多层间隔物制造技术

本实用新型专利技术涉及一种多层间隔物。该多层间隔物包含有：一基底层及二缓冲层，二缓冲层位于基底层的二侧，且基底层的刚性Ｉ：１，二－缓冲层高。本实用新型专利技术不但具有一定的刚性，可应用于直立式的储存状况，而且也具有相当的缓冲能力，以保护储存的物品。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种多层间隔物，其特征在于包含有：一基底层及二缓冲层，所述二缓冲层位于所述基底层的二侧，且所述基底层的刚性比所述二缓冲层高。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王胜志，
申请(专利权)人：山汰科技企业有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]