对准装置和对准方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种使加工掩模和基板位置对准并且精度高地紧贴的技术。在使在分离的状态下进行了位置对准的加工掩模（31）和基板（32）靠近移动来紧贴时，一边进行位置对准一边进行靠近移动。因此，即使在靠近移动中产生位置对准的误差，也能够消除该误差。即使基板（32）的垂下部分与加工掩模（31）接触，也一边进行位置对准一边进一步进行靠近移动。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】对准装置和对准方法
本专利技术涉及对准技术，特别是涉及使对准时间变短的技术。
技术介绍
在半导体制造工序、液晶显示装置制造工序等需要微细加工的
中，为了形成图案化后的薄膜，进行如下的光刻工序：在加工对象物上暂时形成薄膜，使用保护膜和光掩模对该薄膜进行蚀刻来进行图案化。然而，为了蚀刻而使用的化学物质、用于剥离保护膜的化学物质在图案化对象的有机薄膜、图案化对象的薄膜形成在有机薄膜上的情况下给有机薄膜带来破坏，因此，不能采用光刻工序。因此，使用如下技术：在成膜工序之前，在成膜对象物上配置具有图案化后的贯通孔的加工掩模，使通过了贯通孔的薄膜材料的微粒子到达成膜对象物的表面，在成膜对象物表面上形成按照贯通孔的图案的薄膜。关于使用具有该贯通孔的加工掩模的工序，也与光刻工序的情况同样地，需要进行加工掩模与成膜对象物的位置对准并且在将加工掩模和成膜对象物置于预先确定的相对的位置的状态下使成膜材料微粒子通过贯通孔，为了进行位置对准，在使加工掩模和成膜对象物分离的状态下，对加工掩模的对准标记和成膜对象物的对准标记进行拍摄，检测加工掩模与成膜对象物之间的位置误差，在使所求取的误差为零的距离和方向上使加工掩模和成膜对象物相对移动。然而，即使在应使位置的误差为零的距离和方向上相对移动，当在移动后对加工掩模和成膜对象物的对准标记进行拍摄时，误差也不为零，反倒检测到必须再次进行对准的程度的大的误差。这是主要起因于使加工掩模和成膜对象物相对移动的移动装置所具有的机械的误差，当在使再次检测出的误差为零的距离和方向上相对移动之后再次检测误差时，误差仍然大的情况是常见的，如果不进行许多次数的误差检测和相对移动，则不能进行期望精度的位置对准。当进行许多次数的相对移动和误差检测时，对准所需要的时间变长。此外，由于在基板和加工掩模分离的状态下进行位置对准，所以，当想要使基板和加工掩模接近来使基板和加工掩模紧贴时，在接近中产生误差而不能在正确地位置对准了的状态下进行紧贴。本申请专利技术是为了解决上述现有技术的问题点而创作的，在于提供一种能够在短时间内高精度地使基板和加工掩模接近的技术。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2003–306761号公报；专利文献2：日本特开2011–231384号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术将提供一种在使基板和加工掩模接近之后位置对准精度也高的对准方法、对准装置作为课题。用于解决课题的方案为了解决上述课题，本专利技术是一种对准装置，具有：掩模保持装置，配置有加工掩模；基板支架，配置有加工对象物；水平移动装置，通过使所述掩模保持装置和所述基板支架的任一个或双方移动来改变所述加工掩模与所述加工对象物之间的相对的位置；靠近移动装置，进行所述掩模保持装置和所述基板支架接近的靠近移动；拍摄装置，对配置于所述掩模保持装置的所述加工掩模的掩模对准标记和配置于所述基板支架的所述加工对象物的基板对准标记一起进行拍摄，得到拍摄结果；以及控制装置，控制所述水平移动装置、所述靠近移动装置和所述拍摄装置来工作，所述控制装置求取根据所述拍摄结果得到的所述加工掩模和所述加工对象物的相对的位置与进行了位置对准的状态下的相对的位置之间的误差距离和误差方向，以使所述误差距离变小的方式使所述水平移动装置工作，其中，所述控制装置被设定为一边利用所述靠近移动装置进行所述靠近移动，一边重复进行：拍摄工序，使所述拍摄装置工作来得到所述拍摄结果；误差检测工序，根据所述拍摄结果来求取所述误差距离和所述误差方向；以及移动工序，利用所述水平移动装置以使所述误差距离变小的方式开始所述加工掩模和所述加工对象物的相对移动。