一种柔性基底及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种柔性基底及其制备方法、柔性显示器件及其制备方法，显示基板，显示面板，显示装置，用于解决现有技术柔性器件在制备过程激光能量对薄膜晶体管的多晶硅有源层产生不良影响和在柔性显示器件在剥离过程中容易造成柔性层碳化的问题。本发明专利技术的柔性基底包括设置在两层柔性层之间的紫外光吸收层，该紫外光吸收层能在有源层采用准分子激光辐照对非晶硅转化多晶硅时，具有夹心紫外光吸收层的柔性基底，能够利用紫外光吸收层吸收多余的激光能量，防止柔性层受热碳化；而当对柔性基底和玻璃衬底分离时，用于剥离的激光束从玻璃衬底射入，柔性基底能够利用紫外光吸收层吸收多余的激光能量，防止激光对有源层性能产生不良影响。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，具体地，涉及一种柔性基底及其制备方法、柔性显示器件及其制备方法、显示基板、显示面板、显示装置。
技术介绍
柔性显示器件的制备方法，通常是在玻璃衬底上涂布柔性基底，然后在柔性基板在制备低温多晶硅的薄膜晶体管和发光元件等，完成器件制作之后，通常的方法是利用激光(紫外线)将柔性器件与玻璃衬底分离，最后得到柔性显示器件。此工艺过程中，低温多晶硅晶化常采用准分子激光退火(ELA)的方式来进行，在此激光作用过程中，a-si吸收激光能量，发生晶化，变成p-si，但是也有部分激光能量会到达柔性基板，使其发生碳化，例如，产生细小颗粒，裂纹等使得后续制程的功能层无法平坦化，影响后续制程。另外，在柔性显示器件完成后，一般采用激光剥离的方式将柔性显示器件从玻璃衬底上分离，具体在柔性显示器件的远离玻璃衬底的一侧入射激光，激光辐照的大部分能量瞬时被柔性基板所吸收，柔性基板和玻璃衬底之间发生分离；但瞬时的高热量会传递到位于柔性基板的薄膜晶体管，对薄膜晶体管特性有影响，例如，会使薄膜晶体管的阈值电压发生漂移、关态电流增加、开关比变大，使得薄膜晶体管的特性发生劣化，影响其驱动能力。
技术实现思路
解决上述问题所采用的技术方案是一种柔性基底及其制备方法、柔性显示器件及其制备方法、显示基板、显示面板、显示装置。本专利技术提供的一种柔性基底，包括第一柔性层和第二柔性层，及设置在所述第一柔性层和所述第二柔性层之间的紫外光吸收层，其中，所述紫外光吸收层的对紫外光的吸收能力大于等于所述第一柔性层和所述第二柔性层对紫外光的吸收能力。优选的，所述紫外光吸收层包括非晶硅、氧化铟锡、铟镓锌氧化物中的一种或几种。优选的，所述紫外光吸收层为非晶娃层；所述紫外线的波长在271nm-355nm之间。优选的，所述非晶硅层的厚度为100-10000埃。优选的，所述第一柔性层或所述第二柔性层包括聚酰亚胺。优选的，所述第一柔性层和所述第二柔性层厚度为5-30微米。本专利技术的另一个目的在于提供一种上述的柔性基底的制备方法，包括以下步骤:在衬底上形成第一柔性层；在所述第一柔性层上形成紫外光吸收层；在所述紫外光吸收层形成第二柔性层。本专利技术的另一个目的在于提供一种柔性显示器件，上述的柔性基底和设置在所述柔性基底上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的有源层包括多晶硅层。本专利技术的另一个目的在于提供一种柔性显示器件的制备方法，包括以下步骤:制备柔性基底；在柔性基底上制备包括多晶硅有源层的薄膜晶体管；将柔性显示器件与衬底进行分离。本专利技术的另一个目的在于提供一种显示基板，包括上述的柔性显示器件。本专利技术的另一个目的在于提供一种显示面板，包括上述的显示基板。