反射型的显示装置及其制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种反射型的显示装置及其制造方法。所述显示装置包括：由多个像素单元构成的像素单元阵列，每个像素单元包括由不同颜色的子像素单元构成的子像素单元阵列，每个子像素单元包括：垂直分层排列的至少两个基底；多个微纳米颗粒，能够反射预定颜色的环境光，分别布置在至少两个基底的各基底上，基底上设有能使位于其下方的各基底上的微纳米颗粒穿过的孔，多个微纳米颗粒在位于同一水平面的情况下呈预定晶格形式，在预定晶格形式中相邻微纳米颗粒之间具有预定间距；驱动单元，驱动至少两个基底的至少一个基底沿预定轨迹移动，使至少一部分相邻的微纳米颗粒之间的间距发生变化，从而改变从所述子像素单元反射的所述预定颜色的环境光的光强。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术提供一种显示装置及其制造方法，更具体地讲，涉及一种。
技术介绍
随着科技的发展，为了提高电子设备(例如，手机、平板电脑、智能手表等)的用户体验，电子设备的显示装置的屏幕越来越大。目前，大多数电子设备的显示装置属于主动发光型的显示装置。主动发光型的显示装置可通过对RGB(红色、绿色和蓝色)三原色进行混色，从而显示丰富的色彩。但是，主动发光型的显示装置在对相关内容进行显示时，必须点亮屏幕，从而消耗大量的电力，造成在电池单次充电的情况下，电子设备的使用时间很短。然而，反射型的显示装置可通过反射环境光来进行显示，并且，反射型的显示装置只在图像刷新时才消耗电力，在显示时不需要消耗电力，因而可极大程度地延长电子设备单次充电的使用时间。目前的反射型显示装置通常使用电子墨水显示技术或Mirasol(向日葵)显示技术进行显示。图1示出使用电子墨水显示技术的显示装置的示例的示图。如图1所示，使用电子墨水显示技术的显示装置(如图1中的(b)所示)，主要由如图1中的(a)所示的10微米(μπι)左右的封装了带有负电的黑色微粒和带有正电的白色微粒(如图1中的(a)中所示的“胶囊微粒”)的“微胶囊”构成。图1中的(a)所示的“微胶囊”中的胶囊微粒可以反射环境光，从而当改变顶部显示电极和底部电极的极性时，显示装置能够显示白色或者黑色。另外，当需要显示彩色图像时，可采用在“微胶囊”的上方加入滤色镜的方法或多原色合成的方法来显示彩色图像。图2示出使用Mirasol显示技术的显示装置的示例的示图。如图2所示，使用Mirasol显示技术的显示装置可通过移动玻璃基板和反射膜来改变两者之间的空气层的厚度，并且当空气层的厚度为特定厚度时，图2所示的显示装置可反射特定颜色(例如，红色、绿色或蓝色等)的环境光，当空气层的厚度非常小时，图2所示的显示装置不反射环境光而呈黑色。然而，图1或图2所示的反射型的显示装置只能显示有限种特定颜色，因而对色彩的还原能力低。当需要使用图1或图2所示的反射型显示装置显示比较丰富的色彩时，就需要增加其它颜色的原色，但是增加原色会占据更多的空间而造成显示装置的分辨率的降低。因此，现有的反射型的显示装置的显示效果差。
技术实现思路
本专利技术的示例性实施例在于提供一种。所述显示装置及其制造方法能够克服现有的反射型的显示装置显示效果差的缺陷。根据本专利技术示例性实施例的一方面，提供一种反射型的显示装置，包括:由多个像素单元构成的像素单元阵列，其中，每个像素单元包括由不同颜色的子像素单元构成的子像素单元阵列，每个子像素单元包括:垂直分层排列的至少两个基底；多个微纳米颗粒，能够反射预定颜色的环境光，并分别布置在所述至少两个基底之中的各个基底上，其中，基底上设有能够使位于其下方的各基底上的微纳米颗粒穿过的孔，并且，所述多个微纳米颗粒在位于同一水平面的情况下呈预定晶格形式，在所述预定晶格形式中，相邻的微纳米颗粒之间具有预定间距；驱动单元，驱动所述至少两个基底的至少一个基底沿预定轨迹移动，以使至少一部分相邻的微纳米颗粒之间的间距发生变化，从而改变从所述子像素单元反射的所述预定颜色的环境光的光强。可选地，各个子像素单元以标准子像素排列形式排列或Pentile排列形式排列。可选地，子像素单元包括:红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元。可选地，在红色子像素单元中，所述预定间距为680纳米；在绿色子像素单元中，所述预定间距为520纳米；在蓝色子像素单元中，所述预定间距为420纳米。可选地，所述微纳米颗粒的折射率大于1.5。可选地，在红色子像素单元中，所述微纳米颗粒的特征尺寸范围为;在绿色子像素单元中，所述微纳米颗粒的特征尺寸范围为;在蓝色子像素单元中，所述微纳米颗粒的特征尺寸范围为。