法布里‑珀罗干涉滤光片制造技术

技术编号:12889344 阅读:107 留言:0更新日期:2016-02-17 23:18
本发明专利技术所涉及的法布里‑珀罗干涉滤光片(10A)的特征在于:具备:第1反射镜(31)、经由空隙(S)与第1反射镜(31)相对的第2反射镜(41)、以包围光透过区域(11)的形式被形成于第1反射镜(31)的第1电极(17)、以包含光透过区域(11)的形式被形成于第1反射镜(31)的第2电极(18)、以与第1电极(17)以及第2电极(18)相对的形式被形成于第2反射镜(41)并以同电位与第2电极(18)相连接的第3电极(19);第2电极(18)在第1反射镜(31)与第2反射镜(41)相对的相对方向(D)上相对于第1电极(17)位于第3电极(19)的一侧或者其相反侧。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及法布里-?自罗(Fabry-Perot)干涉滤光片。
技术介绍
作为现有的法布里-珀罗干涉滤光片,例如在专利文献1中记载有具备以下所述各个构件的法布里-珀罗干涉滤光片,所述构件分别为:第1反射镜、经由空隙与第1反射镜相对的第2反射镜、以包围光透过区域的形式被形成于第1反射镜的第1电极、以包含光透过区域的形式被形成于第1反射镜的第2电极、以与第1电极以及第2电极相对的形式被形成于第2反射镜并与第2电极相电连接的第3电极。像这样的布里-珀罗干涉滤光片中,因为如果将电压施加于第1电极与第3电极之间,则在两电极之间产生对应于该电压的静电力,所以能够调整第1反射镜与第2反射镜的距离。透过布里-珀罗干涉滤光片的波长因为依存于光透过区域中的两个反射镜之间的距离,所以通过调整施加于第1电极与第3电极之间的电压从而就能够适宜选择所透过的光的波长。此时,第2电极因为成为与被电连接的第3电极相同电位,所以在光透过区域作为为了平坦地保持第1反射镜以及第2反射镜的补偿电极而其作用。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利申请公开平7-286809号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题然而,在专利文献1所记载的法布里-珀罗干涉滤光片中因为第1电极和第2电极在第1反射镜上被配置于同一个平面上,所以恐怕不能够充分谋求到两电极之间的电绝缘。这样如果第1电极与第2电极之间的电绝缘不够充分,则会发生漏电流,并且不能够对应于电压来恰当调整第1反射镜与第2反射镜的距离,以至于不能够使具有所希望的波长的光透过。因此,本专利技术的目的在于提供一种能够合适地使具有所希望的波长的光透过的法布里-珀罗干涉滤光片。解决技术问题之手段本专利技术的一个方面的法布里-珀罗干涉滤光片具备:第1反射镜、经由空隙与第1反射镜相对的第2反射镜、以包围光透过区域的形式被形成于第1反射镜的第1电极、以包含光透过区域的形式被形成于第1反射镜的第2电极、以与第1电极以及第2电极相对的形式被形成于第2反射镜并以同电位与第2电极相连接的第3电极;第2电极在第1反射镜与第2反射镜进行相对的相对方向上相对于第1电极位于第3电极的一侧或者其相反侧。在该法布里-珀罗干涉滤光片中,因为第1电极和第2电极不是被配置于同一个反射镜内的同一个平面上,所以能够充分获得第1电极与第2之间的电绝缘。因此,根据该法布里-珀罗干涉滤光片,能够合适地使具有所希望的波长的光透过。在本专利技术的一个方面的法布里-珀罗干涉滤光片中,第2电极也可以在相对方向上相对于第1电极位于第3电极的相反侧。根据该结构,因为作为用于在光透过区域平坦地保持第1反射镜以及第2反射镜的补偿电极来起作用的第2电极不位于第1电极与第3电极之间,所以在第1电极与第3电极之间能够合适地使对应于电压的静电力产生。在本专利技术的一个方面的法布里-珀罗干涉滤光片中,第2电极也可以由构成第1反射镜的电介质层经由空隙被隔离。根据该结构,因为变成了在被第1电极包围的电介质层与第3电极之间也产生电位差并产生静电力,所以为了调整第1反射镜与第2反射镜的距离而可以降低施加于第1电极与第3电极之间的电压。在本专利技术的一个方面的法布里-珀罗干涉滤光片中,第2电极也可以在被设置于第1反射镜的凹部内在空隙上露出。根据该结构,能够更加切实地谋求到第1电极与第2电极之间的电绝缘,并且能够将第2电极作为补偿电极来更加切实地行使其功能。本专利技术的一个方面的法布里-珀罗干涉滤光片进一步具备电连接第2电极和第3电极的配线,配线可以具有从第2电极沿着垂直于相对方向的方向延伸至第2电极的外侧的第1配线部、从第1配线部沿着相对方向延伸至第3电极的一侧的第2配线部。