制备制品的方法以及由该方法制备的制品技术

一种制备制品的方法，所述方法包括将具有第一折射率R11的第一组合物施加在基底上以形成第一层(14)。所述方法还包括将固化条件施加到所述第一层的靶标部分(18)，而不将所述固化条件施加到非靶标部分(16)，以形成包括至少一个固化部分和至少一个未固化部分的对比层。此外，所述方法包括将具有第二折射率R12的第二组合物施加在所述对比层上以形成第二层，其中所述第二层的一部分与所述对比层的所述至少一个未固化部分混合以形成至少一个具有第三折射率R13的混合部分。R11、R12和R13彼此不相同。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】制备制品的方法W及由该方法制备的制品 本专利技术整体设及制备制品的方法，并且更具体地讲，设及制备具有不同折射率的 制品的方法并且设及由此制备的制品。 光学制品用于许多应用中。光学制品的类型包括波导和波导互连件，运两者均用 于引导波，例如电磁波。此类波导和波导互连件在电子工业中越来越重要。 在制备常规波导的常规方法中，形成并固化底部包层。在所述底部包层上形成并 且选择性地固化忍层，在所述忍层中留下未固化部分。在运些常规方法中，在所述忍层上形 成顶部包覆层之前，必须通过蚀刻来移除所述忍层的未固化部分。更具体地讲，所述忍层的 未固化部分必须被物理地移除，因为所述忍层具有高于底部包层和顶部包层的折射率，并 且未能物理移除所述未固化部分通常导致波导内不期望的折射率分布。蚀刻可通过湿法使 用溶剂（例如，有机溶剂或含水碱）来进行W溶解掉并物理移除所述未固化部分，或者通过 干法（例如，使用等离子体或反应性离子）来进行W生成被物理移除的产物。然而，此类蚀 刻步骤显著增加与波导的制造相关的成本和时间。
技术实现思路
本专利技术提供了制备制品的方法。该方法包括将具有第一折射率巧Ii)的第一组合本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备制品的方法，所述方法包括：将具有第一折射率(RI1)的第一组合物施加在基底上以在所述基底上形成包含所述第一组合物的第一层；将固化条件施加到所述第一层的靶标部分，而不将所述固化条件施加到所述第一层的非靶标部分，以形成包括至少一个固化部分和至少一个未固化部分的对比层；将具有第二折射率(RI2)的第二组合物施加在所述对比层上以形成第二层；将所述第二层的至少一部分与所述对比层的所述至少一个未固化部分混合以在所述对比层中形成至少一个具有第三折射率(RI3)的混合部分，并且其中所述第一组合物和所述第二组合物以及所述至少一个混合部分彼此不相同；并且其中当在相同波长的光和相同温度下测量时，RI1、RI...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：查德·马丁·安布，布兰登·斯瓦托夫斯基，威廉·K·韦德纳，
申请(专利权)人：道康宁公司，
类型：发明
国别省市：美国;US