成膜掩模的制造方法以及激光加工装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及成膜掩模的制造方法以及激光加工装置，该成膜掩模的制造方法包括：形成使设置有贯通孔的磁性金属部件与薄膜的一面紧密接触的构造的掩模用部件的第1阶段；向多个贯通孔内的预先决定的标准位置照射激光来贯通加工薄膜，从而形成多个预备开口图案的第2阶段；以及在多个预备开口图案上激光加工开口图案的第3阶段。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及利用薄板状的磁性金属部件支承设置有开口图案的树脂制薄膜的构造的成膜掩模的制造方法，特别是能够提高基于激光加工的开口图案的形成位置精度的成膜掩模的制造方法以及激光加工装置。
技术介绍
在现有的成膜掩模的制造方法中，将具有多个贯通开口的第I抗蚀剂图案形成于金属板上，经由上述第I抗蚀剂图案的贯通开口进行蚀刻处理来形成贯通上述金属板的多个开口图案后，除去上述第I抗蚀剂图案，将具有使上述多个开口图案各自周围的规定宽度的金属缘部露出的多个第2贯通开口的第2抗蚀剂图案形成于上述金属板上，经由上述第2抗蚀剂图案的第2贯通开口进行蚀刻处理来形成上述多个贯通开口各自周围的掩模主体部和位于该掩模主体部的周围的具有比掩模主体部的厚度大的厚度的周缘部后，除去上述第2抗蚀剂图案(例如，参照专利文献I)。专利文献1:日本特开2001-237072号公报但是，在这种现有的成膜掩模的制造方法中，由于湿式蚀刻处理金属板来形成贯通该金属板的多个开口图案，所以因湿式蚀刻的各向同性而无法高精度地形成高精细的开口图案。另外，在一边的长度为几十厘米以上的大面积的例如有机EL显示面板用成膜掩模的情况下，因蚀刻不均的产生而无法均匀地形成掩模整个表面的开口图案。因此，申请人提出了使与成膜于基板的薄膜图案对应地形成与该薄膜图案形状尺寸相同的开口图案的树脂制的薄膜、与形成有内含开口图案的贯通孔的薄板状的磁性金属部件紧密接触的构造的复合型成膜掩模。上述复合型的成膜掩模通过在厚度为10 μπι?30 μm左右的薄树脂制薄膜激光加工开口图案而形成，具有能够高精度地形成高精细的开口图案，并且如上所述的大面积的成膜掩模也能够遍及掩模整个表面均匀地形成开口图案的特长。然而，在上述复合型成膜掩模中，在使例如因瓦或者因瓦合金之类的热膨胀系数小的磁性金属部件与树脂制薄膜之类的热膨胀系数比较大的部件在室温以上紧密接触后，若激光加工开口图案，则因两部件间的热膨胀之差引发产生的薄膜的内部应力，导致开口图案的位置累积地偏移。
技术实现思路
因此，本专利技术应对这种问题，目的在于提供能够提高基于激光加工的开口图案的形成位置精度的成膜掩模的制造方法以及激光加工装置。为了实现上述目的，第I专利技术的成膜掩模的制造方法具备:树脂制的薄膜，其形成有贯通的多个开口图案；和磁性金属部件，其设置为与上述薄膜的一面紧密接触并设置有内含上述多个开口图案的至少一个的大小的多个贯通孔，该成膜掩模的制造方法包括:第I阶段，其形成使设置有上述贯通孔的上述磁性金属部件与上述薄膜的一面紧密接触的构造的掩模用部件；第2阶段，其向上述多个贯通孔内的预先决定的标准位置照射激光来贯通加工上述薄膜，从而形成被上述开口图案内含的形状的多个预备开口图案；以及第3阶段，其在上述多个预备开口图案上激光加工上述开口图案。另外，第2专利技术的激光加工装置向使设置有多个贯通孔的磁性金属部件与树脂制的薄膜的一面紧密接触的构造的掩模用部件的上述贯通孔内照射激光，从而形成贯通上述薄膜的多个开口图案，该激光加工装置构成为具备:工作台，其载置上述掩模用部件并能够在与载置面平行的二维平面内移动；和激光光学头，其与上述开口图案的形状对应地整形上述激光的光束剖面形状并将其照射于上述掩模用部件，上述激光光学头具备:将具有与上述开口图案相似的形状的第I狭缝、以及具有与上述开口图案所内含的形状的预备开口图案相似的形状的第2狭缝排列形成于相同的基板，并设置为能够与上述激光的光路交叉地移动的光束剖面整形掩模、或者将上述第I狭缝以及第2狭缝分别形成于不同的基板，并设置为能够相对于上述激光的光路进行替换的光束剖面整形掩模；与将上述第I以及第2狭缝缩小投影于上述掩模用部件上的投影透镜，一边使上述工作台移动，一边使用上述光束剖面整形掩模的上述第2狭缝向上述贯通孔内的预先决定的标准位置照射激光，在贯通加工上述薄膜来形成多个上述预备开口图案后，使用上述光束剖面整形掩模的第I狭缝，在上述多个预备开口图案上激光加工上述开口图案。