【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体设备领域,特别涉及一种晶圆测量装置。
技术介绍
在半导体专用设备制造过程中,测量是晶圆磨削过程中的关键步骤。现代化的生产设备中,晶圆磨削设备通常不具备测量装置,测量与磨削一般无法同时进行,晶圆在磨削设备的承片台上,需承片台停下后再进行测量或者取下晶圆在测厚仪上测量。这样,不仅影响了设备磨削的工作效率,浪费了大量时间,造成工时的损失,而且磨削完成后进行测量不能实时监控整机运行状态,实时调整设备进给速度及旋转速度,影响整机设备的旋转精度、磨削质量,从而影响设备的稳定性。
技术实现思路
本专利技术提供了一种晶圆测量装置,其目的是为了解决现有的晶圆磨削设备不具备测量装置,导致影响磨削的工作效率、整机设备的旋转精度以及磨削质量的问题。为了达到上述目的,本专利技术的实施例提供了一种晶圆测量装置,包括:基座、支撑板、支架、测量结构以及两个斜筋板;其中,基座用于与晶圆磨削设备相连,支撑板的两端分别与基座、支架连接;两个斜筋板的一端与支架连接,另一端分别固定在基座的两侧并通过穿设轴销固定;支架包括相互连接成T形的第一结构部和第二结构部,第一结构部垂直连 ...
【技术保护点】
一种晶圆测量装置,其特征在于,包括:基座(1)、支撑板(2)、支架(3)、测量结构(4)以及两个斜筋板(5);其中,所述基座(1)用于与晶圆磨削设备相连,所述支撑板(2)的两端分别与所述基座(1)、支架(3)连接;所述两个斜筋板(5)的一端与所述支架(3)连接,另一端分别固定在所述基座(1)的两侧并通过穿设轴销(6)固定;所述支架(3)包括相互连接成T形的第一结构部(7)和第二结构部(8),所述第一结构部(7)垂直连接于所述第二结构部(8)的中部;所述支撑板(2)、斜筋板(5)分别与所述第一结构部(7)连接;所述测量结构(4)设有两个,分别设置在所述第二结构部(8)的两端; ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:贺东葛,衣忠波,张景瑞,张敏杰,刘宇光,
申请(专利权)人:北京中电科电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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