小苗帽下移栽系统技术方案

技术编号:12007981 阅读:80 留言:0更新日期:2015-09-04 08:31
本实用新型专利技术提供了一种小苗帽下移栽系统,包括适用于移栽烟苗的孔穴,所述孔穴的孔径为8~10cm,深度为18~20cm,其中,所述孔穴的底部为锥形底,锥形底的深度为2~4cm;还包括罩盖于所述孔穴口的保护帽,所述保护帽的帽体的深度为8~12cm,帽体的直径为18~20cm,所述帽沿的宽度为1~2cm,还包括覆盖于所述保护帽的帽沿上的土壤。本实用新型专利技术首先将土壤打出适宜尺寸的孔穴,充分并合理地获取地热以保证移栽期间小苗生长所需要的温度条件,采用科学的保护帽结构在孔穴上方进行保温、保水和保肥,提供给小苗足够的生长空间,不需要破膜和掏苗操作,保护帽可以回收并重复利用,很好的解决了使用地膜造成的环境问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种小苗帽下移栽系统
技术介绍
为了提高土壤温度、保水保土、保肥、提高肥效,通常在地面覆盖薄膜(地膜),地膜具有护根促长等作用。但是在田地内覆盖的大量的塑料薄膜很难回收,作物收获后地膜残留在土壤中,难以降解,对土壤造成了污染和损害,尤其是随着塑化剂风波的漫延,地膜无法沉降是否会导致土壤中塑化剂含量过高而影响人们的健康的问题令人十分担忧。地膜大量应用于烟苗的栽培方面。移栽是烟草生产方面的关键环节。烟农们常把移栽列为烟草生产的五大关之一,具有重要意义。因为烟苗对温度特别敏感原因,如果是环境气温低于8℃左右时,容易造成烟苗早花,导致减收和质量下降,所以移栽过程中通常采用地膜覆盖。一般根据移栽时间要求,适时对地块进行深耕、细耙、高起垄,移栽烟苗,盖上地膜,地膜贴着土壤。当天打塘,当天移栽,当天盖膜。这种方式移栽,烟苗的生长空间非常有限,地膜很快就会妨碍烟苗生长,所以需要破膜和掏苗,在烟苗上方破一个5~6厘米的孔,将烟苗的叶子掏出来。这种操作方式比较繁琐,时间期限要求比较严格(不然容易发生烟苗贴近地膜发生烧苗),掏苗的操作又容易造成病害的传播和烟苗的损伤。烤烟“井窖”式小苗移栽是一种地膜烟苗移栽的新方式,先起垄覆盖地膜,在覆盖有地膜的垄面按规定间距打井窖,然后将烟苗放入孔中,用少量细土盖上烟苗根部基质,烟苗叶片不能伸出孔外,当烟苗的叶片完全长出孔外后,再用湿土封孔和地膜口,其它管理与常规地膜烟相同。这种方式是先将垄面和地膜同时打孔,烟苗在“井窖”中生长。只有在不打孔的土壤位置保存地膜覆盖,“井窖”的口敞开的形式不利于保温保水保肥,效果有限。事实上,破膜和掏苗后的时期大约是每年的2月底至三月初,烟苗还经常会遇到一些极端天气(霜冻和冰灾等),现有的栽培方法无法避免极端天气对烟苗的损伤,造成减收和烟叶质量下降。再者,无论是传统的膜下移栽还是“井窖”式移栽,都是使用地膜,由于地 膜很薄,经过一段时间的风吹日晒后,根本无法回收,与其他作物地膜栽培一样,无法解决的问题是地膜残留在土壤中,无法回收,难以降解,对土壤造成了污染和损害。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题在于克服现有烟苗移栽技术不足,提供一种小苗帽下移栽系统,针对性解决烟苗移栽过程中的增温抗寒问题并克服地膜覆盖造成的土壤污染缺陷,还可以适应机械作业,提高效率。本技术的上述目的通过以下技术方案予以实现:提供一种小苗帽下移栽系统,包括:ⅰ.适用于移栽烟苗的孔穴,所述孔穴的孔径为8~10cm,深度为18~20cm,其中,所述孔穴的底部为锥形底,锥形底的深度为2~4cm;ⅱ.罩盖于所述孔穴口的保护帽,所述保护帽包括具有容置腔的帽体,帽体连接帽顶和帽沿,帽体、帽顶和帽沿为一体结构,所述帽沿贴触孔穴口的边沿;所述帽体的深度为8~12cm,帽体的直径为18~20cm,所述帽沿的宽度为1~2cm。ⅲ.覆盖于所述保护帽的帽沿上的土壤。进一步地,在大田移栽中,所述小苗帽下移栽系统包括若干孔穴,所述孔穴与孔穴之间的间距(株距)为45~55cm;每一行孔穴之间的间隔(行距)为1.1~1.2m。优选地,所述孔穴的孔径为8~10cm,深度为18cm,其中锥形底的深度为2cm;优选地,所述帽体的深度为10cm,帽体的直径为20cm,所述帽沿的宽度为2cm。优选地,所述帽沿贴触孔穴口的一面设有锥钉,方便将本技术装置插入土壤固定。进一步优选地,所述帽体上设有加强筋,加强筋从帽顶延伸至帽沿,并探出帽沿形成锥钉,所述锥钉与加强筋一体化形成。所述保护帽采用透光材料制备即可。例如采用制备一次性塑料碗或水杯的材料即可。本技术同时提供所述小苗帽下移栽系统的应用,该系统可以很好地应用于烟苗移栽。应用于烟苗移栽时,包括以下步骤:S1.先将施过基肥的土壤打孔形成孔穴,孔穴的孔径为8~10cm,深度为18~20cm;S2.将培育至“五叶一芯”时的烟苗移栽至孔穴,适量填土,浇透定耕水;S3.在孔穴口罩上保护帽,用土固定所述保护帽的帽沿;S4.烟苗生长至其顶端的叶片即将接触保护帽的顶部时取走保护帽,期间不需要施肥和浇水,然后,用土填平孔穴,按照常规方法培育烟株。本技术的有益效果如下:本技术提供了一种小苗帽下移栽系统,首先将土壤打出适宜尺寸的孔穴,将小苗移栽入孔穴中,充分并合理地获取地热以保证移栽期间小苗生长所需要的温度条件,过深或过浅效果都不佳。孔穴的底部设计为锥形,这样也便于填土时固定小苗并保护小苗的根部,尤其是烟苗。在孔穴上方进行保温、保水的现有措施是覆盖地膜。但是地膜的使用首先是限制了小苗的生长空间,在很短的时间内,小苗的叶片就会接触地膜造成灼伤,需要及时破膜和掏苗,而破膜和掏苗容易造成小苗的损伤和认为病害传播,而且掏出地膜之外的小苗无法抵御寒冷、干旱以及其他极端天气,尤其是冰灾、霜冻等天气,仍然容易导致小苗死亡、早花以及影响生产质量;其次,地膜的质地比较轻薄,经过一段时间的使用和破膜操作后,非常残破,无法回收,残留在土壤中难以降解,造成严重的环境污染问题。本系统采用保护帽结构进行保温、保水和防止肥料流失,提供给小苗足够的生长空间,不需要破膜和掏苗操作。保护帽可以回收并重复利用,很好的解决了使用地膜造成的环境问题。本系统精确设计的整体尺寸规格,包括孔穴和保护帽所构成的空间可以保证小苗移栽后比现有的地膜移栽方法多出生长时间约20天左右,以烟苗为例,可以保证移栽的烟苗从“五叶一芯”开始成长至当烟苗顶端的叶片即将接触到帽顶时,正好是气温回暖时节,期间不需要施肥和浇水,揭开保护帽后与回暖的气候和烟苗“出罩”的生长时期无缝对接,揭开所述保护帽即可,经济适用。附图说明图1本技术系统结构示意图。图2本技术系统。图3本技术系统中保护帽的结构示意图。具体实施方式以下结合附图对本技术的实施例进行详细说明,但是本技术可以由基于本技术设计思想覆盖的多种不同方式实施。本技术实施例附图仅用于示例性说明,不能理解为对本技术的限制。对于本领域技术人员来说,附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。实施例1现有技术使用的地膜无法回收污染土壤和环境。为了提高土壤温度、保水保土、保肥、提高肥效,通常在地面覆盖薄膜,地膜通常是透明或黑色PE薄膜,也有绿、银色薄膜。对于刚出土的幼苗来说,具有护根促长等作用。但是地膜种植在田地内覆盖大量的塑料薄膜,作物收获后地膜残留在土壤中,难以回收,也难以降解,与土壤混为一体,这样的土壤种作物都会影响植物根系的生长和吸收养分,并且对土壤造成了污染和损害,尤其是随着塑化剂风波的漫延,地膜无法沉降是否会导致土壤中塑化剂含量过高而影响人们的健康仍在检测,令人担忧。因为烟苗对温度特别敏感原因,移栽过程中通常采用地膜覆盖,同样存在上述问题。不仅如此,贴紧土壤表层覆盖的地膜不能给予烟苗足够的生长空间,很容易造成烧苗,即使是采用“井窖”式移栽,也需要本文档来自技高网
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小苗帽下移栽系统

