本发明专利技术公开了一种电子束熔炼炉用水冷坩埚，包括底座，底座上端面形成凸环，外水套、夹套下端均与凸环顶面连接，内水套下端插入凸环内，且与底座连接，外水套、夹套、内水套由外至内依次设置，夹套外壁与外水套内壁之间形成间隙，夹套和内水套之间间隙配合；外水套和内水套上端通过法兰连接；内水套外圆周壁形成螺旋槽；外水套下端安装有进水管和出水管，进水管贯穿外水套和夹套且与螺旋槽连通，出水管贯穿外水套且与间隙连通。本发明专利技术采取下进下出的水路结构，无冷却死区，冷却效果好；内水套采取螺纹结构，增加换热面积；内水套和外水套、夹层之间采取静密封结构连接，易于制造。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于一种坩祸，具体涉及一种电子束熔炼炉用水冷坩祸。
技术介绍
电子束熔炼炉是进行电子束熔炼的设备，常用于难熔金属、合金及其化合物的熔炼。电子束熔炼炉常用的水冷坩祸为下进上出的水路结构，坩祸上端会有冷却水达不到的死体积，容易导致水沸腾，不利于冷却。
技术实现思路
本专利技术是为了克服现有技术中存在的缺点而提出的，其目的是提供一种电子束熔炼炉用水冷坩祸。本专利技术的技术方案是: 一种电子束熔炼炉用水冷坩祸，包括底座，底座上端面形成凸环，外水套、夹套下端均与凸环顶面连接，内水套下端插入凸环内，且与底座连接，外水套、夹套、内水套由外至内依次设置，夹套外壁与外水套内壁之间形成间隙，夹套和内水套之间间隙配合；外水套和内水套上端通过法兰连接；内水套外圆周壁形成螺旋槽；外水套下端安装有进水管和出水管，进水管贯穿外水套和夹套且与螺旋槽连通，出水管贯穿外水套且与间隙连通。所述螺旋槽截面呈矩形。所述外水套和内水套上端均形成法兰，且外水套的法兰与内水套的法兰之间设置有I号密封圈。所述夹套上端向内形成凸缘。所述凸缘伸入螺旋槽内，且与螺旋槽槽底之间存在间隙。所述夹套的高度略低于外水套的高度。所述内水套外壁与凸环内壁之间设置有II号密封圈。本专利技术的有益效果是: 本专利技术采取下进下出的水路结构，无冷却死区，冷却效果好；内水套采取螺纹结构，增加换热面积；内水套和外水套、夹层之间采取静密封结构连接，易于制造。【附图说明】图1是本专利技术的结构示意图(沿图2中B-B向剖面图)； 图2是图1中沿A-A向的剖面图。其中: I内水套2夹套 3外水套4进水管 5出水管6底座 7凸缘8螺旋槽 9间隙10 I号密封圈 11凸环12 II号密封圈。【具体实施方式】下面结合说明书附图及实施例对本专利技术电子束熔炼炉用水冷坩祸进行详细说明: 如图1~2所示，一种电子束熔炼炉用水冷坩祸，包括底座6，底座6上端面形成凸环11，外水套3、夹套2下端均与凸环11顶面连接，内水套I下端插入凸环11内，且与底座6连接，外水套3、夹套2、内水套I由外至内依次设置，夹套2外壁与外水套3内壁之间形成间隙9，夹套2的内壁和内水套I的外壁贴紧配合；外水套3和内水套I上端通过法兰连接；内水套I外圆周壁形成螺旋槽8 ;外水套3下端安装有进水管4和出水管5，进水管4贯穿外水套3和夹套2且与螺旋槽8连通，出水管5贯穿外水套3且与间隙9连通。所述螺旋槽8截面呈矩形。所述外水套3和内水套I上端均形成法兰，且外水套3的法兰与内水套I的法兰之间设置有I号密封圈10。所述夹套2上端向内形成凸缘7。所述凸缘7伸入螺旋槽8内，且与螺旋槽8槽底之间存在间隙，使冷却水通过该间隙从内水套I的螺旋槽8中流入夹套2与外水套3之间的间隙9中。所述夹套2的高度略低于外水套3的高度。所述内水套I外壁与凸环11内壁之间设置有II号密封圈12。本专利技术的水路为下进下出结构，进水通过进水管4流至内水套I与夹层2之间，沿螺旋槽8上升，上升至顶端，由凸缘7与螺旋槽8槽底之间的间隙流出，进入夹层2与外水套之间间隙9，由顶端下降，流至出水管5处沿出水管5流出。