本发明专利技术涉及显示技术领域，公开了一种制作隔垫物的方法、基板、显示面板及显示装置，该方法包括在基板上形成隔垫物材料薄膜；对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光，且任意相邻两次曝光的区域部分重叠或不重叠；去除所述隔垫物材料薄膜中未曝光的区域的隔垫物材料。本发明专利技术提供的制作隔垫物的方法，在基板上形成隔垫物时，通过多次曝光工艺增加了隔垫物在基板上的覆盖面积，避免隔垫物结构在Touch工艺过程中发生破碎或者剥离，提高了隔垫物结构的可靠性。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种制作隔垫物的方法、基板、显示面板及显示装置。
技术介绍
液晶显示器由于零辐射、低功耗、散热小、体积小、图像还原精确、字符显示锐利等优点，已广泛替代了传统CRT(Cathode Ray Tube)显示装置。液晶显示器主要包括彩膜基板、阵列基板以及夹设于二者之间液晶，为了维持液晶显示器中彩膜基板与阵列基板之间的盒厚，通常需要在彩膜基板上形成隔垫物(PS)。然而对于高密度像素显示装置也即高PPKPixels Per Inch)显示装置来说，像素的尺寸较小，相应地设置在彩膜基板上的黑矩阵的尺寸也较小，因此对于隔垫物形状的尺寸设计有着诸多限制。若隔垫物设计尺寸过大，再加上形成的位置出现变差，就可能导致隔垫物侵入像素区域。若隔垫物的设计尺寸过小，一方面PS的弹性能力难以达到支撑要求;另一方面PS尺寸减小之后容易产生信赖性问题，也即在Touch工艺过程中PS容易发生破碎或者剥离。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是:如何提高基板上隔垫物结构的可靠性。为实现上述的专利技术目的，本专利技术提供了一种制作隔垫物的方法、基板、显示面板及显示装置。依据本专利技术的第一方面，提供了一种制作隔垫物的方法，包括:在基板上形成隔垫物材料薄膜；对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光，且任意相邻两次曝光的区域部分重叠或不重叠；去除所述隔垫物材料薄膜中未曝光的区域的隔垫物材料。优选地，所述对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光包括:采用同一掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光。优选地，采用同一掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光包括:采用所述掩膜版对所述隔垫物材料薄膜进行第一次曝光；移动所述掩膜版，然后对所述隔垫物材料薄膜进行第二次曝光。优选地，所述基板包括呈矩阵排列的多个像素单元，所述掩膜版移动的方向为像素单元排列的行方向或列方向。优选地，所述掩膜版包括遮光区域和多个透光区域，每一个所述透光区域的形状为圆形或矩形。依据本专利技术的第二方面，提供了一种基板，其中该基板具有上述所述的方法制成的隔垫物。优选地，所述基板为彩膜基板。优选地，所述基板为阵列基板。依据本专利技术的第三方面，提供了一种显示面板，包括上述所述的基板。依据本专利技术的第四方面，提供了一种显示装置，包括上述所述的显示面板。本专利技术提供的制作隔垫物的方法，在基板上形成隔垫物时，通过多次曝光工艺增加了隔垫物在基板上的覆盖面积，避免隔垫物结构在Touch工艺过程中发生破碎或者剥离，提高了隔垫物结构的可靠性。【附图说明】通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本专利技术的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中:图1是本专利技术提供的一种制作隔垫物的方法流程图；图2-图5是本专利技术提供的一种制作隔垫物的示意图；图6是本专利技术提供的一种显示面板的示意图。【具体实施方式】下面结合附图和实施例，对本专利技术的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。本专利技术提供了一种制作隔垫物的方法，包括:在基板上形成隔垫物材料薄膜；对隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光，且任意相邻两次曝光的区域部分重叠或不重叠；去除隔垫物材料薄膜中未曝光的区域的隔垫物材料。本专利技术提供的制作隔垫物的方法，通过多次曝光工艺增加了隔垫物在基板上的覆盖面积，避免隔垫物结构在Touch工艺过程中发生破碎或者剥离，提高了隔垫物结构的可靠性。