【技术保护点】
一种小苗帽下移栽系统,其特征在于,包括:ⅰ.适用于移栽烟苗的孔穴,所述孔穴的孔径为8~10cm,深度为18~20cm,其中,所述孔穴的底部为锥形底,锥形底的深度为2~4cm;ⅱ.罩盖于所述孔穴口的保护帽,所述保护帽包括具有容置腔的帽体,帽体连接帽顶和帽沿,帽体、帽顶和帽沿为一体结构,所述帽沿贴触孔穴口的边沿;所述帽体的深度为8~12cm,帽体的直径为18~20cm,所述帽沿的宽度为1~2cm;ⅲ.覆盖于所述保护帽的帽沿上的土壤。

【技术特征摘要】
1.一种小苗帽下移栽系统,其特征在于,包括:
ⅰ.适用于移栽烟苗的孔穴,所述孔穴的孔径为8~10cm,深度为18~20cm,其中,所述孔穴的底部为锥形底,锥形底的深度为2~4cm;
ⅱ.罩盖于所述孔穴口的保护帽,所述保护帽包括具有容置腔的帽体,帽体连接帽顶和帽沿,帽体、帽顶和帽沿为一体结构,所述帽沿贴触孔穴口的边沿;所述帽体的深度为8~12cm,帽体的直径为18~20cm,所述帽沿的宽度为1~2cm;
ⅲ.覆盖于所述保护帽的帽沿上的土壤。
2.根据权利要求1所述小苗帽下移栽系统,其特征在于,所述小苗帽下移栽系统包括若干孔穴,所述孔穴与孔穴之间的间距为 ...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈建军邓世媛李淮源郭宁王晓宾许冬梅谢俊喜陈泽鹏
申请(专利权)人:中国烟草总公司广东省公司华南农业大学广东烟草韶关市有限公司南雄市分公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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