本专利技术是对准装置即如下的对准装置：被设定为一边在所述加工掩模与所述加工对象物的垂下的部分接触的状态下进行所述靠近移动一边重复进行所述拍摄工序、所述误差检测工序和所述移动工序。本专利技术是对准装置即如下的对准装置：被构成为在进行所述误差检测工序之后、进行所述移动工序之前设置对相对速度进行设定的速度设定工序，在所述速度设定工序中，在稍前的所述误差检测工序中求取的所述误差距离为预先设定的主容许误差量以下时，所述相对速度被设定为零，在所述误差距离比所述主容许误差量大时，所述相对速度被设定为规定的值，所述移动工序使所述相对移动为所述相对速度。本专利技术是一种对准方法，求取使用相同的拍摄装置对加工掩模的掩模对准标记和加工对象物的基板对准标记一起进行拍摄而得到拍摄结果时的所述加工掩模和所述加工对象物的相对位置与所述加工掩模和所述加工对象物进行位置对准时的相对位置之间的误差距离和误差方向，利用水平移动装置使所述加工掩模和所述加工对象物的任一个或双方移动来使所述误差距离变小，其中，一边进行使分离的所述加工掩模与所述加工对象物之间的分离距离变短的靠近移动，一边重复进行：拍摄工序，使所述拍摄装置工作来得到所述拍摄结果；误差检测工序，根据所述拍摄结果来求取所述误差距离和所述误差方向；以及移动工序，利用所述水平移动装置以使所述误差距离变小的方式使所述加工掩模和所述加工对象物相对移动。本专利技术是对准方法，即如下的对准方法：一边在所述加工掩模与所述加工对象物的垂下的部分接触的状态下使所述加工掩模与所述加工对象物分离的部分进行所述靠近移动一边重复进行所述拍摄工序、所述误差检测工序和所述移动工序。本专利技术是对准方法，即如下的对准方法：在进行所述误差检测工序之后、进行所述移动工序之前设置对相对速度进行设定的速度设定工序，在所述速度设定工序中，在稍前的所述误差检测工序中求取的所述误差距离为预先设定的主容许误差量以下时，所述相对速度被设定为零，在所述误差距离比所述主容许误差量大时，所述相对速度被设定为规定的值，所述移动工序开始所述相对速度的所述相对移动。本专利技术是一种对准装置，具有：移动装置，通过使加工掩模和加工对象物的任一个或双方移动来改变加工掩模和加工对象物之间的相对的位置；拍摄装置，在相同的时刻对所述加工掩模的掩模对准标记和所述加工对象物的基板对准标记进行拍摄，得到拍摄结果；以及控制装置，控制所述移动装置和所述拍摄装置来工作，所述控制装置求取根据所述拍摄结果求取的所述加工掩模和所述加工对象物的相对的位置与进行了位置对准的状态的相对的位置之间的差即误差，以使所述误差变小的方式来改变所述相对的位置，其中，对将所述误差所包含的误差距离与作为所述加工掩模和所述加工对象物之间的相对的移动的速度的相对速度相关联的误差速度关系进行设定，被设定为重复进行：拍摄工序，利用所述拍摄装置来得到所述拍摄结果；求速度工序，根据由所述控制装置得到的所述拍摄结果来求取所述加工掩模与所述加工对象物之间的相对位置的所述误差距离，根据所求取的所述误差距离和所述误差速度关系来求取所述相对速度；以及移动工序，利用所述移动装置使所述加工掩模和所述加工对象物开始在所求取的所述相对速度下的相对的移动，在所述误差速度关系中设置有高精度范围，在所述高精度范围内设定有不同的所述相对速度并且与大的所述相对速度相关联的误差距离比与小的所述相对速度相关联的误差距离大。本专利技术是对准装置，即如下的对准装置：在所述误差速度关系中，在与所述高精度范围相比所述误差距离大的部分设定有将所述误差距离与相同的值的所述相对速度相关联的固定速度范围。本专利技术是本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对准装置，具有：掩模保持装置，配置有加工掩模；基板支架，配置有加工对象物；水平移动装置，通过使所述掩模保持装置和所述基板支架的任一个或双方移动来改变所述加工掩模与所述加工对象物之间的相对的位置；靠近移动装置，进行所述掩模保持装置和所述基板支架接近的靠近移动；拍摄装置，对配置于所述掩模保持装置的所述加工掩模的掩模对准标记和配置于所述基板支架的所述加工对象物的基板对准标记一起进行拍摄，得到拍摄结果；以及控制装置，控制所述水平移动装置、所述靠近移动装置和所述拍摄装置来工作，所述控制装置求取根据所述拍摄结果得到的所述加工掩模和所述加工对象物的相对的位置与进行了位置对准的状态下的相对的位置之间的误差距离和误差方向，以使所述误差距离变小的方式使所述水平移动装置工作，其中，所述控制装置被设定为一边利用所述靠近移动装置进行所述靠近移动，一边重复进行：拍摄工序，使所述拍摄装置工作来得到所述拍摄结果；误差检测工序，根据所述拍摄结果来求取所述误差距离和所述误差方向；以及移动工序，利用所述水平移动装置以使所述误差距离变小的方式开始所述加工掩模和所述加工对象物的相对移动。