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一种在可见光下具有高催化降解活性的钼掺杂TiO2纳米线/石墨烯复合物的制法制造技术

技术编号:12899337 阅读:174 留言:0更新日期:2016-02-24 10:12
一种在可见光下具有高催化降解活性的钼掺杂TiO2纳米线/石墨烯复合物的制法,属于光催化剂制备的技术领域。本发明专利技术采用TiO2和氧化石墨烯为原料,以四水合七钼酸铵为金属钼源,经碱性水热和煅烧处理,最终得到钼掺杂TiO2纳米线/石墨烯复合物。合成的钼掺杂TiO2纳米线/石墨烯复合物对有机污染物的吸附能力增强,对可见光有较强的吸收能力,可延长电子-空穴对的寿命,对有机污染物催化降解能力增强,其最好降解率是TiO2纳米线的2.28倍,是钼掺杂TiO2纳米线的1.91倍,具有较高的实际应用价值。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种在可见光下具有高催化降解活性的钼掺杂T12,属于光催化剂制备的

技术介绍
自从二十世纪70年代初史无前例地发现了1102的光催化活性,它就由于其廉价的成本、高的化学稳定性和对环境无害性等诸多优势,在过去的几十年间在催化领域受到广泛研究。然而,其相对较宽的带隙和光生电子空穴对迅速的复合导致其对可见光吸收缺乏(λ〈380ηπι),以及几乎90%的光生载流子的丢失。因此,研究者采取了很多措施来修饰原始的T12,例如掺杂、贵金属沉积、构建特殊的几何机构、与其他半导体、金属氧化物和碳材料复合(RSC Advances,2014,4,1120-1127)等,使其对光吸收拓展至可见光区域以及延长光生电子空穴对的寿命。最近,碳材料广泛用于对半导体的修饰来有效提高电子转移速率。与其他碳材料相比,石墨烯由于其独特的二维(2D)形貌和优异的光、机械、热和电性能,已广泛用在新型石墨稀基T12光催化剂的合成中。与原始的T12相比,T1 2和石墨稀的复合增加了对污染物的吸收、扩展了光吸收区域、提高了载流子分离和转移效率(Applied Catalysis,B:Environ本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在可见光下具有高催化降解活性的钼掺杂TiO2纳米线/石墨烯复合物的制法,其特征在于按照以下步骤进行:(1)钼掺杂TiO2纳米线/石墨烯复合物的合成:将10~200mg的氧化石墨烯溶解于30mL去离子水中超声分散1h,搅拌下加入1g TiO2和与钛源摩尔比为1%的四水合七钼酸铵固体,搅拌30min后得到均匀稳定的乳状液,加入30mL 10~20M KOH溶液,搅拌得到均匀的悬浮液后转移至100mL含聚四氟乙烯内衬的高压水热反应釜中,200℃下保持18~30h,自然冷却至室温,得到的产品依次用0.1M HCl、去离子水、无水乙醇洗涤数次,直至pH=7,离心分离得到的样品在60℃下干燥8h,于氮...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘湘朱珊珊刘亚夏晓峰
申请(专利权)人:江南大学
类型:发明
国别省市:江苏;32

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