公开一种射频(RF)系统。该RF系统包括RF传感器、模拟数字转换器(ADC)模块、处理模块和同步模块。该RF传感器测量RF输出的参数，并且基于该参数，生成RF信号。该ADC模块将该RF信号的样本转换为数字值。该处理模块基于该数字值生成处理过的值。该同步模块响应于该RF输出中的转变，输出该处理过的值中之一。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及等离子体腔，并且涉及射频(RF)测量系统和方法。
技术介绍
这里提供的背景描述用于概括地呈现本公开的背景。本专利技术中提到的专利技术人的工作(就在本
技术介绍
部分中描述的其范围而言)以及在提交时可能不视作现有技术的本说明书的方面，不隐含地也不明确地被认为是本公开的现有技术。射频(RF)发生器接收交流(AC)输入功率，并且生成RF输出。可以将该RF输出施加至例如等离子体腔的等离子体电极。等离子体腔可以在薄膜制造系统和其它类型的系统中使用。在一些情况下，等离子体腔可以包括多个等离子体电极。仅作为示例，在正处理的表面面积大于单个等离子体电极能够服务的面积的情况下，可以实现一个以上的等离子体电极。因此，在一些情况下可以使用多个RF发生器。RF发生器中的每个生成RF输出，并且将该RF输出施加至多个等离子体电极中的一个。为了生成相同的RF输出，这些RF发生器可以电连接。
技术实现思路
在第一特征中，公开一种射频(RF)系统。所述RF系统包括RF传感器、模拟数字转换器(ADC)模块、处理模块以及同步模块。所述RF传感器测量RF输出的参数，并且基于所述参数来生成RF信号。所述ADC模块将所述RF信号的样本转换为数字值。所述处理模块基于所述数字值，生成处理过的值。所述同步模块响应于所述RF输出中的转变，输出所述处理过的值中之一。在进一步的特征中，所述RF系统进一步包括:驱动器，生成所述RF输出；供电模块，基于轨电压设定点而向所述驱动器施加轨电压；驱动器控制模块，基于驱动器控制设定点来驱动所述驱动器；以及输出控制模块，基于所述处理过的值中的所述之一，选择性地调整所述轨电压设定点和所述驱动器控制设定点中的至少一个。在再进一步的特征中，所述ADC模块以第一预定频率采样所述RF信号。在又进一步的特征中，所述输出控制模块以第二预定频率选择性地更新所述轨电压设定点和所述驱动器控制设定点。所述第二预定频率小于所述第一预定频率。在进一步的特征中，所述同步模块响应于所述RF信号的大于预定值的升高，输出所述处理过的值中的所述之一。在再进一步的特征中，所述同步模块响应于所述RF信号的大于预定值的降低，输出所述处理过的值中的所述之一。在又进一步的特征中，所述同步模块响应于所述轨电压的大于预定值的升高和降低之一，输出所述处理过的值中的所述之一。在进一步的特征中，所述同步模块响应于所述驱动器控制模块的输出的大于预定值的升高和降低之一，输出所述处理过的值中的所述之一。在再进一步的特征中:所述RF传感器进一步测量所述RF输出的第二参数，并且基于所述第二参数生成第二 RF信号；所述RF系统进一步包括第二 ADC模块，所述的第二 ADC模块将所述第二 RF信号的样本转换为第二数字值；所述处理模块基于所述第二数字值来生成第二处理过的值；所述同步模块响应于所述RF输出中的转变，输出所述第二处理过的值中之一；并且所述输出控制模块进一步基于所述第二处理过的值中的所述之一，选择性地调整所述轨电压设定点和所述驱动器控制设定点中的至少一个。在再进一步的特征中，等离子体腔系统包括:所述RF系统；滤波器，所述滤波器对所述RF输出进行滤波；以及等离子体电极，所述等离子体电极接收经滤波的RF输出。在第二特征中，公开一种射频(RF)控制方法。所述RF控制方法包括:使用RF传感器来测量RF输出的参数；使用所述RF传感器来基于所述参数生成RF信号；将所述RF信号的样本转换为数字值；基于所述数字值，生成处理过的值；以及响应于所述RF输出中的转变，输出所述处理过的值中之一。在再进一步的特征中，所述RF控制方法进一步包括:使用驱动器来生成所述RF输出；基于轨电压设定点，向所述驱动器施加轨电压；基于驱动器控制设定点，驱动所述驱动器；并且，基于所述处理过的值中的所述之一，选择性地调整所述轨电压设定点和所述驱动器控制设定点中的至少一个。