消影玻璃制造技术

本实用新型专利技术提供一种有效消除刻蚀线阴影的消影玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板厚度为0.28mm～1.1mm，所述玻璃基板至少一面镀有增透减反射AR膜和氧化铟锡ITO膜，所述增透减反射AR膜由至少1层高折射率镀膜和至少1层低折射率镀膜依次交替层叠形成。氧化铟锡ITO膜厚度5nm～200nm，增透减反射AR膜包括3～8层镀膜，总厚度为50nm～6000nm。本实用新型专利技术的有益效果在于：通过在玻璃基板和氧化铟锡ITO膜之间镀设多层AR膜，有效消除刻蚀线阴影；膜层材质、厚度、层数选择方式丰富，适用范围广且加工方便。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于玻璃制造
，具体涉及一种用于制造触摸屏的消影玻璃。
技术介绍
现有的触摸屏用玻璃一般包括玻璃基板和刻蚀有导电线条的氧化铟锡ITO膜，为提高透光效果，现有技术中也出现了在玻璃基板和氧化铟锡ITO膜之间增加增透减反射AR膜层的高透玻璃，例如专利号为201120253390. 5的技术专利公开的一种高透触摸屏玻璃，该种玻璃仅应用于玻璃基板厚度范围在O. 33mm O. 55mm的触摸屏，AR膜层厚度50nm 6000nm，虽然透光效果较佳，但加工工艺复杂，应用范围窄。用于制作导航仪、平板电脑等设备的触摸屏，其玻璃基板厚度范围在O. 55mm O. 7mm或I. Imm,具有贯通的刻蚀线位置和无刻蚀线位置之间存在大约3%的透光率差值，从而形成刻蚀线阴影，影响视觉效果。另外，一般触摸屏用玻璃均未设置金属电极，虽然也可以将氧化铟锡ITO膜刻蚀出电 极，但电极一般设置在边缘处，容易损坏，连接效果不佳。
技术实现思路
本技术针对现有技术存在的上述缺陷，提供一种有效消除刻蚀线阴影的消影玻璃。本技术采用的技术方案是消影玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板厚度为O. 28mm I. Imm ;所述玻璃基板至少一面镀有增透减反射AR膜和氧化铟锡ITO膜；所述增透减反射AR膜由至少I层高折射率镀膜和至少I层低折射率镀膜依次交替层叠形成。进一步地，所述氧化铟锡ITO膜厚度5nm 200nm，增透减反射AR膜包括3 8层镀膜，总厚度为50nm 6000nm。进一步地，所述高折射率镀膜为TiO2膜或Nr2O5膜，膜层厚度为5nm 500nm ;所述低折射率镀膜为沒O2膜，膜层厚度为30nm lOOOnm。作为优选，所述高折射率镀膜为IiO2膜，膜层厚度为5nm 500nm ;所述SW2膜层厚度为30nm lOOOnm。作为另一优选方案，所述高折射率镀膜为Nr2O5膜，膜层厚度为5nm 500nm ;所述 膜层厚度为30nm lOOOnm。本技术的有益效果在于通过在玻璃基板和氧化铟锡ITO膜之间镀设多层AR膜，有效消除刻蚀线阴影；膜层材质、厚度、层数选择方式丰富，适用范围广且加工方便；在氧化铟锡ITO膜镀设金属膜并刻蚀成金属电极，工艺简单、电连接方式稳定可靠，使用寿命长；单块消影玻璃上分隔成多个待切割的制屏单元，效率高、成本低。附图说明图I为本技术的结构示意图。具体实施方式以下结合附图对本技术作进一步详细描述参照图1，消影玻璃，包括玻璃基板1，玻璃基板I厚度为O. 28mm I. 1mm，玻璃基板至少一面镀有增透减反射AR膜2和氧化铟锡ITO膜3，氧化铟锡ITO膜3刻蚀有贯通的导电线条4，增透减反射AR膜2由至少I层高折射率镀膜21和至少I层低折射率镀膜22依次交替层叠形成，图中示出的2由两层膜组成的AR膜。无AR膜的触摸屏玻璃，有刻蚀线区域和无刻蚀线区域透光率差值大约在3%，增加了本技术中的AR膜后，透光率差值在O.5%以下，有效消除阴影。