本专利技术采取下进下出的水路结构，无冷却死区，冷却效果好；内水套采取螺纹结构，增加换热面积；内水套和外水套、夹层之间采取静密封结构连接，易于制造。【主权项】1.一种电子束熔炼炉用水冷坩祸，包括底座(6)，其特征在于:所述底座(6)上端面形成凸环(11)，外水套(3)、夹套(2)下端均与凸环(11)顶面连接，内水套(I)下端插入凸环(11)内，且与底座(6)连接，外水套(3)、夹套(2)、内水套(I)由外至内依次设置，夹套(2)外壁与外水套(3)内壁之间形成间隙(9)，夹套(2)和内水套(I)之间间隙配合；外水套(3)和内水套(I)上端通过法兰连接；内水套(I)外圆周壁形成螺旋槽(8);外水套(3)下端安装有进水管(4)和出水管(5)，进水管(4)贯穿外水套(3)和夹套(2)且与螺旋槽(8)连通，出水管(5)贯穿外水套(3)且与间隙(9)连通。2.根据权利要求1所述的一种电子束熔炼炉用水冷坩祸，其特征在于:所述螺旋槽(8)截面呈矩形。3.根据权利要求1所述的一种电子束熔炼炉用水冷坩祸，其特征在于:所述外水套(3)和内水套(I)上端均形成法兰，且外水套(3)的法兰与内水套(I)的法兰之间设置有I号密封圈(10)。4.根据权利要求1所述的一种电子束熔炼炉用水冷坩祸，其特征在于:所述夹套(2)上端向内形成凸缘(7)。5.根据权利要求4所述的一种电子束熔炼炉用水冷坩祸，其特征在于:所述凸缘(7)伸入螺旋槽(8)内，且与螺旋槽(8)槽底之间存在间隙。6.根据权利要求1所述的一种电子束熔炼炉用水冷坩祸，其特征在于:所述夹套(2)的高度略低于外水套(3)的高度。7.根据权利要求1所述的一种电子束熔炼炉用水冷坩祸，其特征在于:所述内水套(I)外壁与凸环内壁之间设置有II号密封圈(12)。【专利摘要】本专利技术公开了一种电子束熔炼炉用水冷坩埚，包括底座，底座上端面形成凸环，外水套、夹套下端均与凸环顶面连接，内水套下端插入凸环内，且与底座连接，外水套、夹套、内水套由外至内依次设置，夹套外壁与外水套内壁之间形成间隙，夹套和内水套之间间隙配合；外水套和内水套上端通过法兰连接；内水套外圆周壁形成螺旋槽；外水套下端安装有进水管和出水管，进水管贯穿外水套和夹套且与螺旋槽连通，出水管贯穿外水套且与间隙连通。本专利技术采取下进下出的水路结构，无冷却死区，冷却效果好；内水套采取螺纹结构，增加换热面积；内水套和外水套、夹层之间采取静密封结构连接，易于制造。【IPC分类】F27D9/00, F27B14/10【公开号】CN105091584【申请号】CN201510602204【专利技术人】张志平, 高学林, 刘元, 张帆 【申请人】核工业理化工程研究院【公开日】2015年11月25日【申请日】2015年9月21日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种电子束熔炼炉用水冷坩埚，包括底座（6），其特征在于：所述底座（6）上端面形成凸环（11），外水套（3）、夹套（2）下端均与凸环（11）顶面连接，内水套（1）下端插入凸环（11）内，且与底座（6）连接，外水套（3）、夹套（2）、内水套（1）由外至内依次设置，夹套（2）外壁与外水套（3）内壁之间形成间隙（9），夹套（2）和内水套（1）之间间隙配合；外水套（3）和内水套（1）上端通过法兰连接；内水套（1）外圆周壁形成螺旋槽（8）；外水套（3）下端安装有进水管（4）和出水管（5），进水管（4）贯穿外水套（3）和夹套（2）且与螺旋槽（8）连通，出水管（5）贯穿外水套（3）且与间隙（9）连通。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张志平，高学林，刘元，张帆，
申请(专利权)人：核工业理化工程研究院，
类型：发明
国别省市：天津;12
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