根据该结构,在电连接第2电极和第3电极的配线上例如从第2电极沿着相对方向在第3电极的相反侧进行延伸的配线部变得不再需要,因而能够对该配线的绕线实行单纯化。因此,能够减少在制造时的不良的产生或在使用时的故障的发生的风险。本专利技术的一个方面的法布里-珀罗干涉滤光片进一步具备支撑第1反射镜以及第2反射镜的基板,第1反射镜被配置于基板的一方侧,第2反射镜也可以经由空隙被配置于第1反射镜的一方侧。在该结构中成为第1反射镜被固定于基板且第2反射镜被驱动。在此,因为相对于第1电极以及第2电极被形成于第1反射镜,而在第2反射镜上只形成第3电极,所以在第2反射镜上与第1反射镜相比较相对变得难以产生不均匀的应力。根据该结构,因为变得难以产生不均匀应力的第2反射镜被驱动,所以能够合适地调整第1反射镜与第2反射镜的距离。在本专利技术的一个方面的法布里-珀罗干涉滤光片中,第1反射镜以及第2反射镜各自具有多晶硅层、氮化硅层,第1电极和第2电极以及第3电极也可以是杂质被掺杂于多晶硅层的区域。例如,即使是通过蚀刻由氧化硅构成的牺牲层从而形成第1反射镜与第2反射镜之间的空隙的情况,根据该结构,能够由牺牲层的蚀刻来防止第1反射镜以及第2反射镜同时被蚀刻而发生劣化。而且,因为多晶硅层的光学性质不论杂质掺杂的有无基本上都不会改变,所以能够抑制电极阻碍反射镜的功能。在本专利技术的一个方面的法布里-珀罗干涉滤光片中,多晶硅层也可以是非晶硅由退火处理(热处理)而被多晶化的多晶硅层。根据该结构,因为在制造时容易调整产生于反射镜的应力,所以能够抑制由驱动而损伤反射镜。专利技术效果根据本专利技术,能够提供合适地使具有所希望的波长的光透过的法布里-珀罗干涉滤光片。【附图说明】图1是本专利技术的第1实施方式的法布里-珀罗干涉滤光片被适用的光谱传感器的分解立体图。图2是沿着图1的I1-1I线的法布里-珀罗干涉滤光片的截面图。图3是形成第1电极的多晶硅层的平面图。图4是形成第2电极的多晶硅层的平面图。图5是形成第3电极的多晶硅层的平面图。图6是本专利技术的第2实施方式的法布里-珀罗干涉滤光片的截面图。图7是本专利技术的第3实施方式的法布里-珀罗干涉滤光片的截面图。【具体实施方式】以下是参照附图并就本专利技术的优选的实施方式进行详细说明。还有,在各个附图中将相同符号标注于相同或者相当的部分,省略重复的说明如图1所示,光谱传感器1具备配线基板2、光检测器3、多个隔离物4、法布里-珀罗干涉滤光片10A。在配线基板2上设置实装了光检测器3的实装部2a以及多个电极焊垫2bο电极焊垫2b中的1个与实装部2a相电连接。电极焊垫2b中的其他几个是用于与被配置于配线基板2上的热敏电阻等相电连接并且使这些热敏电阻等与光谱传感器1的外部相电连接而被使用的。光检测器3例如是红外线检测器,更加具体地来说是使用了 InGaAs等的量子型传感器,或者是使用了热电堆(thermopile)或者福射热测量计(bolometer)等的热型传感器。多个隔离物4被固定于配线基板2上,法布里-珀罗干涉滤光片10A被固定于多个隔离物4上。此时,为了抑制对法布里-珀罗干涉滤光片10A的热应力的影响,多个隔离物4以及法布里-珀罗干涉滤光片10A优选分别被具有可挠性的树脂材料固定。再有,该树脂材料优选是选自室温固化或者低温固化的树脂材料。另外,多个隔离物4在法布里-珀罗干涉滤光片10A上特别是为了缓和与接触于多个隔离物4的部分的热膨胀系数差而优选是由石英或者硅等、热膨胀系数与构成法布里-珀罗干涉滤光片10A的基板14相同等的材料或者热膨胀系数小于该本文档来自技高网...
<a href="http://www.xjishu.com/zhuanli/20/CN105339829.html" title="法布里‑珀罗干涉滤光片原文来自X技术">法布里‑珀罗干涉滤光片</a>

【技术保护点】
一种法布里‑珀罗干涉滤光片,其特征在于:具备:第1反射镜;经由空隙与所述第1反射镜相对的第2反射镜;以包围光透过区域的形式被形成于所述第1反射镜的第1电极;以包含所述光透过区域的形式被形成于所述第1反射镜的第2电极;以及以与所述第1电极以及所述第2电极相对的形式被形成于所述第2反射镜并以同电位与所述第2电极连接的第3电极,所述第2电极在所述第1反射镜与所述第2反射镜相对的相对方向上相对于所述第1电极位于所述第3电极的一侧或者其相反侧。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:柴山胜己笠原隆广瀬真树川合敏光
申请(专利权)人:浜松光子学株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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