本专利技术的另一个目的在于提供一种显示装置，包括上述的显示面板。本专利技术提供的柔性基底及其制备方法、柔性显示器件及其制备方法，显示基板，显示面板，显示装置，由于柔性基底包括设置在两层柔性层之间的紫外光吸收层，该紫外光吸收层能在有源层采用准分子激光辐照对非晶硅转化多晶硅时，具有夹心紫外光吸收层的柔性基底，能够利用紫外光吸收层吸收多余的激光能量，防止柔性层受热碳化；而当对柔性基底和玻璃衬底分离时，用于剥离的激光束从玻璃衬底射入，柔性基底能够利用紫外光吸收层吸收多余的激光能量，防止激光对形成的薄膜晶体管的有源层性能产生不良影响。【附图说明】图1为本专利技术实施例1中柔性基底的结构示意图；图2为本专利技术实施例3中柔性显示器件制备时对有源层进行准分子激光照射的示意图；图3为本专利技术实施例3中柔性显示器件制备时柔性显示器件和玻璃进行剥离的示意图；其中，1.玻璃衬底；2.第一柔性层；3.紫外光吸收层；4.第二柔性层。【具体实施方式】为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和【具体实施方式】对本专利技术作进一步详细描述。实施例1:如图1所示，本实施例提供一种柔性基底，包括第一柔性层和第二柔性层4，及设置在所述第一柔性层2和所述第二柔性层4之间的紫外光吸收层3，其中，所述紫外光吸收层3的对紫外光的吸收能力大于等于所述第一柔性层2和所述第二柔性层4对紫外光的吸收能力。本专利技术提供的柔性基底及其制备方法、显示装置，由于柔性基底包括设置在两层柔性层之间的紫外光吸收层3，该紫外光吸收层3能在有源层采用准分子激光辐照对非晶硅转化多晶硅时，具有夹心紫外光吸收层3的柔性基底，能够利用紫外光吸收层3吸收多余的激光能量，防止柔性层受热碳化；而当对柔性基底和玻璃衬底I分离时，用于剥离的激光束从玻璃衬底11射入，柔性基底能够利用紫外光吸收层3吸收多余的激光能量，防止激光对形成的薄膜晶体管的有源层性能产生不良影响。优选地，所述紫外光吸收层3包括非晶硅、氧化铟锡、铟镓锌氧化物中的一种或几种。同样，对于P型掺杂的氧化铟锡和η型掺杂的氧化铟锡也是适用的。应当理解的是还可以是其它类型的材料，只要所述紫外光吸收层3的对紫外光的吸收能力大于等于所述第一柔性层2和所述第二柔性层4对紫外光的吸收能力即可。优选地，所述紫外光吸收层3为非晶娃层；所述紫外线的波长在271nm-355nm之间。在此紫外线的波长范围内非晶硅层对紫外线的吸收能力大于等于作为柔性层的聚酰亚胺对紫外线的吸收能力，能够保护薄膜晶体管免受紫外光能量的冲击，并有利后续制程。优选地，所述非晶硅层的厚度为100-10000埃。这样非晶硅层能够更好的吸收紫外光的能量。优选地，所述第一柔性层2或所述第二柔性层4包括聚酰亚胺。聚酰亚胺作为常用材料更加适合柔性层的制作。优选地，所述第一柔性层2和所述第二柔性层4厚度为5-30微米。上述范围内的柔性层厚度可以更好的适应剥离玻璃衬底I和制备平坦的功能层的需求。实施例2[0当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种柔性基底，其特征在于，包括第一柔性层和第二柔性层，及设置在所述第一柔性层和所述第二柔性层之间的紫外光吸收层，其中，所述紫外光吸收层的对紫外光的吸收能力大于等于所述第一柔性层和所述第二柔性层对紫外光的吸收能力。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：谢春燕，谢明哲，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11