氧化物烧结体、氧化物溅射靶和导电性氧化物薄膜以及氧化物烧结体的制造方法技术

本发明专利技术涉及氧化物烧结体、氧化物溅射靶和导电性氧化物薄膜以及氧化物烧结体的制造方法。一种氧化物烧结体，其特征在于，包含铟(In)、钛(Ti)、锌(Zn)、锡(Sn)和氧(O)，In的含量相对于Ti的含量以原子数比计满足关系式3.0≤In/Ti≤5.0，Zn和Sn的含量相对于In和Ti的含量以原子数比计满足关系式0.2≤(Zn+Sn)/(In+Ti)≤1.5，Zn的含量相对于Sn的含量以原子数比计满足关系式0.5≤Zn/Sn≤7.0。该氧化物烧结体的体积电阻率低，能够进行DC溅射，并且能够形成透明且高折射率的导电膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及氧化物烧结体、氧化物溅射靶和导电性氧化物薄膜以及氧化物烧结体 的制造方法，特别是涉及适合用于形成高透射率且高折射率、非晶的导电性氧化物薄膜的 氧化物烧结体溅射靶。
技术介绍
在显示器、触控面板等各种光学器件中，在利用可见光的情况下，所使用的材料需 要是透明的，特别是在可见光区域的整个区域内期望具有高透射率。另外，在各种光学器件 中，有时会发生由与构成的膜材料、基板的界面处的折射率差引起的光损失；作为改善这些 光损失的方法，有引入用于调节折射率、光学膜厚的光学调节膜的方法。光学调节膜所要求 的折射率根据各种器件的结构而不同，因此需要宽范围的折射率。另外，根据使用的场所， 有时也需要导电性。 另外，作为光学调节膜所需要的特性，以往主要是折射率、消光系数（高透射率）， 然而近年来为了更高性能化，除了折射率、消光系数（高透射率）以外，还要求导电性、蚀刻 性（可蚀刻）、耐水性、非晶膜等多种特性的共存。为了使这样的多种特性共存，在单独的氧 化物膜的情况下难以实现，需要混合有多种氧化物的复合氧化物膜。特别是混合有三元以 上的氧化物的复合氧化物膜是有效的。 通常作为透明且本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氧化物烧结体，其特征在于，包含铟(In)、钛(Ti)、锌(Zn)、锡(Sn)和氧(O)，In的含量相对于Ti的含量以原子数比计满足关系式3.0≤In/Ti≤5.0，Zn和Sn的含量相对于In和Ti的含量以原子数比计满足关系式0.2≤(Zn+Sn)/(In+Ti)≤1.5，Zn的含量相对于Sn的含量以原子数比计满足关系式0.5≤Zn/Sn≤7.0。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：奈良淳史，
申请(专利权)人：吉坤日矿日石金属株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP