光栅及其反光栅、复制光栅以及制造方法技术

本发明专利技术光栅的刻槽横截面不是薄层形状，而是例如类似正弦波或锯齿形，刻槽底部形状类似平面形。在刻槽周期与从近红外到红外的所用波长为相同数量级的范围内，本发明专利技术光栅比相关技术中的全息光栅和小阶梯光栅的光谱性能更出色（在较宽的波长范围内具有平衡的高效率）。当制造本发明专利技术光栅的复制品时，由于刻槽深宽比小，因此刻槽彼此间的啮合力也小，由于刻槽底部大，因此脱模剂能充分到达刻槽底部。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用作分光镜或分路滤波器中作为波长分离/选择元件的光栅，并涉及通过从该光栅转印制得的反光栅和复制光栅，并涉及制造这些光栅的方法。
技术介绍
光栅是分光镜、分路滤波器等中使用的波长分离/选择元件。已知的光栅依照刻槽截面形状可大略分成(1)全息光栅，(2)铜焊全息光栅(brazedholographic grating)或划线光栅(ruled grating)，以及(3)薄片光栅。全息光栅是通过曝光并显影干涉条纹制造的，所述干涉条纹通过两个光通量干涉(全息曝光法)形成到基板上涂覆的光刻胶上。全息光栅的抗蚀图形具有形状类似正弦波的刻槽横截面。此后将刻槽横截面类似正弦波的光栅称为全息光栅。铜焊全息光栅是通过利用离子束加工技术将(1)全息光栅的刻槽横截面形状转换成锯齿形状制造的。划线光栅的刻槽横截面形状类似锯齿，该形状通过刻线机等刻划出来。此后将每个刻槽横截面形状类似锯齿的光栅共同称为小阶梯光栅。薄层光栅是通过利用离子束加工技术将(1)全息光栅的刻槽横截面形状转换成长方形形状制造的。光是横波，其具有两个分量电波和磁波，它们彼此呈直角传播。本质上，电波与磁波之间边界区域中的作本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光栅，其刻槽横截面形状不是薄片形状，刻槽底部形状类似平面形。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：长野哲也，小枝胜，佐藤诚，佐藤晃，宫内真二，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]