一种PECVD设备用螺套结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种PECVD设备用螺套结构，包括：开设在PECVD设备腔体底部的螺纹槽，以及槽口向下地拧入所述螺纹槽的自攻螺套，所述自攻螺套为不锈钢材质。本实用新型专利技术通过采用不锈钢自攻螺套，使其与铝制腔体及螺丝接触面更大且无间隙，承受更大拉力，从而能长久使用相同的螺丝，长久保持腔体密封真空环境和提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及螺套，尤其涉及用于PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，等离子体增强化学气相沉积法)设备的螺套结构。
技术介绍
在PLC(可编程控制器件)晶圆生产中，PECVD设备的应用作为第一道也是最重要的一道工序，生长core deposition(核心沉积)。但因为PECVD属于高温真空设备，保养前后降温升温，设备中的金属螺丝热胀冷缩极容易产生chamber leak(室漏气)，不能使腔体长久保持真空环境，所以每次保养完都要再次拧紧螺丝。长此以往，设备使用过程中出现的螺纹溃牙、螺套突出螺纹槽极易产生chamber leak。如图1所示，PECVD铝制腔体底部钢丝螺套100很紧密地嵌套在螺纹槽200里，经常保养降温升温后，再重新拧紧螺丝出现钢丝螺纹螺套滑牙和突出螺纹槽，使腔体不能保持真空环境。因此，通过设计合适的螺套结构，以长久保持腔体的真空环境，是本领域技术人员需要解决的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种P本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种PECVD设备用螺套结构，其特征在于，包括：开设在PECVD设备腔体底部的螺纹槽；以及槽口向下地拧入所述螺纹槽的自攻螺套。

【技术特征摘要】
1.一种PECVD设备用螺套结构，其特征在于，包括：
开设在PECVD设备腔体底部的螺纹槽；以及
槽口向下地拧入所述螺纹槽的自攻螺套。
2.根据权利要求1所述的PECVD设备用螺套...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄惠良，赵继鸿，李雪峰，夏国帅，
申请(专利权)人：上海鸿辉光通科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31