固体摄像器件、电子装置、镜头控制方法和摄像模块制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种固体摄像器件，其包括像素区域，所述像素区域包括以二维矩阵图案布置着的多个像素。所述多个像素之中的一些像素被构造为相位差检测像素，所述相位差检测像素包括光电转换部和遮光膜，所述光电转换部被设置于半导体基板上，所述遮光膜被设置于所述光电转换部的一部分的上方。特别地，所述相位差检测像素的所述遮光膜的位置随着所述相位差检测像素的位置不同而有所不同。例如，位于所述像素区域的外围部处的所述相位差检测像素的所述遮光膜的位置不同于位于所述像素区域的中心部处的所述相位差检测像素的所述遮光膜的位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本技术涉及能够防止自动聚焦（AF :auto focus)的精度降低的固体摄像器件、电子装置、镜头控制方法和摄像模块。相关申请的交叉参考本申请要求2013年6月4日提交的日本优先权专利申请JP2013-117688的优先权权益，因此将该日本优先权专利申请的全部内容以引用的方式并入本文中。
技术介绍
近年来，已经开发出这样的摄像装置：其通过在摄像器件中设置有对光电转换部的一部分进行了遮光的相位差检测像素来执行相位差检测，由此执行自动聚焦（AF)(例如，参照专利文献PTL l)o引用文献列表专利文献PTL I :日本未经审查的专利申请公开第2010-160313号
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题诸如在形成各像素中的遮光膜和片上透镜（on-chip lens)时的光刻工艺中的未对准或在使摄像器件模块化时摄像镜头中的未对准等制造差异会导致相位差检测精度的降低。因此，相位差检测精度的降低会影响自动聚焦（AF)的精度。根据本技术，期望的是，即使当存在着制造差异时，也能至少保持AF的精度。解决技术问题所采取的技术方案根据本技术的一个实施例，提供了一种固体摄像器件，其包括：多个像素，所述多个像素包括用于通过相位差检测来执行自动聚焦（AF)的相位差检测像素。各所述相位差检测像素包括片上透镜和光电转换部，所述光电转换部被形成于比所述片上透镜低的层上。在所述相位差检测像素之中的多个预定的相位差检测像素中，所述片上透镜被形成为具有不同于与所述预定的相位差检测像素的布置对应的出射光瞳校正量的偏差量。所述相位差检测像素还可以包括遮光膜，所述遮光膜对所述光电转换部的一部分遮光。在所述预定的相位差检测像素中，所述片上透镜和所述遮光膜可以被形成为具有不同于与所述预定的相位差检测像素的所述布置对应的所述出射光瞳校正量的偏差量。所述预定的相位差检测像素可以被布置得彼此靠近。在所述预定的相位差检测像素中，所述片上透镜和所述遮光膜可以受到基于如下校正量的出射光瞳校正：该校正量不同于与所述预定的相位差检测像素的所述布置对应的所述出射光瞳校正量。所述预定的相位差检测像素可以被布置得彼此远离。在所述预定的相位差检测像素中，所述片上透镜和所述遮光膜可以没有受到基于校正量的出射光瞳校正。所述多个像素包括用于生成图像的摄像像素，所述预定的相位差检测像素可以被设置于设置有所述摄像像素的图像输出区域的外侧。所述多个像素包括用于生成图像的摄像像素，所述预定的相位差检测像素可以被设置于设置有所述摄像像素的图像输出区域的内侧。毗邻于所述预定的相位差检测像素的像素可以具有比常规尺寸的片上透镜大的片上透镜。毗邻于所述预定的相位差检测像素的像素可以具有比常规尺寸的片上透镜小的片上透镜。所述相位差检测像素可以具有被分隔开地形成为所述光电转换部的光电转换部。所述固体摄像器件还可以包括相位差检测部和相位差校正部。所述相位差检测部通过利用所述相位差检测像素的输出之间的差分来执行相位差检测，所述相位差校正部通过利用预先获得的所述预定的相位差检测像素的所述输出来校正所检测到的相位差。所述相位差校正部可以基于相位差特性来校正所检测到的相位差，所述相位差特性是通过利用预先获得的所述预定的相位差检测像素的所述输出而求出的。在一对所述相位差检测像素中，所述相位差特性可以表明与入射光的光轴的角度相应的所述相位差检测像素的输出。所述相位差校正部可以通过利用校正参数来校正所检测到的相位差，所述校正参数是通过利用在预定角度范围内所述相位差特性的所述输出的斜率而求出的。所述相位差校正部可以通过利用与镜头的F数对应的所述校正参数来校正所检测到的相位差。