洁齿剂组合物制造技术

技术编号:13071093 阅读:177 留言:0更新日期:2016-03-24 10:46
本发明专利技术公开洁齿剂组合物,其包含口腔可接受的媒介物和处于聚合物基质中的至少一种佥属离子源,所述金属选自锌、锡、铜或其组合,至少一种金属离子源占聚合物基质和至少一种金属离子源的总重量的从10至75wt%,且其中洁齿剂组合物包含少于基于洁齿剂组合物的总重量的10wt%的水。本发明专利技术还公开了使至少一种金属离子源在洁齿剂组合物中稳定的方法。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】洁齿剂组合物 阳OOU 本申请是申请日为2010年5月25日,申请号为201080023796. 2(国际申请号为 PCT/US2010/036041),专利技术名称为"洁齿剂组合物"的专利技术专利申请的分案申请。 相关申请的交互参考 本申请要求2009年5月26日提交的美国临时专利申请号61/181,116和2009年 5月26日提交的美国临时专利申请号61/181,124的优先权,两者均通过参考结合于本文。 专利
本专利技术设及洁齿剂组合物和使洁齿剂组合物中的金属离子稳定的方法。专利技术背景 已知提供包含用于在刷牙期间递送至口腔的金属离子源的洁齿剂组合物。运样的 金属离子可作为治疗剂。某些金属离子在洁齿剂组合物中趋于不稳定,特别是当洁齿剂组 合物包含在使用之前的制备或储存洁齿剂组合物期间可与金属离子起反应的组分。此在当 使用所述洁齿剂刷牙期间减少金属离子在口腔表面的递送和生物利用度。 美国专利号6, 669, 929度oyd等)和相关的美国专利申请公布号2004/0126332和 2008/0138369公开了含功能性膜鱗片(functionalfilmflakes)的洁齿剂。所述膜鱗片 由能水合的膜形成,该膜形成在其中夹带可为治疗性材料,或化妆品或修饰性材料的成分 的基质。公开了多种治疗剂材料,包括作为抗離齿(anticavities)剂的氣化物盐、巧盐、抗 牙垢(antical州lus)剂,和包括抗菌剂、口气清新剂化reathfresheningagents)、脱敏 剂、维生素、草药、增白剂、高效清洁娃石、防腐剂、娃树脂或叶绿素化合物的其它活性剂。确 定的口气清新剂是葡萄糖酸锋、巧樣酸锋和/或α-紫罗兰酬。 本领域需要提供能够在当用洁齿剂刷牙期间增强金属离子在口腔表面的递送和 生物利用度的改良的洁齿剂组合物。 还有在维持金属离子在低水洁齿剂中稳定性的同时,增强金属离子,诸如来自洁 齿剂的锋、锡和铜的递送和生物利用度的需要。 专利技术简述 在第一方面,本专利技术提供包含口腔可接受的媒介物(vehicle)和处于聚合物基质 中的至少一种金属离子源的洁齿剂组合物,所述金属选自锋、锡、铜或其组合,至少一种金 属离子源占聚合物基质和至少一种金属离子源的总重量的10至75wt%,且其中的洁齿剂 组合物包含少于基于洁齿剂组合物总重量的lOwt%的水。 在第二方面,本专利技术提供使至少一种金属离子源在包含口腔可接受的媒介物的洁 齿剂组合物中稳定的方法,该方法包括W下步骤:提供处于聚合物基质中的至少一种金属 离子源,所述金属选自锋、锡、铜或其组合,至少一种金属离子源占聚合物基质的总重量的 10至75wt% ;和将聚合物基质与口腔可接受的媒介物结合,W形成包含少于基于洁齿剂组 合物总重量的lOwt%的水的、稳定的洁齿剂组合物。 口腔可接受的媒介物可包括至少一种憐酸盐化合物。 本专利技术是W本专利技术人的发现为基础的,所述发现为如果洁齿剂组合物具有低含水 量和金属离子处于聚合物基质中,可使有效治疗量的金属离子在洁齿剂组合物中保持高度 稳定的形式,所述基质可起保护金属离子免于与洁齿剂组合物的媒介物中的其它组分过早 反应或被所述其它组分降解的作用。 阳〇1引专利技术详述 应该理解,虽然指明了本专利技术的实施方案的详细的描述及特定实施例仅仅是为了 对本专利技术进行说明而并不打算对本专利技术的范围进行限制。 下面的定义和非限制性指导原则必须在评述在此提出的本专利技术说明书时考虑。本 文所用的标题(诸如"专利技术背景"和"简述")和副标题(诸如"组合物")仅仅是对本专利技术 的公开范围内主题的大体组织,而并不意欲限制本专利技术或它任何方面的公开。特别是,在 "专利技术背景"中公开的主题可包括本专利技术范围内的技术方面,而不可W构成对先有技术的叙 述。在"简述要"中公开的主题不是本专利技术的整个范围或其任何实施方案的详尽或完整的 公开。对具有特别用途的说明章节中材料的分类或讨论(例如,"活性的"或"载体"成分) 仅是为了方便起见,而不是在其用于任何给定的组合物时都应得出材料必须起到符合其在 此分类时所必需的或唯一的作用的推断。 