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.01.15 JP 2013-004357;2013.02.19 JP 2013-030481.一种对准装置，具有：掩模保持装置，配置有加工掩模；基板支架，配置有加工对象物；水平移动装置，通过使所述掩模保持装置和所述基板支架的任一个或双方移动来改变所述加工掩模与所述加工对象物之间的相对的位置；靠近移动装置，进行所述掩模保持装置和所述基板支架接近的靠近移动；拍摄装置，对配置于所述掩模保持装置的所述加工掩模的掩模对准标记和配置于所述基板支架的所述加工对象物的基板对准标记一起进行拍摄，得到拍摄结果；以及控制装置，控制所述水平移动装置、所述靠近移动装置和所述拍摄装置来工作，所述控制装置求取根据所述拍摄结果得到的所述加工掩模和所述加工对象物的相对的位置与进行了位置对准的状态下的相对的位置之间的误差距离和误差方向，以使所述误差距离变小的方式使所述水平移动装置工作，其中，所述控制装置被设定为一边利用所述靠近移动装置进行所述靠近移动，一边重复进行：拍摄工序，使所述拍摄装置工作来得到所述拍摄结果；误差检测工序，根据所述拍摄结果来求取所述误差距离和所述误差方向；以及移动工序，利用所述水平移动装置以使所述误差距离变小的方式开始所述加工掩模和所述加工对象物的相对移动。2.根据权利要求1所述的对准装置，其中，被设定为一边在所述加工掩模与所述加工对象物的垂下的部分接触的状态下进行所述靠近移动一边重复进行所述拍摄工序、所述误差检测工序和所述移动工序。3.根据权利要求1或权利要求2的任一项所述的对准装置，其中，被构成为：在进行所述误差检测工序之后、进行所述移动工序之前设置对相对速度进行设定的速度设定工序，在所述速度设定工序中，在稍前的所述误差检测工序中求取的所述误差距离为预先设定的主容许误差量以下时，所述相对速度被设定为零，在所述误差距离比所述主容许误差量大时，所述相对速度被设定为规定的值，所述移动工序使所述相对移动为所述相对速度。4.一种对准方法，求取使用相同的拍摄装置对加工掩模的掩模对准标记和加工对象物的基板对准标记一起进行拍摄而得到拍摄结果时的所述加工掩模和所述加工对象物的相对位置与所述加工掩模和所述加工对象物进行位置对准时的相对位置之间的误差距离和误差方向，利用水平移动装置使所述加工掩模和所述加工对象物的任一个或双方移动来使所述误差距离变小，其中，一边进行使分离的所述加工掩模与所述加工对象物之间的分离距离变短的靠近移动，一边重复进行：拍摄工序，使所述拍摄装置工作来得到所述拍摄结果；误差检测工序，根据所述拍摄结果来求取所述误差距离和所述误差方向；以及移动工序，利用所述水平移动装置以使所述误差距离变小的方式使所述加工掩模和所述加工对象物相对移动。5.根据权利要求4所述的对准方法，其中，一边在所述加工掩模与所述加工对象物的垂下的部分接触的状态下使所述加工掩模与所述加工对象物分离的部分进行所述靠近移动一边重复进行所述拍摄工序、所述误差检测工序和所述移动工序。6.根据权利要求4或权利要求5的任一项所述的对准方法，其中，在进行所述误差检测工序之后、进行所述移动工序之前设置对相对速度进行设定的速度设定工序，在所述速度设定工序中，在稍前的所述误差检测工序中求取的所述误差距离为预先设定的主容许误差量以下时，所述相对速度被设定为零，在所述误差距离比所述主容许误差量大时，所述相对速度被设定为规定的值，所述移动工序开始所述相对速度的所述相对移动。7.一种对准装置，具有：移动装置，通过使加工掩模和加工对象物的任一个或双方移动来改变加工掩模和加工...

【专利技术属性】
技术研发人员：木村孔，中尾裕利，柴智志，坂内雄也，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：日本;JP