一种低反射率透明导电线路的制备方法技术

技术编号:12848145 阅读:148 留言:0更新日期:2016-02-11 14:09
本发明专利技术提供一种低反射率透明导电线路的制备方法,包括步骤:1)于透明基板上形成金属线路;2)对所述金属线路表面进行黑化处理,以于所述金属线路表面形成用于消除反光的导电材料层。本发明专利技术采取了表面层电镀的方法,通过化学反应使得本身具有金属光泽的微米级别的金属线降低金属光泽,从而降低了整体反射率,改善了产品的外观。同时,电信号测量表明黑化后,接触电阻和导通电阻均无明显变化。此外,通过配方的优化,可以使得该黑化层具有一定的硬度,可以在一定程度上保护下层金属。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种透明导电线路的制备方法,特别是涉及。
技术介绍
对可见光透明的材料目前主要还是玻璃类材料,但是玻璃材料本身不具备有导电性能,而一种既透明又导电的材料对于电子设备来说是不可或缺的,比如用于屏幕上方的功能性涂层,用于电磁屏蔽的导电薄膜等。在市场上占有主导地位的透明导电材料是ΙΤ0玻璃,其是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上,利用溅射、蒸发等多种方法镀上一层氧化铟锡(俗称ΙΤ0)膜加工制作成的。然而ΙΤ0材料本身资源有限,价格较高,同时虽然导电但电阻率并不理想,薄膜方阻在50 Ω / □以上。对于制备需要承载一定电流的线路板或者大屏幕的触摸传感器,这样的阻值就限制了 ΙΤ0玻璃的应用。除了 ΙΤ0玻璃,形成透明导电薄膜还可以利用微细结构的不透明金属条。实验表明,当金属线条的宽度小于10微米,间距大于100微米时,在正常屏幕工作距离上就无法很容易识别出其中的线条。当金属线条的宽度小于3微米,间距大于200微米时,其透过率已经能超过90%,优于大部分ΙΤ0的产品。一个典型的金属网格图案如图所示:其线宽为2.5微米。在宏观上则表现为透明的导电薄膜。形成导电金属网格的方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低反射率透明导电线路的制备方法,其特征在于,包括步骤:1)于透明基板上形成金属线路;2)对所述金属线路表面进行黑化处理,以于所述金属线路表面形成用于消除反光的导电材料层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:徐厚嘉林晓辉平财明谢自民祝连忠陈春明
申请(专利权)人:上海蓝沛信泰光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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