【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种用于制造反射像素的方法,该方法包括:提供带有导电层并且由CMOS衬底上的下层柱支撑的硅层;在第一光刻胶掩模的间隙中刻蚀穿所述导电层和所述硅层,以限定与所述硅层中的可动铰链部分相邻的开口;在由所述导电层上的被图案化的第二光刻胶掩模所限定的过孔中沉积反射材料;以及去除所述第二光刻胶掩模留下所述反射材料,所述反射材料被所述过孔的此前位置处的凸出物支撑在所述导电层和铰链之上。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄克刚,杨晓,陈东敏,
申请(专利权)人:明锐有限公司,
类型:发明
国别省市:US[美国]
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