为进一步提高透光率和消影效果，氧化铟锡ITO膜3厚度5nm 200nm，增透减反射AR膜2包括3 8层镀膜，总厚度为50nm 6000nm，必要时可在玻璃基板I两面均设置氧化铟锡ITO膜和增透减反射AR膜。本实施例中，高折射率镀膜21为HO2膜或Nr2O5膜，膜层厚度为5nm 500nm ;低折射率镀膜22为SiO2膜，膜层厚度为30nm lOOOnm。通常，高折射率镀21膜选为 02膜，膜层最优厚度为5nm 500nm ； SiO2膜层最优厚度为30nm lOOOnm。高折射率镀膜21也可以采用Nr2O5膜,可进一步降低成本，Nr2O5膜层最优厚度为5nm 500nm ;此时SiO1膜层厚度仍然选用30nm lOOOnm。触摸屏通常尺寸有5英寸、7英寸和10英寸等，整体面积都比较小，为规模化高速加工，玻璃尺寸都比较大，因此，本实施例的消影玻璃包括至少两个制屏单元。虽然本技术已通过参考优选的实施例进行了图示和描述，但是，本领域普通技术人员应当了解，可以不限于上述实施例的描述，在权利要求书的范围内，可作形式和细节上的各种变化。权利要求1.消影玻璃，包括玻璃基板，其特征在于 1-1)所述玻璃基板厚度为O. 28mm I. Imm ； 1-2)所述玻璃基板至少一面镀有增透减反射AR膜和氧化铟锡ITO膜； 1-3)所述增透减反射AR膜由至少I层高折射率镀膜和至少I层低折射率镀膜依次交替层叠形成。2.根据权利要求I所述的消影玻璃，其特征在于所述氧化铟锡ITO膜厚度5nm ·200nm,增透减反射AR膜包括3 8层镀膜，总厚度为50nm 6000nm。3.根据权利要求I所述的消影玻璃，其特征在于所述高折射率镀膜为TiO2膜或Nr2O5膜，膜层厚度为5nm 500nm ;所述低折射率镀膜为SiO2膜，膜层厚度为30nm lOOOnm。4.根据权利要求3所述的消影玻璃，其特征在于所述高折射率镀膜为TiO2膜，膜层厚度为5nm 500nm ;所述SiO2膜层厚度为30nm lOOOnm。5.根据权利要求3所述的消影玻璃，其特征在于所述高折射率镀膜为Nr2O5膜，膜层厚度为5nm 500nm ;所述SiO2膜层厚度为30nm lOOOnm。6.根据权利要求I至5任一项所述的消影玻璃，其特征在于所述消影玻璃包括至少两个制屏单元。专利摘要本技术提供一种有效消除刻蚀线阴影的消影玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板厚度为0.28mm～1.1mm，所述玻璃基板至少一面镀有增透减反射AR膜和氧化铟锡ITO膜，所述增透减反射AR膜由至少1层高折射率镀膜和至少1层低折射率镀膜依次交替层叠形成。氧化铟锡ITO膜厚度5nm～200nm，增透减反射AR膜包括3～8层镀膜，总厚度为50nm～6000nm。本技术的有益效果在于通过在玻璃基板和氧化铟锡ITO膜之间镀设多层AR膜，有效消除刻蚀线阴影；膜层材质、厚度、层数选择方式丰富，适用范围广且加工方便。文档编号C03C17/34GK202744456SQ201220350209公开日2013年2月20日 申请日期2012年7月18日 优先权日2012年7月18日专利技术者屠有军, 郑永, 张春光 申请人:浙江大明玻璃有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
消影玻璃，包括玻璃基板，其特征在于：1？1）所述玻璃基板厚度为0.28mm～1.1mm；1？2）所述玻璃基板至少一面镀有增透减反射AR膜和氧化铟锡ITO膜；1？3）所述增透减反射AR膜由至少1层高折射率镀膜和至少1层低折射率镀膜依次交替层叠形成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：屠有军，郑永，张春光，
申请(专利权)人：浙江大明玻璃有限公司，
类型：实用新型
国别省市：