涡型旋流反应釜制造技术

技术编号:13092707 阅读:110 留言:0更新日期:2016-03-30 19:56
本实用新型专利技术涉及一种涡型旋流反应釜。该反应釜釜体由圆柱体和圆锥体底部构成,釜体内壁设有弧形结构的涡型扰流板,涡型扰流板上端自釜顶部往下30cm,沿釜壁卸向下成弧形,下端与釜体中的圆柱体底部齐平,横向长度为1/8釜内壁圆周圆锥体底部带有出料孔,釜体外壁设有对称分布的悬挂搭耳。本实用新型专利技术彻底解决了溶液流向不规律,合成后的固体颗粒形态不稳定的问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种反应釜,尤其是一种涡型旋流反应釜
技术介绍
传统的反应釜,挡流板沿反应釜壁呈垂直方向设置,在搅拌带动的溶液经过反应釜壁上挡流板时,液流向反应釜中间折返,在反应釜中造成絮流,导致溶液流向无规律,在合成反应时所生成的固体颗粒形态不稳定。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种结构简单,方便实用的涡型旋流反应釜。本技术是通过下列技术方案来解决:釜体由圆柱体和圆锥体底部构成,釜体内壁设有弧形结构的涡型扰流板,圆锥体底部带有出料孔,釜体外壁设有对称分布的悬挂搭耳。优选地,涡型扰流板上端自釜顶部往下30cm,沿釜壁卸向下成弧形,下端与釜体中的圆柱体底部齐平,横向长度为1/8釜内壁圆周。本技术的有益效果是通过在反应釜内壁设置弧形结构的涡型扰流板,在反应过程中当搅拌带动的溶液经过涡型扰流板时,液流顺涡型扰流板方向向下形成固定旋流,彻底解决了溶液流向不规律,合成后的固体颗粒形态不稳定的问题。【附图说明】图1是本技术实施例的剖面结构示意图。图2是本技术实施例的俯视结构示意图。【具体实施方式】下面结合实施例附图对本技术进一步说明。如图所示,该实施例包括釜体1、涡型扰流板3、其中釜体1由圆柱体和圆锥体底部构成,釜体1内壁设有相间均匀分布的涡型扰流板3,涡型扰流板3上端自釜顶部往下30cm,沿釜壁卸向下成弧形,下端与釜体中的圆柱体底部齐平,横向长度为1;/8釜体i内壁圆周,圆锥体底部带有出料孔3,釜体1外壁设有对称分布的悬挂搭耳2。在使用过程中,搅拌桶悬挂搭耳2固定在钢结构或其他基础上,在反应过程中,由搅拌带动的物料混合液经过涡型扰流板3时顺扰流板方向形成固定方向的带旋流的固液混合流,促进了合成后的物料晶体按照固有的规律进行生长,从而得到可控形态的物料,当合成完成后,打开出料口 4放出合成后的物料进行过滤。【主权项】1.一种涡型旋流反应釜,包括由圆柱体和圆锥体底部构成的釜体,其特征在于:釜体内壁设有弧形结构的涡型扰流板,圆锥体底部带有出料孔,釜体外壁设有对称分布的悬挂搭耳。2.按权利要求1所述的涡型旋流反应釜,其特征在于:涡型扰流板上端自釜顶部往下30cm,沿釜壁卸向下成弧形,下端与釜体中的圆柱体底部齐平,横向长度为1/8釜内壁圆周。【专利摘要】本技术涉及一种涡型旋流反应釜。该反应釜釜体由圆柱体和圆锥体底部构成,釜体内壁设有弧形结构的涡型扰流板,涡型扰流板上端自釜顶部往下30cm,沿釜壁卸向下成弧形,下端与釜体中的圆柱体底部齐平,横向长度为1/8釜内壁圆周圆锥体底部带有出料孔,釜体外壁设有对称分布的悬挂搭耳。本技术彻底解决了溶液流向不规律,合成后的固体颗粒形态不稳定的问题。【IPC分类】B01J19/00【公开号】CN205109610【申请号】CN201520823236【专利技术人】罗丰 【申请人】上饶市鼎鑫金属化工有限公司【公开日】2016年3月30日【申请日】2015年10月23日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涡型旋流反应釜,包括由圆柱体和圆锥体底部构成的釜体,其特征在于:釜体内壁设有弧形结构的涡型扰流板,圆锥体底部带有出料孔,釜体外壁设有对称分布的悬挂搭耳。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:罗丰
申请(专利权)人:上饶市鼎鑫金属化工有限公司
类型:新型
国别省市:江西;36

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