所述相位差校正部可以通过利用与图像高度对应的所述校正参数来校正所检测到的相位差。所述相位差校正部可以通过利用与摄影环境对应的所述校正参数来校正所检测到的相位差。根据本技术的另一实施例，提供了一种电子装置，其包括:摄像器件，所述摄像器件具有多个像素，所述多个像素包括用于通过相位差检测来执行自动聚焦(AF)的相位差检测像素，其中，各所述相位差检测像素包括片上透镜、光电转换部和遮光膜，所述光电转换部被形成于比所述片上透镜低的层上，所述遮光膜对所述光电转换部的一部分遮光，并且其中，在所述相位差检测像素之中的多个预定的相位差检测像素中，所述片上透镜和所述遮光膜被形成为具有不同于与所述预定的相位差检测像素的布置对应的出射光瞳校正量的偏差量；镜头，所述镜头致使被摄对象光入射到所述摄像器件上；相位差检测部，所述相位差检测部通过利用所述相位差检测像素的输出之间的差分来执行相位差检测；相位差校正部，所述相位差校正部通过利用预先获得的所述预定的相位差检测像素的输出来校正所检测到的相位差；以及镜头控制部，所述镜头控制部依据校正后的相位差来控制所述镜头的驱动。所述电子装置还可以包括光源，所述光源发射呈特定图案的光。所述相位差校正部可以通过利用与所述光源的波长对应的校正参数来校正所检测到的相位差。所述多个像素包括用于生成图像的摄像像素，所述相位差检测像素可以被设置于设置有所述摄像像素的图像输出区域的内侧。所述电子装置还可以包括缺陷校正部，所述缺陷校正部通过利用预先获得的所述预定的相位差检测像素的所述输出来校正所述预定的相位差检测像素的所述输出。根据本技术的又一实施例，提供了一种用于电子装置的镜头控制方法。所述电子装置包括:摄像器件，所述摄像器件具有多个像素，所述多个像素包括用于通过相位差检测来执行自动聚焦(AF)的相位差检测像素，其中，各所述相位差检测像素包括片上透镜、光电转换部和遮光膜，所述光电转换部被形成于比所述片上透镜低的层上，所述遮光膜对所述光电转换部的一部分遮光，并且其中，在所述相位差检测像素之中的多个预定的相位差检测像素中，所述片上透镜和所述遮光膜被形成为具有不同于与所述预定的相位差检测像素的布置对应的出射光瞳校正量的偏差量；以及镜头，所述镜头致使被摄对象光入射到所述摄像器件上。用于所述电子装置的所述镜头控制方法包括:通过利用所述相位差检测像素的输出之间的差分来执行相位差检测；通过利用预先获得的所述预定的相位差检测像素的输出来校正所检测到的相位差；并且依据校正后的相位差来控制所述镜头的驱动。根据本技术的再一实施例，提供了一种摄像模块，其包括:摄像器件，所述摄像器件具有多个像素，所述多个像素包括用于通过相位差检测来执行自动聚焦(AF)的相位差检测像素，其中，各所述相位差检测像素包括片上透镜、光电转换部和遮光膜，所述光电转换部被形成于比所述片上透镜低的层上，所述遮光膜对所述光电转换部的一部分遮光，并且其中，在所述相位差检测像素之中的多个预定的相位差检测像素中，所述片上透镜和所述遮光膜被形成为具有不同于与所述预定的相位差检测像素的布置对应的出射光瞳校正量的偏差量；镜头，所述镜头致使被摄对象光入射到所述摄像器件上；以及光学滤光片，所述光学滤光片被形成于所述摄像器件与所述镜头之间。所述镜头和所述光学滤光片依据相位差特性而被形成，所述相位差特性是通过利用预先获得的所述预定的相位差检测像素的输出而求出的。根据本技术的一个实施例，在所述相位差检测像素之中的所述多个预定的相位差检测像素中，所述片上透镜被形成为具有不同于与所述预定的相位差检测像素的布置对应的出本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种固体摄像器件，其包括：多个像素，所述多个像素包括用于通过相位差检测来执行自动聚焦(AF)的相位差检测像素，其中，各所述相位差检测像素包括：片上透镜；以及光电转换部，所述光电转换部被形成于比所述片上透镜低的一层上，并且其中，在所述相位差检测像素之中的多个预定的相位差检测像素中，所述片上透镜被形成为具有不同于与所述预定的相位差检测像素的布置对应的出射光瞳校正量的偏差量。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：中田征志，高桥浩司，井上裕士，池田健児，冈治，服部芳郎，佐藤信也，加藤英明，长治保宏，西冈惠美，河野邉宏，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP