本实用新型专利技术公开了一种直供冲水的湿法插片机,包括中转水槽和硅片水槽；中转水槽内上端一侧设置有进水管道，中转水槽内下端设置有过滤器；硅片水槽内一侧设置有硅片篮，硅片篮内放置有硅片，硅片篮的近上端设置有用于传送硅片的吸附传输机构；中转水槽内的过滤器通过第一连接水管连接离心水泵，离心水泵通过第二连接水管连通到硅片水槽内，第二连接水管连通到硅片水槽内的一端连接有喷头。本实用新型专利技术的目的是提供一种直供冲水的湿法插片机，采用中间储水槽方式，避免管道内抽空或管道内压力变化影响冲片水流速度，并防止管道内结絮。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光伏晶体硅片多线切割设备
，尤其是涉及硅片插装花篮工序中的一种直供冲水的湿法插片机。
技术介绍
光伏晶体硅加工工序，多线切割、脱胶完毕后，需将硅片插入花篮中，以为下道清洗工序做好准备。当前，最为先进的插片设备为全自动的湿法插片机，其工作原理为通过前喷头水流冲击，将硅片冲起，从而顺着皮带带走硅片，最终完成插片。由于脱胶工序普遍采用乳酸浸泡脱胶方式，因此硅片间存留较多乳酸，乳酸在水内极易形成结絮。自来水补进插片机插片槽后，采用内循环方式冲片，管道容易产生较多结絮，虽然有另一路自来水补给进硅片水槽内，作为溢流稀释，但仍不能有效解决结絮现象。一般运行两周时间结絮达到4-6_厚，因此，需经常拆卸管道、水栗清理。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种直供冲水的湿法插片机，改内循环方式为直接供给自来水，水量与原来用量相当，采用中间储水槽方式，避免管道内抽空或管道内压力变化，影响冲片水流速度，从而稳定插片工艺，并有效防止管道内不结絮。为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案:本技术一种直供冲水的湿法插片机，包括中转水槽，所述中转水槽内上端一侧设置有进水管道，所述进水管道延伸到中转水槽内的部分连接有用于测水位的漂浮阀门，所述中转水槽内下端设置有过滤器；硅片水槽，所述硅片水槽内一侧设置有硅片篮，所述硅片篮内放置有硅片，所述硅片篮的近上端设置有用于传送硅片的吸附传输机构，所述吸附传输机构包括一级传送带和用于将硅片吸附到一级传送带上的吸附装置；所述中转水槽内的过滤器通过第一连接水管连接离心水栗，所述离心水栗通过第二连接水管连通到硅片水槽内，所述第二连接水管连通到硅片水槽内的一端连接有喷头。进一步的，所述一级传送带一端位于硅片篮上方，另一端设置有二级传送带。进一步的，所述喷头的喷水方向朝向硅片篮内的硅片。进一步的，所述过滤器和离心水栗之间的第一连接水管上设置有单向阀，满足中转水槽的高度低于硅片水槽位置时的安装。进一步的，所述第一连接水管与中转水槽的连接处设置有防止漏水的密封圈。进一步的，所述第二连接水管与硅片水槽的连接处设置有防止漏水的密封圈。进一步的，所述中转水槽的上部分有开口结构，与大气相通。本技术的有益效果为:管道内不结絮，水流压力稳定，用水量不增加，停止冲片便停止溢流水量。下面结合【附图说明】对本技术作进一步说明。【附图说明】图1为本技术直供冲水的湿法插片机的结构示意。附图标记说明:1-离心水栗；2_单向阀；3-中转水槽；4_过滤器；5_进水管道；6-浮漂阀门；7_二级传送带；8_—级传送带；9_吸附装置；10_硅片篮；11_硅片；12_喷头；13-硅片水槽；14_第一连接水管；15_第二连接水管。【具体实施方式】于一实施例中，如图1所示，一种直供冲水的湿法插片机，包括中转水槽3和硅片水槽13 ;中转水槽3的上部分有开口结构，与大气相通，从而屏蔽进水管道压力波动带来的影响，中转水槽3内上端一侧设置有进水管道5，进水管道5延伸到中转水槽3内的部分连接有用于测水位的漂浮阀门6，方便观看水位，中转水槽3内下端设置有过滤器4，硅片水槽13内一侧设置有可上、下移动硅片篮10，硅片篮10内放置有硅片11，硅片篮10的近上端设置有用于传送硅片11的吸附传输机构，该吸附传输机构包括一级传送带8和用于将硅片11吸附到一级传送带8上的吸附装置9，一级传送带8 一端位于硅片篮10上方，另一端设置有二级传送带7 ;中转水槽3内的过滤器4通过第一连接水管14连接离心水栗1，离心水栗I通过第二连接水管15连通到硅片水槽13内，第二连接水管15连通到硅片水槽13内的一端连接有喷头12，过滤器4和离心水栗I之间的第一连接水管14上设置有单向阀2，满足中转水槽3的高度低于硅片水槽13位置时的安装，节省设备整体体积，喷头12的喷水方向朝向硅片篮10内的硅片11。其中第一连接水管14与中转水槽3的连接处设置有防止漏水的密封圈，第二连接水管15与硅片水槽13的连接处设置有同样的防止漏水的密封圈。本技术的工作过程如下:自来水通过进水管道5直接供水给中转水槽3，然后通过离心栗I将水抽到硅片水槽13内，喷头12直喷向硅片篮10内硅片11，可以使硅片11在水中悬浮，然后通过吸附传输机构传送到二级传送带7传送走，每吸附传输走一片硅片11，硅片篮10就自动上升一片硅片厚度的高度，可以有效保证硅片11被逐渐吸附传送走。该装置通过增加中间水槽3，有效解决了水栗直接吸自来水管里的水导致压力不稳定从而影响冲片效果的问题，以及管道内结絮严重导致栗和管道需要经常清理的问题。以上所述的实施例仅是对本技术的优选方式进行描述，并非对本技术的范围进行限定，在不脱离本技术设计精神的前提下，本领域普通技术人员对本技术的技术方案做出的各种变形和改进，均应落入本技术权利要求书确定的保护范围内。【主权项】1.一种直供冲水的湿法插片机，其特征在于:包括 中转水槽(3 )，所述中转水槽(3 )内上端一侧设置有进水管道(5 )，所述进水管道(5 )延伸到中转水槽(3)内的部分连接有用于测水位的漂浮阀门(6)，所述中转水槽(3)内下端设置有过滤器(4); 硅片水槽(13)，所述硅片水槽(13)内一侧设置有可上、下移动的硅片篮(10)，所述硅片篮(10)内放置有硅片(11)，所述硅片篮(10)的近上端设置有用于传送硅片(11)的吸附传输机构，所述吸附传输机构包括一级传送带(8)和用于将硅片(11)吸附到一级传送带(8)上的吸附装置(9); 所述中转水槽(3)内的过滤器(4)通过第一连接水管(14)连接离心水栗(I )，所述离心水栗(I)通过第二连接水管(15)连通到硅片水槽(13)内，所述第二连接水管(15)连通到硅片水槽(13)内的一端连接有喷头(12)。2.根据权利要求1所述的直供冲水的湿法插片机，其特征在于:所述一级传送带(8)—端位于硅片篮(10 )上方，另一端设置有二级传送带(7 )。3.根据权利要求1所述的直供冲水的湿法插片机，其特征在于:所述喷头(12)的喷水方向朝向硅片篮(10)内的硅片(11)。4.根据权利要求1所述的直供冲水的湿法插片机，其特征在于:所述过滤器(4)和离心水栗(I)之间的第一连接水管(14)上设置有单向阀(2)，满足中转水槽(3)的高度低于硅片水槽(13)位置时的安装。5.根据权利要求1所述的直供冲水的湿法插片机，其特征在于:所述第一连接水管(14)与中转水槽(3)的连接处设置有防止漏水的密封圈。6.根据权利要求1所述的直供冲水的湿法插片机，其特征在于:所述第二连接水管(15)与硅片水槽(13)的连接处设置有防止漏水的密封圈。7.根据权利要求1所述的直供冲水的湿法插片机，其特征在于:所述中转水槽(3)的上部分有开口结构，与大气相通。【专利摘要】本技术公开了一种直供冲水的湿法插片机,包括中转水槽和硅片水槽；中转水槽内上端一侧设置有进水管道，中转水槽内下端设置有过滤器；硅片水槽内一侧设置有硅片篮，硅片篮内放置有硅片，硅片篮的近上端设置有用于传送硅片的吸附传输机构；中转水槽内的过滤器通过第一连接水管连接离心水泵，离心水泵通过第二连接水管连通到硅片水槽内，第二连接水管连通到硅本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种直供冲水的湿法插片机，其特征在于：包括 中转水槽（3），所述中转水槽（3）内上端一侧设置有进水管道（5），所述进水管道（5）延伸到中转水槽（3）内的部分连接有用于测水位的漂浮阀门（6），所述中转水槽（3）内下端设置有过滤器（4）；硅片水槽（13），所述硅片水槽（13）内一侧设置有可上、下移动的硅片篮（10），所述硅片篮（10）内放置有硅片（11），所述硅片篮（10）的近上端设置有用于传送硅片（11）的吸附传输机构，所述吸附传输机构包括一级传送带（8）和用于将硅片（11）吸附到一级传送带（8）上的吸附装置（9）；所述中转水槽（3）内的过滤器（4）通过第一连接水管（14）连接离心水泵（1），所述离心水泵（1）通过第二连接水管（15）连通到硅片水槽（13）内，所述第二连接水管（15）连通到硅片水槽（13）内的一端连接有喷头（12）。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：荆新杰，刘巍，李宁，李佩剑，韩庆辉，周为贞，牛猛，朱瑞忠，
申请(专利权)人：阳光硅峰电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：河北;13
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