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引线框架用铜钢铜复合材料制造技术

技术编号:12853869 阅读:168 留言:0更新日期:2016-02-11 18:15
本发明专利技术涉及一种集成电路引线框架用复合材料,其特征是选用纯铜Q195材料,厚度比是:Cu∶Q195∶Cu=10~15%∶70~80%∶10~15%,经爆炸焊接、热轧、冷轧工艺,制得在Q195钢层的两面各包覆上一薄层纯铜,成品厚度为0.2~0.4mm,此Cu/Q195/Cu复合材料同美国的Cu/SUS430/Cu复合材料相比,机械物理性能与之相当,其导热率约高出2倍,而成本则降低一半,这种复合材料主要用做冲制集成电路引线框架。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】引线框架用铜钢铜复合材料 本专利技术属IC(集成电路)引线框架用复合材料领域。 引线框架材料是现代电子工业不可缺少的材料。引线框架材料的发展大致经历了 从化-Ni-Co可代合金到化Ni42合金再到铜合金的S个阶段。集成电路的发展对引线框架 材料的性能提出了更高的要求,即在具有高的强度的同时又具有高导电导热性。80年代初, 美国德克萨斯仪器公司开发了铜包不诱钢引线框架材料,它是在铁素体430不诱钢忍层的 两面复W高纯铜,其厚度比是10 %铜80% 430不诱钢/10 %铜,其导热率达到98. 7w/mk,其 导电率达到37. 41 % 1ACS,其抗拉强度达到621MPa,约为铜合金CDA194的1. 4倍。但是,由 于430不诱钢的导热性较差,使得运种复合材料的导热率仅只有铜合金CDA194的2/5,而 且,由于运种材料冲制引线框架后余下的边角料难W回收利用,致使制取单片引线框架的 成本远高于铜合金。见(Copper-cladstainlesssteeioutperformsotherIead-Frame materials,Internationalsemiconduct本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种引线框架用铜钢铜复合材料,其特征是芯层为Q195钢板,在Q195钢层的两面各复一纯铜层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人
申请(专利权)人:孙典学
类型:发明
国别省市:山东;37

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