显示装置与其制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种显示装置与其制造方法。显示装置包括:基板，其中该基板包括显示区与位于该显示区外侧的边框区；第一金属层，位于该基板的显示区与该边框区之上，其中位于该边框区的第一金属层作为周边栅极及走线，位于该显示区的第一金属层作为像素栅极及黑色矩阵；第一绝缘层，位于该第一金属层之上；主动层，位于该第一绝缘层之上；第二金属层，位于该主动层之上，其中位于该边框区的该周边栅极、该第一绝缘层、该主动层与该第二金属层构成一周边薄膜晶体管元件，位于该显示区的该像素栅极、该第一绝缘层、该主动层与该第二金属层构成像素薄膜晶体管元件；像素电极层，位于第二金属层之上并位于显示区；以及干涉量测调节器位于像素电极层之上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种显示装置，且特别是涉及一种主动式阵列干涉量测调节器显示装置(active matrix interferometric modulator(IMOD)display device)。
技术介绍
随着科技的进步，各种的显示器已广泛地应用于许多电子产品中。在各种显示器中，液晶显示器(liquid crystal display)由于具有轻、低消耗功率、无福射等优点，目前已应用于各种个人电脑、个人数字助理(personal digitalassistant, PDA)、手机、电视等。液晶显示器的基本原理是利用液晶的偏光性(polarizat1n)控制背光源通过滤光片(color filter)后光穿透的强度。然而，光经过滤光片之后，光的强度会降低。因此，一种新颖的微机电显不器(Microelectro-mechanical system, MEMS display)开始发展。在各种微机电显示器中，干涉量测调节器(interferometric modulator)具有低耗电与广视角等优点而受到重视。干涉量测调节器由两片平行的反射面夹着气隙所组成，当光线照射此结构本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示装置，包括:基板，其中该基板包括显示区与位于该显示区外侧的边框区；黑色矩阵，位于该显示区；像素薄膜晶体管元件，位于该显示区并包括：像素栅极；第一绝缘层，位于该像素栅极之上；主动层，位于该第一绝缘层之上；以及第二金属层，位于该主动层之上；走线，位于该边框区；周边薄膜晶体管元件，位于该边框区并包括：周边栅极；该第一绝缘层，位于该周边栅极之上；该主动层，位于该第一绝缘层之上；以及该第二金属层，位于该主动层之上；其中该黑色矩阵、该像素栅极、该走线及该周边栅极为第一金属层；像素电极层，位于该第二金属层之上并位于该显示区；以及干涉量测调节器(interferometric modulator,IM...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘侑宗，李淂裕，黄建达，
申请(专利权)人：群创光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71