本实用新型专利技术公开了一种首饰金属结构，包括主体（1）,主体（1）上端面上设有至少两个用于放置宝石（6）的容置腔（3），所述容置腔（3）为连续地相邻排列，其特征在于，所述主体（1）上端面设置有将每个相邻容置腔（3）连通的凹槽（5），相邻宝石（6）之间保留有适当的间隙（2），首饰饰品在电镀之前必须经过除蜡工序，那么导致部分的杂质和抛光料进入到所述凹槽（5）中，堆积于凹槽（5）的杂质和抛光料可经由相邻宝石（6）之间的间隙（2）排出，由于本实用新型专利技术不需要在宝石的金属背部设置排污孔，因此可显著提高首饰饰品外观的完整性。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种首饰金属结构。
技术介绍
目前，如附图1所示，市场上镶嵌宝石的生产工艺是在一基材的表面设有对应宝石形状的若干个具有独立空间的锥形槽8，同时在锥形槽8底部设有排污孔7，排污孔7是从锥形槽8底部贯通基材底面。在首饰饰品金属成型后的抛光工艺中，宝石6和锥形槽8之间的间隙难免有杂质及抛光料堆积在其间，尤其是指宝石6的底部位置。因此首饰在完成金属表面的抛光后必须用除污液体将上述杂质及抛光料去除，并将之由排污孔7中排出。由于此类传统工艺的金属结构，必须设有排污孔7，排污孔7的存在影响首饰饰品的外观。
技术实现思路
为克服上述缺点，本技术的目的在于提供一种首饰金属结构，通过在主体上设有连通相邻容置腔而形成的凹槽，实现在首饰饰品金属成型后的抛光工艺中，将进入凹槽的杂质和抛光料能由相邻宝石之间的间隙或宝石与凹槽之间的间隙中排出。为了实现上述目的，本技术提供一种首饰金属结构，包括主体，主体上端面上设有至少两个用于放置宝石的容置腔，所述容置腔为连续地相邻排列，其特征在于，所述主体上端面设置有将每个相邻容置腔连通的凹槽，相邻宝石之间保留有适当的间隙。本技术的有益效果是:通过在主体上端面设有连通相邻容置腔而形成的凹槽，实现在首饰饰品金属成型后的抛光工艺中，将进入凹槽的杂质和抛光料能由相邻宝石之间的间隙或宝石与凹槽之间的间隙中排出，以提高首饰饰品外观的完整性。优选地，所述凹槽的下端面位于放置宝石的容置腔底部的下方，避免进入凹槽的杂质和抛光料掉入容置腔底部，进而堆积在容置腔底部，造成难以从相邻宝石之间的间隙或宝石与凹槽之间的间隙中排出。【附图说明】图1为现有技术的剖面图；图2为现有技术的俯视图；图3为本实施例的立体图；图4为图3的X-X剖面图； 图5为本实施例的俯视图；图中:1_主体;2_间隙;3_容置腔;4_固定爪;5_凹槽;6_宝石-J-排污孔;8_锥形槽。【具体实施方式】下面结合附图对本技术的较佳实施例进行详细阐述，以使本技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本技术的保护范围做出更为清楚明确的界定。如附图3、附图4和附图5所示，一种首饰金属结构，包括主体1，主体I上端面上设有至少两个用于放置宝石6的容置腔3，容置腔3为连续地相邻排列，每个容置腔3在外端边缘设有用以固定宝石6的多个固定爪4，宝石6上部分位于容置腔3的上方，相邻宝石6之间保留有适当的间隙2，主体I上端面设置有将每个相邻容置腔3连通的凹槽5，首饰在加工过程中将有部分的杂质和抛光料进入到上述的凹槽5中。首饰饰品在电镀之前必须经过除蜡工序，则上述堆积于凹槽5中的杂质和抛光料可经由相邻宝石6之间的间隙2排出，也可以由两端宝石与凹槽5之间的间隙中排出。本方法经过多次实体试验，其确实可达到预期的效果。如附图4所示，凹槽5的下端面位于放置宝石6的容置腔3底部的下方，避免进入凹槽5的杂质和抛光料掉入容置腔3底部，进而堆积在容置腔3底部，造成难以从相邻宝石之间的间隙2或宝石与凹槽5之间的间隙中排出。以上实施方式只为说明本技术的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人了解本技术的内容并加以实施，并不能以此限制本技术的保护范围，凡根据本技术精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本技术的保护范围内。【主权项】1.一种首饰金属结构，包括主体(I)，主体(I)上端面上设有至少两个用于放置宝石(6 )的容置腔(3 )，所述容置腔(3 )为连续地相邻排列，其特征在于，所述主体(I)上端面设置有将每个相邻容置腔(3)连通的凹槽(5)，相邻宝石(6)之间保留有适当的间隙(2)。2.根据权利要求1所述的首饰金属结构，其特性在于，所述凹槽(5)的下端面(2)位于放置宝石(6)的容置腔(3)底部的下方。【专利摘要】本技术公开了一种首饰金属结构，包括主体（1）,主体（1）上端面上设有至少两个用于放置宝石（6）的容置腔（3），所述容置腔（3）为连续地相邻排列，其特征在于，所述主体（1）上端面设置有将每个相邻容置腔（3）连通的凹槽（5），相邻宝石（6）之间保留有适当的间隙（2），首饰饰品在电镀之前必须经过除蜡工序，那么导致部分的杂质和抛光料进入到所述凹槽（5）中，堆积于凹槽（5）的杂质和抛光料可经由相邻宝石（6）之间的间隙（2）排出，由于本技术不需要在宝石的金属背部设置排污孔，因此可显著提高首饰饰品外观的完整性。【IPC分类】A44C17/00, A44C17/02【公开号】CN204908263【申请号】CN201520630451【专利技术人】徐霞 【申请人】徐霞【公开日】2015年12月30日【申请日】2015年8月20日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种首饰金属结构，包括主体（1）, 主体（1）上端面上设有至少两个用于放置宝石（6）的容置腔（3），所述容置腔（3）为连续地相邻排列，其特征在于，所述主体（1）上端面设置有将每个相邻容置腔（3）连通的凹槽（5），相邻宝石（6）之间保留有适当的间隙（2）。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：徐霞，
申请(专利权)人：徐霞，
类型：新型
国别省市：湖北;42
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