在又进一步的特征中，所述RF控制方法进一步包括:以第一预定频率采样所述RF信号。在进一步的特征中，所述RF控制方法进一步包括:以第二预定频率选择性地更新所述轨电压设定点和所述驱动器控制设定点。所述第二预定频率小于所述第一预定频率。在又进一步的特征中，所述RF控制方法进一步包括:响应于所述RF信号的大于预定值的升高，输出所述处理过的值中的所述之一。在进一步的特征中，所述RF控制方法进一步包括:响应于所述RF信号的大于预定值的降低，输出所述处理过的值中的所述之一。在再进一步的特征中，所述RF控制方法进一步包括:响应于所述轨电压的大于预定值的升高和降低之一，输出所述处理过的值中的所述之一。在又进一步的特征中，所述RF控制方法进一步包括:响应于所述驱动器的输入的大于预定值的升高和降低之一，输出所述处理过的值中的所述之一。在进一步的特征中，所述RF控制方法进一步包括:使用所述RF传感器来测量所述RF输出的第二参数；使用所述RF传感器来基于所述第二参数生成第二 RF信号；将所述第二 RF信号的样本转换为第二数字值；基于所述第二数字值来生成第二处理过的值；响应于所述RF输出中的转变，输出所述第二处理过的值中之一；以及进一步基于所述第二处理过的值中的所述之一，选择性地调整所述轨电压设定点和所述驱动器控制设定点中的至少一个。在第三特征中，公开一种射频(RF)系统。RF传感器测量RF输出的参数，并且基于所述参数来生成RF信号。模拟数字转换器(ADC)模块将所述RF信号的样本转换为数字值。同步模块响应于所述RF输出中的转变，输出所述数字值中之一。处理模块基于所述数字值中的所述之一，生成处理过的值。在进一步的特征中，所述RF系统进一步包括:驱动器，所述驱动器生成所述RF输出；供电模块，所述供电模块基于轨电压设定点，向所述驱动器施加轨电压；驱动器控制模±夬，所述驱动器控制模块基于驱动器控制设定点来驱动所述驱动器；以及输出控制模块，所述输出控制模块基于所述处理过的值，选择性地调整所述轨电压设定点和所述驱动器控制设定点中的至少一个。在再进一步的特征中，所述ADC模块以第一预定频率采样所述RF信号。在又进一步的特征中，所述输出控制模块以第二预定频率选择性地更新所述轨电压设定点和所述驱动器控制设定点。所述第二预定频率小于所述第一预定频率。在进一步的特征中，所述同步模块响应于所述RF信号的大于预定值的升高，输出所述数字值中的所述之一。在又进一步的特征中，所述同步模块响应于所述RF信号的大于预定值的降低，输出所述数字值中的所述之一。在再进一步的特征中，所述同步模块响应于所述轨电压的大于预定值的升高和降低之一，输出所述数字值中的所述之一。在进一步的特征中，所述同步模块响应于所述驱动器控制模块的输出的大于预定值的升高和降低之一，输出所述数字值中的所述之一。在又进一步的特征中:所述RF传感器进一步测量所述RF输出的第二参数，并且基于所述第二参数，生成第二 RF信号；所述RF系统进一步包括第二 ADC模块，所述第二 ADC模块将所述第二 RF信号的样本转换为第二数字值；所述同步模块响应于所述RF输出中的转变，输出所述第二数字值中之一；所述处理模块基于所述第二数字值中的所述之一，生成第二处理过的值；以及所述输出控制模块进一步基于所述第二数字值中的所述之一，选择性地调整所述轨电压设定本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种射频(RF)系统，包括：RF传感器，测量RF输出的参数，并且基于所述参数来生成RF信号；模拟数字转换器(ADC)模块，将所述RF信号的样本转换为数字值；处理模块，基于所述数字值来生成处理过的值；以及同步模块，响应于所述RF输出中的转变，输出所述处理过的值中之一。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：戴维·J·库莫，拉里·J·菲斯克二世，亚伦·T·瑞多姆斯基，金宰显，李相元，乔纳森·斯米卡，
申请(专利权)人：MKS仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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