一种Cu‑Ti非晶合金薄膜及其制备方法技术

技术编号:12254363 阅读:86 留言:0更新日期:2015-10-28 17:19
本发明专利技术公开了一种Cu‑Ti非晶合金薄膜及其制备方法,其特征在于:非晶合金薄膜的结构式为CuxTi100‑x(54≤x≤66),其中x为Cu元素的原子百分数;与通常的制备工艺不同的是,该非晶合金薄膜通过电子束+电阻蒸发复合镀膜的技术,在制备过程中,金属Ti和金属Cu分别采用电子束和电阻蒸发源蒸镀,衬底基板不需要加冷却装置,简化了制备工艺,降低了生产成本。本发明专利技术制备的非晶薄膜,非晶结构明显,可以通过调节蒸镀电流和蒸镀时间,控制非晶薄膜的成分和尺寸。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于非晶合金薄膜材料
,具体的说是涉及。
技术介绍
非晶合金是上个世纪60年代开始开发的一种新型金属材料,与普通的晶态合金相比,因其具有更加优异的力学性能、磁学性能、抗腐蚀性能以及生物兼容性,从而受到了材料领域的广泛关注,并被认为具有极其广泛的应用潜力。非晶合金薄膜不仅具有块体非晶合金的优异特点,而且因为其类似于二维材料的特点,制备所需的要求也更低,玻璃形成能力范围更宽。此外,非晶合金薄膜具有优秀的均匀性、耐磨和耐腐蚀性、高硬度、高电阻性、高活性和催发性以及许多特殊的磁学性质。因为其优良的物理和化学性能,最近十多年非晶合金薄膜的开发、应用发展迅速,尤其在微/纳电子机械系统(MEMS/NEMS)与生物医学领域,具有很重要的潜在应用价值。Cu基非晶合金自从被开发以来,因为其较低的成本以及优良的力学性能受到材料领域的关注,被认为具体广泛的应用前景。目前,在制备非晶薄膜的工艺当中:1)磁控溅射法,其制备的薄膜和基片结合力更牢固,但由于采用磁控溅射法需氩离子轰击靶材,制备样品易含有杂质,且需制备靶材,操作过程复杂,成本较高;2)采用固相非晶化反应法需探索反应时间、反应本文档来自技高网...
一种<a href="http://www.xjishu.com/zhuanli/24/CN105002467.html" title="一种Cu‑Ti非晶合金薄膜及其制备方法原文来自X技术">Cu‑Ti非晶合金薄膜及其制备方法</a>

【技术保护点】
一种Cu‑Ti非晶合金薄膜,其特征在于:所述Cu‑Ti非晶合金薄膜的结构式为CuxTi100‑x,54≤x≤66,其中x为Cu元素的原子百分数。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张博朱振西杨宇
申请(专利权)人:合肥工业大学
类型:发明
国别省市:安徽;34

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