根据本专利技术，由于以预先形成开口图案所内含的形状的预备开口图案来释放内存于薄膜的内部应力的一部分的状态，在预备开口图案上形成有开口图案，所以能够抑制开口图案形成后的开口图案的位置偏移。因此，能够提高基于激光加工的开口图案的形成位置精度。【附图说明】图1是表示本专利技术的成膜掩模的制造方法的实施方式的流程图。图2是通过本专利技术的方法制造的成膜掩模的一个结构例，图2(a)是俯视图，图2(b)是将图2(a)的一部分放大表示的俯视图，图2(c)是图2(a)的0_0线剖面向视图。图3是表示本专利技术的成膜掩模的制造方法中的掩模用部件的形成工序的说明图。图4是表示本专利技术的成膜掩模的制造方法中的框架的接合工序的说明图。图5是对复合型成膜掩模中的开口图案形成时的顾虑事项进行说明的图，图5(a)表示理想状态，图5(b)表示开口图案的位置偏移。图6是表示本专利技术的激光加工装置的一个结构例的图，图6(a)是主视图，图6 (b)是表示激光光学头的一个结构的说明图。图7是表示本专利技术的激光加工装置所使用的光束剖面整形掩模的一个结构例的俯视图。图8是对使用本专利技术的激光加工装置进行的激光加工进行说明的图，图8 (a)是俯视图，图8(b)是将一部分放大表不的俯视图。图9是表示本专利技术的成膜掩模的制造方法中的预备开口图案形成后的状态的说明图，图9(a)表不预备开口图案的整体的位置偏移，图9 (b)表不预备开口图案相对于标准位置的位置偏移。图10是表示本专利技术的成膜掩模的制造方法中的开口图案形成后的状态的说明图。图11是表示通过本专利技术的方法制造的成膜掩模的变形例的俯视图。【具体实施方式】以下，基于附图对本专利技术的实施方式详细地进行说明。图1是表示本专利技术的成膜掩模的制造方法的实施方式的流程图。该成膜掩模的制造方法制造利用薄板状的磁性金属部件支承设置有开口图案的树脂制薄膜的构造的成膜掩模，并包括:形成掩模用部件的步骤S1、接合框架的步骤S2、形成预备开口图案的步骤S3、以及形成开口图案的步骤S4。此处，作为一个例子，如图2所示，对多个与带有多块例如有机EL面板的大面积的基板对应的大面积的成膜掩模1、且是与上述多个面板对应地配置具备多个单位掩模2的成膜掩模I的制造方法进行说明。更详细而言，对具有如下构造的成膜掩模I的制造方法进行说明，即，在与欲形成的多个薄膜图案(例如，有机EL层)对应的位置，使薄板状的磁性金属部件6紧密与形成有具有与该薄膜图案相同的形状尺寸的贯通的多个开口图案3的透过可见光的树脂制的薄膜4的一面接触，该薄板状的磁性金属部件6形成有内含上述开口图案3的大小的贯通的多个贯通孔5，在该磁性金属部件6的与上述薄膜4的紧密接触面相反的一面的周缘部接合有具有内含上述多个贯通孔5的大小的开口 7的框状的框架8的端面。应予说明，虽在图2中示出了在条纹状的贯通孔5内设置有多个开口图案3的成膜掩模I的结构例，但成膜掩模I也可以在贯通孔5内设置有一个开口图案3。上述步骤SI是形成使设置有内含开口图案3的大小的、贯通的贯通孔5的磁性金属部件6与薄膜4的一面紧密接触的构造的掩模用部件12的工序。以下，参照图3详细地进行说明。首先，如图3(a)所示，与作为成膜对象的基板的表面积对应地切出由热膨胀系数为1X本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成膜掩模的制造方法，其具备：树脂制的薄膜，其形成有贯通的多个开口图案；和磁性金属部件，其设置为与所述薄膜的一面紧密接触并设置有内含所述多个开口图案的至少一个的大小的多个贯通孔，所述成膜掩模的制造方法的特征在于，包括：第1阶段，其形成使设置有所述贯通孔的所述磁性金属部件与所述薄膜的一面紧密接触的构造的掩模用部件；第2阶段，其向所述多个贯通孔内的预先决定的标准位置照射激光来贯通加工所述薄膜，从而形成所述开口图案所内含的形状的多个预备开口图案；以及第3阶段，其在所述多个预备开口图案上激光加工所述开口图案。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：水村通伸，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：日本;JP