此处对参考文献的引用不会构成运样一种认可,即那些参考文献是先有技术或者 与在此公开的本专利技术的专利性有任何关系。在本专利技术背景中引用的任何参考文献内容的讨 论仅仅打算提供由参考文献的作者做出的大体的认定,而不构成关于运些参考文献内容的 精确性的认可。 虽然说明了本专利技术的实施方案,但本说明书及特定实施例仅仅是为了举例说明的 目的而并不打算限制本专利技术的范围。此外,对多个具有规定特征的实施方案的详述并不打 算排除具有另外的特征的其它实施方案,或者合并了不同规定特征组合的其它实施方案。 提供特定的实施例是为了阐述如何制备组合物和使用本专利技术组合物的方法,除非另外明确 指明,否则并不意味着表示给出的本专利技术实施方案已经制备或没有制备或者已经测试或没 有测试。 如在此所用的,单词"优选的"和"优选地"指的是在某些情况下提供一定利益的本 专利技术的实施方案。然而,其它在相同或其它情况下,其它实施方案也可W是优选的。此外, 对一个或多个优选的实施方案的详述并不意味着其它实施方案是没用的,也不打算排斥本 专利技术范围内的其它实施方案。另外,所述组合物和方法可包含本文描述的要素,基本由本文 描述的要素组成或由本文描述的要素组成。 如在此所用的,意欲使单词"包括",W及它的变体为非限定性的,运样在清单中 的项目的详述不排斥其它也可用于本专利技术的材料,组合物,装置,W及方法中的其它类似项 目。 如在本文使用的,术语"约",当用于本专利技术的组合物或方法的参数的值时,指的是 所述值的计算或测量允许某些微小的不精确性,而对组合物或方法的化学或物理属性没有 实质性的影响。为了某些理由,如果由"约"产生的不精确在本领域不被另外理解为其常规 含义,那么如用于本文的"约"指所述值的最多至5%的可能变化。 如在此所指出的,所有的组成百分率都是在基于整个组合物总重量计的,除非另 有规定。 紀合物在一实施方案中,本专利技术提供包含口腔可接受的媒介物和处于聚合物基质中的至 少一种金属离子源的洁齿剂组合物,所述金属选自锋、锡、铜或其组合,至少一种金属离子 源占聚合物基质和至少一种金属离子源的总重量的10至75wt%,且其中洁齿剂组合物包 含少于基于洁齿剂组合物总重量的lOwt%的水。 任选地,至少一种金属离子源占聚合物基质和至少一种金属离子源的总重量的20 至60wt%。 聚合物基质和至少一种金属离子源可构成洁齿剂组合物的总重量的1至5wt%, 任选洁齿剂组合物的总重量的1至2wt%。 在某些实施方案中,金属离子源包括巧樣酸锋、乳酸锋、葡萄糖酸锋或氧化锋中的 至少一种。在其它实施方案中,金属离子源包括氯化亚锡、氣化亚锡或氧化亚锡中的至少一 种。在又一个实施方案中,金属离子源包括硫酸铜。任何运些源可W其任何组合合并。 洁齿剂组合物可包含选自Ξ聚憐酸钢和聚憐酸四钢(tetrasodium poly地os地ate)的至少一种憐酸盐。典型地,洁齿剂组合物包含基于洁齿剂组合物总重量 的1至5wt%的量的Ξ聚憐酸钢和基于洁齿剂组合物总重量的0.25至5wt%的量的聚憐酸 四钢。 在某些实施方案中,金属离子源包含占聚合物基质和至少一种本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种包含口腔可接受的媒介物和被包囊在膜的形式的聚合物基质中的至少一种金属离子源的洁齿剂组合物,所述金属选自锌、锡、铜或其组合,所述至少一种金属离子源占聚合物基质和所述至少一种金属离子源的总重量的10至75wt%,且其中的洁齿剂组合物包含少于基于洁齿剂组合物的总重量的10wt%的水;和其中的洁齿剂组合物包含至少一种选自三聚磷酸钠和聚磷酸四钠的磷酸盐;其中的聚合物基质和所述至少一种金属离子源占洁齿剂组合物的总重量的1至5wt%,优选其中所述至少一种金属离子源占聚合物基质和所述至少一种金属离子源的总重量的20至60wt%,优选其中的聚合物基质和所述至少一种金属离子源占洁齿剂组合物的总重量的1至2wt%,优选其中的金属离子源包括柠檬酸锌、乳酸锌、葡萄糖酸锌或氧化锌中的至少一种,优选其中的金属离子源包括氯化亚锡、氟化亚锡或氧化亚锡中的至少一种,优选其中的金属离子源包括硫酸铜。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:A摩根V波特M马蒂内蒂M普伦西普
申请(专利权)人:高露洁棕榄公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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