【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及导电玻璃
,尤其是一种双面触摸屏消影导电玻璃的加工方法。
技术介绍
目前,电容屏产品使用非常广泛,而电容屏中的双面镀导电玻璃是其主要器件,双面镀导电玻璃的导电薄膜在性能方面要求比较严,比如均匀性、耐热性能、耐酸碱性能、耐高温高湿性能等;在制作透明电路的时候,由于工艺难度增加,在制作电路时常采用酸刻电路。在制作过程中,容易蚀刻掉不应该刻蚀的部位,并且存在电路蚀刻的蚀痕影迹,影响其电磁屏蔽、静电保护功能,存在的蚀痕影迹会对观看图案产生影响。鉴于上述原因,现研发出一种双面触摸屏消影导电玻璃的加工方法。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有技术中的不足,提供一种双面触摸屏消影导电玻璃的加工方法,具有良好的电磁屏蔽、静电防护和消影作用,并且能够完全代替现有的传统导电玻璃,为下游客户提供低耗能、高均匀性、低成本的制作电容屏用导电玻璃。本专利技术为了实现上述目的,采用如下技术方案:一种双面触摸屏消影导电玻璃的加工方法,所述双面触摸屏消影导电玻璃是由上玻璃基板、锡面、空气面、上干涉层一、上透明钝化层、上干涉层二、下玻璃基板、下干涉层一、下透明钝化层、下干涉层二构成;上玻璃基板和下玻璃基板的两个表面均为锡面和空气面,上玻璃基板和下玻璃基板的空气面对应贴合,上玻璃基板的锡面上设置上干涉层一,上干涉层一与上干涉层二之间设置上透明钝化层,下玻璃基板的锡面下方设置下干涉层一,下干涉层一与下干涉层二之间设置下透明钝化 ...
【技术保护点】
一种双面触摸屏消影导电玻璃的加工方法,所述双面触摸屏消影导电玻璃是由上玻璃基板(1)、锡面(2)、空气面(3)、上干涉层一(4)、上透明钝化层(5)、上干涉层二(6)、下玻璃基板(7)、下干涉层一(8)、下透明钝化层(9)、下干涉层二(10)构成;其特征在于:上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)的两个表面均为锡面(2)和空气面(3),上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)的空气面(3)对应贴合,上玻璃基板(1)的锡面(2)上设置上干涉层一(4),上干涉层一(4)与上干涉层二(6)之间设置上透明钝化层(5),下玻璃基板(7)的锡面(2)下方设置下干涉层一(8),下干涉层一(8)与下干涉层二(10)之间设置下透明钝化层(9);所述上透明钝化层(5)和下透明钝化层(9)均采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅;所述上干涉层一(4)、上干涉层二(6)、下干涉层一(8)和下干涉层二(10)均采用五氧化二铌。
【技术特征摘要】
1.一种双面触摸屏消影导电玻璃的加工方法,所述双面触摸屏消影导电玻璃是由上玻璃
基板(1)、锡面(2)、空气面(3)、上干涉层一(4)、上透明钝化层(5)、上干涉层二(6)、
下玻璃基板(7)、下干涉层一(8)、下透明钝化层(9)、下干涉层二(10)构成;其特征在
于:上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)的两个表面均为锡面(2)和空气面(3),上玻璃基
板(1)和下玻璃基板(7)的空气面(3)对应贴合,上玻璃基板(1)的锡面(2)上设置上
干涉层一(4),上干涉层一(4)与上干涉层二(6)之间设置上透明钝化层(5),下玻璃基
板(7)的锡面(2)下方设置下干涉层一(8),下干涉层一(8)与下干涉层二(10)之间设
置下透明钝化层(9);
所述上透明钝化层(5)和下透明钝化层(9)均采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅;
所述上干涉层一(4)、上干涉层二(6)、下干涉层一(8)和下干涉层二(10)均采用五
氧化二铌。
2.一种双面触摸屏消影导电玻璃的加工方法,其特征在于:
第一步,对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)进行处理,
A、对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)进行切割,先X切割,再Y切割,然后再掰
片处理;
B、对切割后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)进行磨边和倒角,先X磨边,再倒
角,旋转90°再对Y磨边及倒角;
C、刷洗吹干;
D、对磨边和倒角后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)进行抛光;
E、再刷洗吹干;
第二步,对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)溅射上干涉层一(4)、上透明钝化层(5...
【专利技术属性】
技术研发人员:谭华,秦遵红,王恋贵,董安光,
申请(专利权)人:洛阳康耀电子有限公司,
类型:发明
国别省市:河南;41
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