【技术实现步骤摘要】
本技术涉及复制光栅的分离
,具体是一种复制光栅的分离器。
技术介绍
分离工艺是复制平面光栅的最后一道工序,对复制光栅的质量和性能有极大的影响。如果分离时用力不均匀或者方向掌握的不好,会造成光栅表面损伤以及分辨率和衍射效率等重要参数下降。若垂直于光栅刻槽分离,还会造成槽型角度的变化,使定向波长发生改变。母光栅和复制光栅之间的多余胶液会充满光栅的边缘和倒角处,使两者牢固地结合在一起,所以分离起来较为困难。因此,良好的分离工艺是需要克服上述现象,使复制光栅和母光栅无损伤地分离开来。目前,平面复制光栅的分离方法主要有劈开法和热梯度分离法两种。劈开法是将小刀或刀片垂直于光栅刻槽插入分界处,对光栅倒角和边缘处所积存的固化树脂胶进行刮肖IJ,反复多次之后,在一定力的作用下,复制基坯和母光栅会自行分开。劈开法的优点是余胶的清除较为彻底,有助于分离。但由于刀片的锋利性和人为控制的不定因素,会在刮削和分离的瞬间对光栅造成不同程度的损伤,轻者会在光栅表面留下灰印,重者会损坏复制光栅甚至是母光栅的表面,这对于分离来说是必须要避免的。热梯度分离法是利用由热梯度产生的弯曲力来 ...
【技术保护点】
一种复制光栅的分离器,其特征在于,包括:一支撑底板;一固接于支撑底板上的弹性承座,所述弹性承座上设有一凹槽用于放置母光栅;一位于支撑底板上可左右滑动的推块,所述推块位于凹槽一侧且其下表面不低于所述弹性承座的上表面。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:林新佺,
申请(专利权)人:深圳市激埃特光电有限公司,
类型:新型
国别省市:广东;44
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