如图1所示，本专利技术实施方式提供了一种制作隔垫物的方法，包括:SlOl、在基板上形成隔垫物材料薄膜；S102、对隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光，且任意相邻两次曝光的区域部分重叠或不重叠；S103、去除隔垫物材料薄膜中未曝光的区域的隔垫物材料。由于在对应的掩膜板不透光区域的隔垫物材料没有经过光照而固化，因此可以采用显影液将其溶解除去，最终经过曝光的区域形成隔垫物。其中，在步骤S102中，为了简化曝光的工艺流程，使曝光所需要的工艺参数不发生较大变更，在对隔垫物材料薄膜进行曝光时，可以采用同一掩膜版对隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光，使整个曝光工艺过程中无需更换掩膜版，提高了曝光流程的效率。优选地，采用同一掩膜版对隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光可以为:采用掩膜版对隔垫物材料薄膜进行第一次曝光;再移动掩膜版，对隔垫物材料薄膜进行第二次曝光，两次曝光的区域部分重叠或不重叠；例如，对于图2所示的基板，其包括呈矩阵排列的多个像素单元I，在第一次曝光之后掩膜版移动的方向可以为像素单元排列的行方向或列方向，例如，若在相邻的两行像素单元之间制作隔垫物，首先如图3所示在基板上采用负性光刻胶材料形成一层隔垫物材料薄膜20，然后采用掩膜版对其进行第一次曝光，该掩膜版包括遮光区域和多个透光区域，通过该第一次曝光从而在隔垫物材料薄膜20上形成多个曝光区域21(每一个曝光区域21对应掩膜版上的一个透光区域)，然后在行方向上移动该掩膜版，移动后进行第二次曝光，并使该第二次曝光的区域与第一次曝光的区域部分重叠，从而在隔垫物材料薄膜20形成如图4所示的曝光区域22，而后再对该隔垫物材料薄膜20进行显影处理，去除隔垫物材料薄膜20上未曝光区域上的隔垫物材料，从而形成如图5所示的隔垫物2，在上述的制作工艺中，通过第二次曝光使隔垫物材料薄膜20上的曝光区域在行方向上扩展，既可以有效增大最终形成的隔垫物在行方向上的尺寸，同时又可以保证隔垫物在列方向上的尺寸不变，避免最终形成的隔垫物侵入到像素单元I中造成显示不良的现象。此外，对于上述工艺形成的基板，为了避免多个隔垫物在行方向上的覆盖面积过大，阻碍基板在经过对盒工艺后盒内液晶的流动，优选地，如图5所示，所形成的每个隔垫物2在行方向上的尺寸d小于像素单元3在行方向上的尺寸D，避免隔垫物尺寸过大从而阻碍液晶流动，保证盒内液晶可以自由流动。需要说明的是，本专利技术实施方式提供的掩膜版上透光区域的形状可以为圆形，也可以为其他形状，例如矩形等。本专利技术实施方式提供了一种基板，该基板包括利用上述方法形成的隔垫物。例如，该基板可以为液晶显示面板中的彩膜基板，也可以为液晶显示面板中的阵列基板。本专利技术实施方式还提供了一种显示面板，包括上述基板。参见图6，图6是本专利技术实施方式提供的一种显示面板的示意图，该显示面板包括相对设置的彩膜基板100和阵列基板200，；其中，彩膜基板100上设置有黑矩阵层110、彩色滤光层120、保护层130以及采用上述制作方法制作的隔垫物2，其中，黑矩阵层110的厚度可以为1.1?1.4μπι，例如可以为1.2μm;彩色滤光层120的厚度可以为I?3μηι，例如可以为2μηι;保护层130的厚度可以为1.6?1.8μηι，例如可以为1.7μηι;阵列基板200上设置有栅线、数据线、薄膜晶体管、像素电极、保护层210等结构。此外，本专利技术实施方式还提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。其中，本专利技术实施方式提供的显示装置可以是笔记本电脑显示屏、液晶显示器、液晶电视、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件。以上实施方式仅用于说明本专利技术，而并非对本专利技术的限制，有关
的普通技术人员，在不脱离本发本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种制作隔垫物的方法，其特征在于，包括：在基板上形成隔垫物材料薄膜；对所述隔垫物材料薄膜进行至少两次曝光，且任意相邻两次曝光的区域部分重叠或不重叠；去除所述隔垫物材料薄膜中未曝光的区域的隔垫物材料。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：赵承潭，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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