可选地，所述至少两个基底之中的每个基底均为透明基底且厚度小于200纳米。可选地，所述预定晶格形式为以下项中的任意一个:正方晶格、斜方晶格、长方晶格、六角晶格、准晶排列晶格、分形排列晶格和螺旋排列晶格。可选地，所述预定轨迹为垂直移动轨迹或水平移动轨迹。可选地，所述驱动单元基于热效应、压电效应、静电效应和机械效应之中的至少一项来驱动所述至少一个基底沿预定轨迹移动。根据本专利技术示例性实施例的另一方面，提供一种反射型的显示装置的制造方法，包括:在至少两个硅晶圆上分别使用预定工艺方法形成垂直分层排列的至少两个基底层，其中，每个基底层包括与每个像素单元中的每个子像素单元一一对应的基底；在每个基底上使用预定方法形成能够反射预定颜色的环境光的反射层；使用预定刻蚀方法在每个反射层上刻蚀出微纳米颗粒阵列，并在相应的基底上刻蚀出能够使位于其下方的各基底上的微纳米颗粒穿过的孔，以使每个子像素单元所对应的所有基底的所有微纳米颗粒阵列在位于同一水平面的情况下呈预定晶格形式，并使在所述预定晶格形式中，相邻的微纳米颗粒之间具有预定间距；使用反应离子刻蚀方法去除硅晶圆；将每个子像素单元的至少一个基底与驱动单元连接。可选地，所述预定工艺方法为以下项中的任意一个:电子束沉积法、真空蒸发法、磁控溅射法、溶胶-凝胶法和脉冲激光沉积法。可选地，所述预定方法为以下项中的任意一个:旋转涂覆法、电子束蒸发法、溅射法、离子辅助沉积法、原子层沉积法和溶胶-凝胶法。可选地，使用预定刻蚀方法在每个反射层上刻蚀出微纳米颗粒阵列的步骤包括:使用旋转涂覆法在每个反射层上形成抗反射层；使用旋转涂覆法在抗反射层上形成光刻胶层；使用所述预定刻蚀方法在光刻胶层上刻蚀出与所述微纳米颗粒阵列一致的刻蚀图案；使用所述预定刻蚀方法按照所述刻蚀图案来刻蚀抗反射层和反射层；使用等离子灰化法去除光刻胶层和抗反射层，以暴露出反射层上刻蚀出的所述微纳米颗粒阵列。可选地，所述预定刻蚀方法为以下项中的任意一个:干涉光刻法、反应离子刻蚀法、掩膜光刻法、电子束曝光光刻法和聚焦离子束刻蚀法。可选地，所述驱动单元基于热效应、压电效应、静电效应和机械效应之中的至少一项来驱动所述至少一个基底沿预定轨迹移动。在根据本专利技术示例性实施例的中，可通过使至少一个基底沿预定轨迹移动来破坏微纳米颗粒的晶格结构，从而改变子像素单元反射的预定颜色的环境光的光强，进而能够使显示装置的像素单元显示更加丰富的色彩。【附图说明】通过下面结合示例性地示出实施例的附图进行的描述，本专利技术示例性实施例的上述和其它目的和特点将会变得更加清楚，其中:图1示出使用电子墨水显示技术的显示装置的示例的示图；图2示出使用Mirasol (向日葵)显示技术的显示装置的示例的示图；图3示出根据本专利技术示例性实施例的微纳米颗粒的示例的示图；图4示出根据本专利技术示例性实施例的当反射型的显示装置的子像素单元以标准子像素排列形式排列时像素单元的示例的示图；图5示出根据本专利技术示例性实施例的图4的像素单元的示例的示意图；图6示出根据本专利技术示例性实施例的当反射型的显示装置的子像素单元以Pentile排列形式排列时像素单元的示例的示意图；图7示出根据本专利技术示例性实施例的当反射型的显示装置的子像素单元以Pentile排列形式排列时像素单元的另一示例的示意图；图8示出根据本专利技术示例性实施例的图3的像素单元中的子像素单元的示例的示图；图9示出根据本专利技术示例性实施例的当图8的子像素单元为红色子像素单元时反射的环境光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反射型的显示装置，包括：由多个像素单元构成的像素单元阵列，其中，每个像素单元包括由不同颜色的子像素单元构成的子像素单元阵列，每个子像素单元包括：垂直分层排列的至少两个基底；多个微纳米颗粒，能够反射预定颜色的环境光，并分别布置在所述至少两个基底之中的各个基底上，其中，基底上设有能够使位于其下方的各基底上的微纳米颗粒穿过的孔，并且，所述多个微纳米颗粒在位于同一水平面的情况下呈预定晶格形式，在所述预定晶格形式中，相邻的微纳米颗粒之间具有预定间距；驱动单元，驱动所述至少两个基底的至少一个基底沿预定轨迹移动，以使至少一部分相邻的微纳米颗粒之间的间距发生变化，从而改变从所述子像素单元反射的所述预定颜色的环境光的光强。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郝锐，冯天华，
申请(专利权)人：广州三星通信技术研究有限公司，三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：广东;44