层图案的形状为第一凸台，所述第一
凸台包括顶面、底面和侧面，其中，所述底面和所述顶面相互平行；
所述绝缘层至少完全覆盖各所述第一凸台的顶面和侧面，所述非晶硅层至少部分覆盖
所述栅极层上的绝缘层的顶面，其中，所述非晶硅层包括多个形状为第二凸台的非晶硅，所
述第二凸台包括顶面、底面和侧面，其中，所述底面和所述顶面相互平行；
所述源漏极层至少部分覆盖各所述非晶硅的顶面，其中，所述源漏极层包括多个形状
为第三凸台的源漏极，所述第三凸台包括顶面、底面和侧面，其中，所述底面和所述顶面相
互平行；
所述钝化层至少完全覆盖所述源漏极层的顶面和侧面、所述非晶硅的侧面、所述绝缘
层的侧面。
4.根据权利要求2或3所述的阵列基板，其特征在于，任意一所述凸起结构中的源漏极
层与该凸起结构中的非晶硅层在第二方向上的长度差为a，所述非晶硅层与该凸起结构中
的栅极层在所述第二方向上的长度差为b，所述栅极层与该凸起结构中的绝缘层在所述第
二方向上的长度差为c，其中，a≥0，b≥0，c≥1×10-6米，所述第二方向与所述第一方向垂
直。
5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板上，所述透明电极层上
的任意二点在第一方向上的高度差的最大值S满足：1×10-6米≤S≤1.3×10-6米。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，至少两个所述凸起结构中的第一凸台
相连接。
7.一种液晶显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-6之一所述的阵列基板。
8.一种阵列基板的制作...

【专利技术属性】
技术研发人员：席克瑞，朱娟，杜雷，周一安，
申请(专利权)人：上海中航光电子有限公司，天马微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31